【技术实现步骤摘要】
一种三维存储器及其制作方法
[0001]本申请为申请日为2020年12月25日、申请号为202011568066.2、申请名称为“一种三维存储器及其制作方法”的中国专利技术专利申请的分案申请。
[0002]本专利技术属于半导体集成电路
,涉及一种三维存储器及其制作方法。
技术介绍
[0003]随着平面型闪存存储器的发展,半导体的生产工艺取得了巨大的进步。但是最近几年,平面型闪存的发展遇到了各种挑战:物理极限、现有显影技术极限以及存储电子密度极限等。在此背景下,为解决平面闪存遇到的困难以及追求更低的单位存储单元的生产成本,各种不同的三维(3D)闪存存储器结构应运而生,例如3D NOR(3D或非)闪存和3D NAND(3D与非)闪存。其中,3D NAND存储器以其小体积、大容量为出发点,将储存单元采用三维模式层层堆叠的高度集成为设计理念,生产出高单位面积存储密度,高效存储单元性能的存储器,已经成为新兴存储器设计和生产的主流工艺。
[0004]通常三维存储器划分为多个存储区块(Block),每个区块中具有多个指状结构(finger)。对于具有挡墙结构(great wall)的指状结构,由于底部选择栅上方挡墙结构的遮挡,底部选择栅(BSG)的引出变得很困难,特别是多层底部选择栅的情况(例如7层台阶)。为了引出具有挡墙结构的指状结构的底部选择栅,当前的设计包括在相邻的不具有挡墙结构的指状结构中设置底部选择栅切口(BSG CUT),以将该指状结构划分为不同区域,其中一个区域用来引出具有挡墙结构的指状结构的底 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种三维存储器,其特征在于,包括:堆叠结构,包括第一叠层结构及位于所述第一叠层结构上方的第二叠层结构,所述第一叠层结构包括交替堆叠设置的底部选择栅层和第一隔离层,所述第二叠层结构包括交替堆叠设置的栅极层和第二隔离层;所述堆叠结构划分为多个存储区块,所述存储区块在第一方向上划分为第一字线连接区和第二字线连接区,所述存储区块包括挡墙结构以及位于所述挡墙结构一侧的阶梯结构,所述阶梯结构包括沿所述第一方向设置的第一阶梯结构和第四阶梯结构;沿所述第一方向延伸的栅线缝隙结构,所述栅线缝隙结构将所述存储区块沿与所述第一方向垂直的第二方向划分为第一指状结构和第二指状结构,所述栅线缝隙结构包括多个间隔设置的子栅线缝隙,所述子栅线缝隙贯穿所述第一叠层结构;所述挡墙结构包括多层所述底部选择栅层及多层所述栅极层,所述挡墙结构自所述第一指状结构的所述第一字线连接区延伸至所述第一指状结构的所述第二字线连接区;多个第一触点结构,分布于所述第一阶梯结构及所述第四阶梯结构的台阶上,并与所述底部选择栅层连接。2.根据权利要求1所述的三维存储器,其特征在于:还包括多个绝缘隔断结构,所述绝缘隔断结构贯穿所述第一叠层结构,并连接位于所述第一阶梯结构和所述第四阶梯结构中相邻的所述子栅线缝隙。3.根据权利要求2所述的三维存储器,其特征在于:所述绝缘隔断结构包括底部选择栅切口结构或虚设沟道孔。4.根据权利要求1所述的三维存储器,其特征在于:所述阶梯结构还包括位于所述第一阶梯结构和所述第四阶梯结构之间的第二阶梯结构和第三阶梯结构,所述三维存储器还包括第二触点结构,所述第二触点结构分布于所述第二阶梯结构或所述第三阶梯结构的台阶上,并与所述第一指状结构中的所述底部选择栅层连接。5.根据权利要求1所述的三维存储器,其特征在于:包括两个挡墙结构,且在所述第二方向上所述阶梯结构位于两个所述挡墙结构之间。6.根据权利要求1所述的三维存储器,其特征在于:在所述第一阶梯结构向所述第四阶梯结构延伸的方向,所述第一阶梯结构的台阶依次降低,所述第四阶梯结构的台阶依次升高。7.根据权利要求1所述的三维存储器,其特征在于:所述阶梯结构位于所述第二指状结构中,所述第一触点结构与所述第二指状结构的所述底部选择栅层连接。8.根据权利要求1所述的三维存储器,其特征在于:所述存储区块还包括第三指状结构,所述第一指状结构、第二指状结构和第三指状结构沿所述第二方向排列设置。9.根据权利要求8所述的三维存储器,其特征在于:所述三维存储器还包括第三触点结构,所述第三触点结构分布于所述第一阶梯结构及所述第四阶梯结构的台阶上,并与所述第三指状结构中的所述底部选择栅层连接。10.根据权利要求1所述的三维存储器,其特征在于:还包括主栅线缝隙,所述主栅线缝隙将所述堆叠结构划分为多个所述存储区块。11.一种三维存储器,其特征在于,包括:堆叠结构,包括第一叠层结构及位于所述第一叠层结构上方的第二叠层结构,所述第
一叠层结构包括交替堆叠设置的底部选择栅层和第一隔离层,所述第二叠层结构包括交替堆叠设置的栅极层和第二隔离层,其中远离所述第一叠层结构的至少一所述栅极层作为顶部选择栅层;所述堆叠结构划分为多个存储区块,所述存储区块在第一方向上划分为第一顶部选择栅连接区、第一字线连接区、第二字线连接区、第二...
【专利技术属性】
技术研发人员:张中,
申请(专利权)人:长江存储科技有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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