本发明专利技术涉及涂胶机清洗设备技术领域，具体公开了一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，包括：喷胶头、监测器、清洗剂喷头、氮气管路和挡板；本发明专利技术的有益效果是：所述喷胶头的一侧安装有监测器，所述喷胶头的另一侧依次安装有清洗剂喷头和氮气管路，所述喷胶头远离所述清洗剂喷头的一侧安装有挡板，通过监测器可实时检测喷胶头处是否存在残留的光刻胶，可省去人工检查的步骤，提高产线自动化，提高工作效率，通过自动清洗装置以及自动吹干装置的配合，可快速清除喷胶头上的残胶，大大降低因涂胶异常而造成的晶圆返工率，提高产线的良率的同时，也大大降低了产线的运行成本。大大降低了产线的运行成本。大大降低了产线的运行成本。
【技术实现步骤摘要】
一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置
[0001]本专利技术属于涂胶机清洗设备
，具体涉及一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置。
技术介绍
[0002]在半导体行业中，涂胶是一道极为常见的工序，涂胶直接影响着光刻胶的厚度、均匀性等参数，对光刻的质量有很大的影响，目前市场上的涂胶机存在一个通病，在涂胶机进行涂胶结束后，少量光刻胶会残留在喷头处，经过长时间的积累，喷头上的光刻胶越积越多且随着时间推移而凝固，若喷头上的光刻胶凝固后再进行涂胶则会出现胶柱倾斜的现象，使光刻胶无法均匀涂在晶圆表面，导致涂胶后晶圆各区域胶厚不均匀，严重影响涂胶良率，因此需在每次涂胶作业前检查喷头处光刻胶是否凝固，若发生光刻胶凝固则需进行处理，该操作需人为处理极为不便，费时费力，严重影响产线的产能。
[0003]在公开号为CN104941876A的中国专利中，提到了一种涂胶机胶头的清洁设备，包括壳体、清洁装置和控制模块，壳体内部形成废液容腔，且壳体上形成有与废液容腔连通以用于放置涂胶机胶头的清洗通道；清洁装置包括采用清洗液对胶头进行清洗的清洗模块和采用干燥气体对胶头进行干燥的干燥模块，清洗模块和干燥模块安装于壳体，控制模块与清洗模块以及干燥模块信号连接以控制清洁模块和干燥模块工作或停止。该涂胶机胶头清洁设备可在不与胶头直接接触的情况下对胶头进行清洁，避免了采用人工操作直接接触的清洁方式带来的胶头变形和磨损问题，保证了胶头的正常使用寿命，避免了因胶头使用寿命减少带来的液晶显示面板产品的生产成本增加和生产效率下降问题，尽管上述方案有益效果诸多，但是该方案中无法及时检测喷胶头上是否留存有光刻胶，因此在处理时，需要人工检测，然后开始清洁，其自动化程度低，需要进行改进。
[0004]对此专利技术人提出一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，用以解决上述问题。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，以解决现有技术中无法及时检测喷胶头上是否留存有光刻胶，因此在处理时，需要人工检测，然后开始清洁，其自动化程度低，需要进行改进的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0007]一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，包括喷胶头，所述喷胶头的一侧安装有监测器，所述喷胶头的另一侧依次安装有清洗剂喷头和氮气管路。
[0008]优选的，所述喷胶头远离所述清洗剂喷头的一侧安装有挡板。
[0009]优选的，所述监测器、所述喷胶头和所述清洗剂喷头在垂直方向投影处于非一条直线上。
[0010]优选的，所述清洗剂喷头的管路上安装有电磁阀一，所述氮气管路上安装有电磁阀二。
[0011]优选的，所述电磁阀一、所述电磁阀二与所述监测器电连接。
[0012]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0013](1)本专利技术通过监测器可实时检测喷胶头处是否存在残留的光刻胶，可省去人工检查的步骤，提高产线自动化，提高工作效率。
[0014](2)本专利技术通过自动清洗装置以及自动吹干装置的配合，可快速清除喷胶头上的残胶，大大降低因涂胶异常而造成的晶圆返工率，提高产线的良率的同时，也大大降低了产线的运行成本。
附图说明
[0015]图1为本专利技术的立体图之一；
[0016]图2为本专利技术的立体图之二；
[0017]图3为本专利技术的工作流程图；
[0018]图中：1、喷胶头；2、监测器；3、清洗剂喷头；4、氮气管路；5、挡板。
具体实施方式
[0019]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0020]实施例一：
[0021]请参阅图1至图3所示，一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，包括喷胶头1，其特征在于，所述喷胶头1的一侧安装有监测器2，所述喷胶头1的另一侧依次安装有清洗剂喷头3和氮气管路4。
[0022]所述喷胶头1远离所述清洗剂喷头3的一侧安装有挡板5。
[0023]所述监测器2、所述喷胶头1和所述清洗剂喷头3在垂直方向投影处于非一条直线上。
[0024]所述清洗剂喷头3的管路上安装有电磁阀一，所述氮气管路4上安装有电磁阀二。
[0025]所述电磁阀一、所述电磁阀二与所述监测器2电连接。
[0026]由上可知，工作人员在进行使用时，步骤一：监测器2向喷胶头1发出激光，该激光用于检测喷胶头1处是否存在光刻胶残留，若存在光刻胶残留，则开启清洗剂喷头3的管路上的电磁阀一，进入步骤二；
[0027]步骤二：激光受到阻挡则开始自动清洁喷胶头1，此时清洗剂喷头3会喷出清洗剂，清洗剂为某种特殊溶剂，作用为溶解喷胶头1处的光刻胶，其中挡板5的作用是防止清洗剂溅射到设备其他部位，清洗结束后，清洗剂喷头3自动关闭，随后自动开启电磁阀二，进入步骤三；
[0028]步骤三：氮气管路4自动打开，氮气的作用为快速吹干清洗后喷胶头1，随后进入步骤四；
[0029]步骤四：吹干过后监测器2再次进行检测，若检测喷胶头1上仍有残胶，则返回步骤二，否则进入步骤五；
[0030]步骤五：喷胶头1进行自动预喷，预喷结束后开始涂胶作业，其中预喷的作用为将喷头处一小段不可用的光刻胶排出，防止该段光刻胶影响涂胶质量。
[0031]尽管已经示出和描述了本专利技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本专利技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本专利技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，包括喷胶头(1)，其特征在于，所述喷胶头(1)的一侧安装有监测器(2)，所述喷胶头(1)的另一侧依次安装有清洗剂喷头(3)和氮气管路(4)。2.根据权利要求1所述的一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，其特征在于：所述喷胶头(1)远离所述清洗剂喷头(3)的一侧安装有挡板(5)。3.根据权利要求1所述的一种涂胶机喷胶头自动清洁的装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：王小周，邓宇，李京波，
申请(专利权)人：浙江芯科半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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