本实用新型专利技术提供了一种磁组件治具清胶装置，涉及磁铁加工技术领域，解决了现有技术中存在的治具板清胶装置清洗液的使用率较低的技术问题。该磁组件治具清胶装置包括导料板和清洗液循环供给组件，治具设置在导料板上；清洗液循环供给组件包括供给水泵、喷淋管及储液盘，喷淋管设在导料板上方，储液盘设置在导料板下方，在导料板上设置有供清洗液流通的流通通道，供给水泵连接在储液盘与喷淋管之间。本实用新型专利技术用于提供一种提高清洗液的使用率的磁组件治具清胶装置。磁组件治具清胶装置。磁组件治具清胶装置。
【技术实现步骤摘要】
一种磁组件治具清胶装置
[0001]本技术涉及磁铁加工
，尤其是涉及一种磁组件治具清胶装置。
技术介绍
[0002]磁铁在加工过程中，一般都需要使用治具板对磁铁进行限位以便于磁铁加工工序的完成，其中，涉及到点胶工序的不在少数，而在点胶过程中，往往会出现溢胶现象，导致治具板上在每次工序完成后均需要进行清胶工作。
[0003]例如，针对其中一种磁组件，该磁组件由2种磁铁共5颗组成，需要将5颗磁铁依次相贴水平排列，其中，第一、三、五颗磁铁为大磁铁，第二、四颗为小磁铁，然而在实际生产过程中因磁力关系，磁铁水平排列后2颗较小的磁铁会凸起平面，因此需要通过在五颗磁铁背面吸附铁壳薄板，以通过点胶工序将五颗磁铁粘接在铁壳薄板上，使5颗磁铁处于同一平面上，粘接过程中需要烘烤干胶，因为工艺问题，会有溢胶情况出现且无法避免，因此，每次加工完后都需要对治具板进行清胶处理。
[0004]针对磁组件治具清胶，申请人之前申请了治具板专用的清胶装置，然而，目前治具板清胶装置在对治具板清胶时，残胶清洗不够彻底；同时，清洗液清洗完毕后，未进行回收再利用，导致清洗液的使用率较低。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种磁组件治具清胶装置，以解决现有技术中存在的治具板清胶装置清洗液的使用率较低的技术问题
。
本技术提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。
[0006]为实现上述目的，本技术提供了以下技术方案：
[0007]本技术提供的磁组件治具清胶装置，包括导料板和清洗液循环供给组件，治具设置在所述导料板上；
[0008]所述清洗液循环供给组件包括供给水泵、喷淋管及储液盘，所述喷淋管设在所述导料板上方，所述储液盘设置在所述导料板下方，在所述导料板上设置有供清洗液流通的流通通道，所述供给水泵连接在所述储液盘与所述喷淋管之间。
[0009]作为本技术的进一步改进，所述流通通道包括导料槽、流通槽和流通孔，所述导料槽设置在所述导料板上，所述流通槽等间距分布在所述导料槽内，所述流通孔间隔设置在所述流通槽上。
[0010]作为本技术的进一步改进，在所述导料板下方设置有过滤网，所述过滤网为尼龙网布。
[0011]作为本技术的进一步改进，所述导料槽的宽度不小于治具的长度。
[0012]作为本技术的进一步改进，在所述导料板底部还设置有防呆磁铁，所述防呆磁铁均匀分布在所述导料板上。
[0013]作为本技术的进一步改进，所述导料板上还设置有进料组件和清刷组件，所
述进料组件用以驱动治具沿第一方向往复移动，所述清洗液循环供给组件和所述清刷组件设置在治具的移动路径上；
[0014]所述清刷组件包括清刷驱动机构和清刷滚筒，所述清刷滚筒转动设置在所述导料板上方，所述清刷驱动机构与所述清刷滚筒连接，所述清刷驱动机构驱动所述清刷滚筒转动。
[0015]作为本技术的进一步改进，所述进料组件包括进料驱动机构和推板，所述进料驱动机构设置在所述导料板上方，所述推板与所述进料驱动机构连接，所述进料驱动机构驱动所述推板沿第一方向往复移动。
[0016]作为本技术的进一步改进，在所述导料板上还设置有限位传感器，所述限位传感器设置在所述推板的侧边，治具垂直的两边分别抵接在所述推板和所述限位传感器上。
[0017]作为本技术的进一步改进，在所述导料板上设置有防护罩，所述防护罩罩设在所述喷淋管和所述清刷滚筒外侧。
[0018]作为本技术的进一步改进，还包括控制器，所述进料组件、所述清洗液循环供给组件和所述清刷组件均与所述控制器电连接。
[0019]本技术的有益效果是：本技术提供的磁组件治具清胶装置，包括清洗液循环供给组件，供给液循环组件通过供给水泵将储液盘内的清洗液输送至导料板上方，由喷淋管喷淋至导料板上的治具上，在治具清胶完毕后，通过流通通道回流至储液盘内，实现了清洗液的回收再利用，提高了清洗液的使用率。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1是本技术的立体图；
[0022]图2是本技术的部分结构示意图；
[0023]图3是本技术的部分拆分结构示意图；
[0024]图4是本技术的导料板的结构示意图；
[0025]图5是本技术的导料板的剖视图。
[0026]图中1、装置本体；2、进料组件；3、清洗液循环供给组件；4、清刷组件；5、治具；6、控制器；11、底板；12、侧板；13、导料板；14、防呆磁铁；15、过滤网；16、限位传感器；17、防护罩；21、进料驱动机构；22、推板；31、供给水泵；32、喷淋管；33、储液盘；34、流通通道；35、导料槽；36、流通槽；37、流通孔；41、清刷驱动机构；42、清刷滚筒。
具体实施方式
[0027]下面可以参照附图图1～图5以及文字内容理解本技术的内容以及本技术与现有技术之间的区别点。下文通过附图以及列举本技术的一些可选实施例的方式，对本技术的技术方案(包括优选技术方案)做进一步的详细描述。需要说明的是：本
实施例中的任何技术特征、任何技术方案均是多种可选的技术特征或可选的技术方案中的一种或几种，为了描述简洁的需要本文件中无法穷举本技术的所有可替代的技术特征以及可替代的技术方案，也不便于每个技术特征的实施方式均强调其为可选的多种实施方式之一，所以本领域技术人员应该知晓：可以将本技术提供的任一技术手段进行替换或将本技术提供的任意两个或更多个技术手段或技术特征互相进行组合而得到新的技术方案。本实施例内的任何技术特征以及任何技术方案均不限制本技术的保护范围，本技术的保护范围应该包括本领域技术人员不付出创造性劳动所能想到的任何替代技术方案以及本领域技术人员将本技术提供的任意两个或更多个技术手段或技术特征互相进行组合而得到的新的技术方案。
[0028]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有说明，
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种磁组件治具清胶装置，其特征在于，包括导料板和清洗液循环供给组件，治具设置在所述导料板上；所述清洗液循环供给组件包括供给水泵、喷淋管及储液盘，所述喷淋管设在所述导料板上方，所述储液盘设置在所述导料板下方，在所述导料板上设置有供清洗液流通的流通通道，所述供给水泵连接在所述储液盘与所述喷淋管之间。2.根据权利要求1所述的磁组件治具清胶装置，其特征在于，所述流通通道包括导料槽、流通槽和流通孔，所述导料槽设置在所述导料板上，所述流通槽等间距分布在所述导料槽内，所述流通孔间隔设置在所述流通槽上。3.根据权利要求2所述的磁组件治具清胶装置，其特征在于，在所述导料板下方设置有过滤网，所述过滤网为尼龙网布。4.根据权利要求2所述的磁组件治具清胶装置，其特征在于，所述导料槽的宽度不小于治具的长度。5.根据权利要求1所述的磁组件治具清胶装置，其特征在于，在所述导料板底部还设置有防呆磁铁，所述防呆磁铁均匀分布在所述导料板上。6.根据权利要求1
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5任一所述的磁组件治具清胶装置，其特征在于，所述导料板上还设置有进料组件和...
【专利技术属性】
技术研发人员：周保平，高昀兴，王旭东，谷瑞，李泽江，马春茹，
申请(专利权)人：包头市英思特稀磁新材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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