印网掩模、图案模具、人造大理石的制造方法及人造大理石技术

本发明专利技术涉及一种人造大理石及人造大理石的制造方法。此外，本发明专利技术涉及一种用于制造人工大理石的印网掩模和图案模具。工大理石的印网掩模和图案模具。工大理石的印网掩模和图案模具。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】印网掩模、图案模具、人造大理石的制造方法及人造大理石


[0001]本申请要求获得2020年12月22日在韩国知识产权局提交的第10
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2020
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0181400号韩国专利申请的优先权和利益，该申请的全部内容通过引用并入本文。
[0002]本专利技术涉及一种印网掩模、图案模具、使用该印网掩模和图案模具的人造大理石的制造方法及人造大理石。

技术介绍

[0003]工程石材是人造大理石，也称为E
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stone，是一种室内设计材料，其纹理和感觉与天然石材相似。在工业界，已经进行了研究，通过改进人造大理石的显色、形状等来提高审美感。例如，韩国专利第10
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1270415号披露了一种使用大理石碎片的具有各种图案和外观的人造大理石。室内地板、墙面装饰和厨房台面对工程石材的需求逐渐增加，大多数产品模仿天然石种，例如花岗岩和大理石。
[0004]然而，在最近的室内设计市场上，人们对具有尖锐纹理图案的天然石材，如石英石的兴趣正在逐渐增加。对这一趋势的反应是，E
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stone工业也在大力推行天然石材的设计。
[0005]然而，以目前的E
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stone生产技术实现天然石料的设计并不容易。在现有的E
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stone生产过程中，通过在基底成分的表面上喷涂颜料来表达流动图案，或者通过用刀等去除基底成分的某些部分，然后用其他原料填充来表达图案。然而，这种方法与实际的天然石材相比，会产生很大的差异感。/>
技术实现思路

[0006]技术问题
[0007]本专利技术的目的是提供一种人造大理石以及制造该人造大理石的方法，该人造大理石在图案区域与基底区域以及宽条纹区之间具有清晰的边界。
[0008]本专利技术的另一目的是提供一种在人造大理石的制造方法中使用的印网掩模和图案模具。
[0009]技术方案
[0010]为了实现上述目的，本专利技术的示例性实施方案提供一种工程石材人造大理石，包括基底以及设置在所述基底中的图案，其中所述图案包括纹理图案，所述人造大理石的表面中的存在最多所述纹理图案的表面上，所述纹理图案的50％或更多具有5mm至50mm的宽度，并且其中在与所述人造大理石的板面垂直的方向的截面中所述纹理图案的包括最大厚度的截面中，所述纹理图案的厚度为所述人造大理石的总厚度的10％或更多的所述纹理图案的面积为整个图案的面积的50％或更多。
[0011]本专利技术的示例性实施例提供一种工程石材人造大理石，包括基底以及设置在所述基底中的图案，其中所述图案包括纹理图案，并且其中当在所述人造大理石的表面中存在最多所述纹理图案的表面上任意的方形区域被均等分为20
×
20个表面，然后绘制沿宽度方向穿越所述纹理图案且两端位于所述基底上的直线，或者如果无法绘制两端位于所述基底
上的直线，则绘制一端位于所述基底上而另一端位于所述纹理图案上的直线，在方形区域中，具有在沿所述直线测量的灰度值的5区间移动平均值的图上具有两个或更多个峰的纹理图案的分割面的面积小于除只存在所述纹理图案或只存在所述基底的分割面以外的面积的30％。
[0012]本专利技术的另一示例性实施例提供一种工程石材人造大理石，包括在表面上通过第一分布形成的第一区域以及在所述第一分布之后通过第二分布形成的第二区域，其中所述第一区域和所述第二区域的成分彼此不同，并且所述第一区域和所述第二区域基本上不混合。
[0013]本专利技术的又一示例性实施例提供一种包括平板部以及一个或多个开口的印网掩模。
[0014]然而，本专利技术的又一实施例提供一种包括凹部以及一个或多个凸部的图案模具，其中所述凸部与印网掩模的开口对应，并可插入到所述开口中。
[0015]本专利技术的又一示例性实施例提供一种人造大理石的制造方法，包括：将基底成分模制到模具中；将印网掩模和图案模具置于所述基底成分上，所述印网掩模包括平板部以及一个或多个开口，所述图案模具包括凹部以及一个或多个凸部，所述凸部与所述印网掩模的开口对应并可插入到所述开口中；按压所述图案模具以压缩所述基底成分；移除所述图案模具以在所述基底成分中形成一个或多个凹槽；将图案形成成分放入所述凹槽中并移除所述印网掩模；通过在对所述成分施加真空和振动的同时在所述模具中压缩所述成分来制造人造大理石平板；以及在固化前对所述人造大理石平板施加热量，并固化人造大理石平板。
[0016]本专利技术的另一示例性实施例提供一种人造大理石，所述人造大理石包括图案区域以及基底区域，并通过根据上述实施例的人造大理石的制造方法制造。
[0017]有益效果
[0018]使用本专利技术的印网掩模和图案模具制造的人造大理石包括图案区域和基底区域，并且图案区域与基底区域之间的边界是清晰的，图案区域的宽度宽。
附图说明
[0019]图1示出本专利技术的一种印网掩模200的一部分的截面；
[0020]图2示出本专利技术的一种图案模具100的一部分的截面；
[0021]图3是示出图案模具100堆叠在印网掩模200上且图案模具的凸部插入到印网掩模的开口的剖视图；
[0022]图4是示出本专利技术的图案模具的一个示例的照片；
[0023]图5是示出本专利技术的印网掩模的一个示例的照片；
[0024]图6示出通过使用本专利技术的印网掩模和图案模具制造人造大理石的工序；
[0025]图7示出比较例2中使用的嵌入模具；
[0026]图8示出通过使用比较例2的嵌入模具制造人造大理石的工序；
[0027]图9示出比较例1的人造大理石样品的制造过程；
[0028]图10示出实施例1的人造大理石样品的制造过程；
[0029]图11是在实施例1的人造大理石的表面上的纹理图案中测得的灰度值的5区间移
动平均值的图；
[0030]图12是在对照区的人造大理石的表面上的纹理图案中测得的灰度值的5区间移动平均值的图；
[0031]图13和图14示出测量灰度值以分别得出图11和图12的结果的过程；
[0032]图15示出实施例1的人造大理石的表面上的纹理图案的宽度(W)、长度(L)和中心线(C)；
[0033]图16示出测量实施例1的人造大理石的纹理图案的厚度的示例；
[0034]图17示出在实施例1(左图)和比较例3(右图)中制造的人造大理石的顶表面照片；
[0035]图18示出在图17的照片中用短虚线表示的与基底具有清晰边界的部分以及用长虚线表示的具有无序边界的部分；
[0036]图19示出图17的照片的20x20分割面；
[0037]图20示出图19中除仅存在基底或纹理图案的分割面之外的有效分割面上绘制的虚拟线；
[0038]图21是沿图20中分割面A、B、C和D的虚拟直线测量的灰度值的5区间移动平均值的图；
[0039]图22用1标示在图20中的有效分割面中的如上文所述出现两个或更多个峰值本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种工程石材人造大理石，包括基底以及设置在所述基底中的图案，其中，所述图案包括纹理图案，在所述人造大理石的表面中的存在最多所述纹理图案的表面上，所述纹理图案的50％以上具有5mm至50mm的宽度，并且其中，在与所述人造大理石的板面垂直的方向的截面中的所述纹理图案的包括最大厚度的截面中，所述纹理图案的厚度为所述人造大理石的总厚度的10％以上的所述纹理图案的面积为整个图案的面积的50％以上。2.根据权利要求1所述的工程石材人造大理石，其中，在所述人造大理石的表面中存在最多所述纹理图案的表面上，所述纹理图案的80％以上具有5mm至50mm的宽度。3.根据权利要求1所述的工程石材人造大理石，其中，在所述人造大理石的表面中存在最多所述纹理图案的表面上，所述纹理图案的80％以上具有5mm至20mm的宽度。4.根据权利要求1所述的工程石材人造大理石，其中，在所述人造大理石的表面中存在最多所述纹理图案的表面包括具有连续长度为50mm以上的纹理图案。5.根据权利要求1所述的工程石材人造大理石，其中，在与所述人造大理石的板面垂直的方向的截面中的包括所述纹理图案的最大厚度的截面中，所述纹理图案的厚度为所述人造大理石的总厚度的30％以上的所述纹理图案的面积是整个图案的面积的50％以上。6.根据权利要求1所述的工程石材人造大理石，其中，所述基底与所述纹理图案大体上不混合。7.一种工程石材人造大理石，包括基底以及设置在所述基底中的图案，其中，所述图案包括纹理图案，并且其中，当在所述人造大理石的表面中存在最多所述纹理图案的表面上任意的方形区域被均等分为20
×
20个表面，然后绘制沿宽度方向穿越所述纹理图案且两端位于所述基底上的直线，或者如果无法绘制两端都位于所述基底上的直线，则绘制一端位于所述基底上而另一端位于所述纹理图案上的直线，在所述方形区域中，具有在沿所述直线测量的灰度值的5区间移动平均值的图上具有两个以上峰的纹理图案的分割面的面积小于除只存在所述纹理图案或只存在所述基底的分割面以外的面积的30％。8.一种工程石材人造大理石，包括：第一区域，所述第一区域在表面上以第一分布形成；以及第二区域，所述第二区域在所述第一分布之后以第二分布形成，其中，所述第一区域和所述第二区域的成分彼此不同，并且所述第一区域和所述第二区域大体上不混合。9.根据权利要求8所述的工程石材人造大理石，其中，所述成分包括所述第一区域和所述第二区域中包含的化合物的类型、颗粒的大小、组成颗粒的分布、添加剂、色度或色彩感中的至少一种。10.一种印网掩模，包括平板部以及一个以上开口。11.根据权利要求10所述的印网掩模，还包括突起，所述突起从每个所述开口的边缘沿所...

【专利技术属性】
技术研发人员：金艺赞，金东熙，徐俊荣，具本虎，赵烘宽，
申请(专利权)人：乐尔幸华奥斯株式会社，
类型：发明
国别省市：