一种光固化有机硅背涂材料及其制备方法、热转印碳带背涂层及其制备方法、热转印碳带技术

本发明专利技术属于背涂材料技术领域，具体涉及一种光固化有机硅背涂材料及其制备方法、热转印碳带背涂层及其制备方法、热转印碳带。本发明专利技术提供的光固化有机硅背涂材料，包括以下质量百分含量的制备原料：5～20％含丙烯酸基类物质、40～70％环氧树脂、5～20％稀释剂、1～8％自由基光引发剂、0.1～0.8％阳离子光引发剂。本发明专利技术提供的有机硅背涂材料制备热转印碳带背涂层时，可直接采用光固化，避免了有机溶剂的大量挥发造成的环境污染。量挥发造成的环境污染。

【技术实现步骤摘要】
一种光固化有机硅背涂材料及其制备方法、热转印碳带背涂层及其制备方法、热转印碳带


[0001]本专利技术属于背涂材料
，具体涉及一种光固化有机硅背涂材料及其制备方法、热转印碳带背涂层及其制备方法、热转印碳带。

技术介绍

[0002]有机硅背涂材料是一种是随自动识别技术发展起来的新型热转印碳带背涂打印材料，其可以解决传统热转印条码碳带背涂层存在的耐热性能差和附着力低等问题，同时可更好的满足国内热转印条码碳带的市场需求问题。
[0003]中国专利CN201910669619.4《有机硅改性丙烯酸酯乳液及其制备方法、热转印背涂液、热转印碳带背涂层及碳带》，公开了一种由有机硅改性丙烯酸酯乳液稀释得到的碳带背涂材料，通过将丙烯酸酯单体和有机硅改性丙烯酸酯单体溶解于有机溶剂中，加入引发剂，从而使两种单体发生聚合反应，以获得有机硅改性丙烯酸酯乳液，再将乳液稀释，最终获得所需碳带背涂液。中国专利CN201810674167.4《一种离子液体改性型条码碳带背涂层涂料及其制备方法》公开了一种离子液体改性型条码碳带背涂层涂料，通过将硅烷偶联剂单体，有机硅和有机溶剂在反应釜中进行回流反应，再向其中滴加由丙烯酸酯类单体、含双键的离子液体、催化剂以及有机溶剂的混合添加料，从而获得成品背涂层涂料。
[0004]当利用上述提到的热转印背涂液制备热转印碳带背涂层时，需要将热转印背涂液涂覆于热转印碳带基材后进行干燥，促使有机溶剂挥发固化，污染环境。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种光固化有机硅背涂材料及其制备方法、热转印碳带背涂层及其制备方法、热转印碳带，本专利技术提供的有机硅背涂材料制备热转印碳带背涂层时，可直接采用光固化，且避免了有机溶剂的大量挥发造成的环境污染。
[0006]为了实现以上目的，本专利技术提供了一种光固化有机硅背涂材料，包括以下质量百分含量的制备原料：5～20％含丙烯酸基类物质、40～70％环氧树脂、5～20％稀释剂、1～8％自由基光引发剂、0.1～0.8％阳离子光引发剂。
[0007]优选地，所述含丙烯酸基类物质包括丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸酯和丙烯酸树脂中的一种或几种。
[0008]优选地，所述环氧树脂的重均分子量为4000～10000。
[0009]优选地，所述稀释剂包括乙烯基乙二醇醚、二乙烯基乙二醇醚、乙烯基三乙氧基硅烷和三乙二醇二乙烯基醚中的一种或几种。
[0010]优选地，所述自由基光引发剂包括苯甲酰甲酸甲酯、安息香双甲醚、2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基
‑1‑
丙酮、1
‑
羟基环己基苯基甲酮和2
‑
甲基
‑1‑
(4
‑
甲硫基苯基)
‑2‑
吗啉基
‑1‑
丙酮中的一种或几种。
[0011]优选地，所述阳离子光引发剂包括重氮盐、二芳基碘鎓盐、三芳基碘鎓盐、烷基硫
鎓盐、铁芳烃盐、磺酰氧基酮和三芳基硅氧醚中的一种或几种。
[0012]本专利技术还提供了上述技术方案所述光固化有机硅背涂材料的制备方法，包括以下步骤：将含丙烯酸基类物质、环氧树脂、稀释剂、自由基光引发剂和阳离子光引发剂混合，得到所述光固化有机硅背涂材料。
[0013]本专利技术还提供了一种热转印碳带背涂层，所述热转印碳带背涂层的材质为上述所述的光固化有机硅背涂材料。
[0014]本专利技术还提供了一种热转印碳带背涂层的制备方法，包括以下步骤：
[0015]将光固化有机硅背涂材料进行光固化，得到热转印碳带背涂层；
[0016]所述光固化有机硅背涂材料为所述的光固化有机硅背涂材料。
[0017]本专利技术还提供了一种热转印碳带，包括热转印碳带基材和涂覆于热转印碳带基材一侧的热转印碳带背涂层；所述热转印碳带背涂层为所述的热转印碳带背涂层。
[0018]本专利技术提供了一种光固化有机硅背涂材料，包括以下质量百分含量的制备原料：5～20％含丙烯酸基类物质、40～70％环氧树脂、5～20％稀释剂、1～8％自由基光引发剂、0.1～0.8％阳离子光引发剂。本专利技术提供的光固化有机硅背涂材料在制备热转印碳带背涂层时，直接采用光固化，在紫外汞灯的照射下，光引发剂释放阳离子或自由基，引发含丙烯酸基类物质、环氧树脂和稀释剂完成聚合反应，达到固化的目的，避免了有机溶剂的大量挥发造成的环境污染。
[0019]进一步地，本专利技术的固化有机硅背涂材料的固化过程效率高，周期短，相比于现有技术的烘干固化，较大缩小了固化所需热能。
具体实施方式
[0020]本专利技术提供了一种光固化有机硅背涂材料，包括以下质量百分含量的制备原料：5～20％含丙烯酸基类物质、40～70％环氧树脂、5～20％稀释剂、1～8％自由基光引发剂、0.1～0.8％阳离子光引发剂。
[0021]在本专利技术中，所述光固化有机硅背涂材料，以质量百分含量计，包括5～20％含丙烯酸基类物质，更优选为10～20％。在本专利技术中，所述含丙烯酸基类物质优选包括丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸酯和丙烯酸树脂中的一种或几种，更优选为丙烯酸。
[0022]在本专利技术中，所述光固化有机硅背涂材料，以质量百分含量计，包括40～70％环氧树脂，更优选为50～60％环氧树脂。在本专利技术中，所述环氧树脂的重均分子量优选为4000～10000，更优选为5000～8000。在本专利技术中，所述环氧树脂优选包括环氧树脂E
‑
56D、环氧树脂E
‑
54、环氧树脂E
‑
44和环氧树脂E
‑
52D中的一种或几种，更优选为环氧树脂E
‑
54或环氧树脂E
‑
52D。
[0023]在本专利技术中，所述光固化有机硅背涂材料，以质量百分含量计，包括5～20％稀释剂，更优选为10～20％。在本专利技术中，所述稀释剂优选包括乙烯基乙二醇醚、二乙烯基乙二醇醚、乙烯基三乙氧基硅烷和三乙二醇二乙烯基醚中的一种或几种，更优选为乙烯基乙二醇醚。
[0024]在本专利技术中，所述光固化有机硅背涂材料，以质量百分含量计，包括1～8％自由基光引发剂，更优选为2～5％。在本专利技术中，所述自由基光引发剂优选包括苯甲酰甲酸甲酯、安息香双甲醚、2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基
‑1‑
丙酮(光引发剂1173)、1
‑
羟基环己基苯基甲酮和
2
‑
甲基
‑1‑
(4
‑
甲硫基苯基)
‑2‑
吗啉基
‑1‑
丙酮(光引发剂907)中的一种或几种，更优选为苯甲酰甲酸甲酯或安息香双甲醚。
[0025]在本专利技术中，所述光固化有机硅背涂材料，以质量百分含量计，包括0.1～0.8％阳离子光引发剂，更优选为0.2～0.5％，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光固化有机硅背涂材料，其特征在于，包括以下质量百分含量的制备原料：5～20％含丙烯酸基类物质、40～70％环氧树脂、5～20％稀释剂、1～8％自由基光引发剂、0.1～0.8％阳离子光引发剂。2.根据权利要求1所述的光固化有机硅背涂材料，其特征在于，所述含丙烯酸基类物质包括丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸酯和丙烯酸树脂中的一种或几种。3.根据权利要求1所述的光固化有机硅背涂材料，其特征在于，所述环氧树脂的平均分子量为4000～10000。4.根据权利要求1所述的光固化有机硅背涂材料，其特征在于，所述稀释剂包括乙烯基乙二醇醚、二乙烯基乙二醇醚、乙烯基三乙氧基硅烷和三乙二醇二乙烯基醚中的一种或几种。5.根据权利要求1所述的光固化有机硅背涂材料，其特征在于，所述自由基光引发剂包括苯甲酰甲酸甲酯、安息香双甲醚、2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基
‑1‑
丙酮、1
‑
羟基环己基苯基甲酮和2
‑
甲基
‑1‑
...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳修锋，杨菲，张水，何胜桥，刘海军，李林璐，郭利兵，
申请(专利权)人：焦作卓立膜材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：