【技术实现步骤摘要】
一种四氟化碳杂质分析检测仪
[0001]本专利技术涉及四氟化碳检测
,更具体地说,本专利技术涉及一种四氟化碳杂质分析检测仪。
技术介绍
[0002]四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用,对高纯度的四氟化碳中杂质通过气相色谱仪进行检测,气相色谱仪在使用过程中会排出灼热气体,会灼伤检测人员,具有一定的安全隐患。因此,有必要提出一种四氟化碳杂质分析检测仪,以至少部分地解决现有技术中存在的问题。
技术实现思路
[0003]在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念,这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本专利技术的
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征,更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。
[0004]为至少 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种四氟化碳杂质分析检测仪,其特征在于,包括:壳体(1),所述壳体(1)内设有安装腔(12),所述安装腔(12)内壁上设有色谱仪本体(2)和若干进气孔(3),壳体(1)的外壁上设有气体处理装置(4)。2.根据权利要求1所述的一种四氟化碳杂质分析检测仪,其特征在于,所述壳体(1)上设有调节按钮(6)和显示屏(5),所述调节按钮(6)和显示屏(5)均与所述色谱仪本体(2)电连接。3.根据权利要求1所述的一种四氟化碳杂质分析检测仪,其特征在于,所述进气孔(3)内设有防尘网(7)。4.根据权利要求1所述的一种四氟化碳杂质分析检测仪,其特征在于,所述气体处理装置(4)包括:排气孔(9),所述排气孔(9)设于所述壳体(1)上;集气罩(10),所述集气罩(10)设于所述壳体(1)上,所述排气孔(9)位于所述集气罩(10)内;抽风机(8),所述抽风机(8)设于所述集气罩(10)上,所述抽风机(8)的进气口与所述集气罩(10)连通;软管(11),所述软管(11)与抽风机(8)的出气口连通。5.根据权利要求4所述的一种四氟化碳杂质分析检测仪,其特征在于,所述集气罩(10)为漏斗形。6.根据权利要求1所述的一种四氟化碳杂质分析检测仪,其特征在于,所述壳体(1)上对称设有两个检修装置(13),所述检修装置(13)包括:放置板(21),所述放置板(21)滑动连接于所述安装腔(12)的内壁上,所述色谱仪本体(2)设于所述放置板(21)顶端;伸缩杆(22),所述放置板(22)底端与所述安装腔(12)的内壁之间均匀设有若干所述伸缩杆(22);第一弹簧(23),所述第一弹簧(23)套接于所述伸缩杆(22)上;固定装置,所述放置板(21)上对称设有两个所述固定装置。7.根据权利要求6所述的一种四氟化碳杂质分析检测仪,其特征在于,所述检修装置(13)还包括:双轴电机(15),所述双轴电机(15)设于通过固定块(14)设于所述壳体(1)的外壁上;第一转动杆(16),所述第一转...
【专利技术属性】
技术研发人员:牛艳东,王兆赟,
申请(专利权)人:北京高麦克仪器科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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