一种超疏水光热涂层、其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种超疏水光热涂层、其制备方法和应用，超疏水光热涂层包括沉积在基材表面的蜡烛灰层、包覆在蜡烛灰层上的二氧化硅层以及由含氟硅烷自组装修饰在二氧化硅层的修饰层。本发明专利技术中的超疏水光热涂层具有抗细菌黏附性能和光热杀菌性能，其能够降低细菌的黏附数量并能够将光能转化为热能杀死黏附的细菌，既不会使细菌产生耐药性，也不会污染环境，此外，该超疏水光热涂层在阻止大量细菌黏附的基础上，仅需较低能耗即可杀死黏附的全部细菌；本发明专利技术中的超疏水光热涂层的制备方法简单、高效、普适性强；本发明专利技术中的超疏水光热涂层在光热杀菌中的应用能够有效降低杀菌所需能耗，经济环保。济环保。

【技术实现步骤摘要】
一种超疏水光热涂层、其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及一种超疏水光热涂层、其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]细菌在材料表面黏附以及随后形成生物被膜，可导致医疗器械感染和工业设备故障，对人类健康和工业生产构成巨大威胁。尤其是生物被膜在材料表面的形成，细菌的耐药性会增强，难以用常规的手段杀灭。在材料表面形成生物被膜前，赋予表面抗菌的功能能够有效阻止细菌感染。
[0003]超疏水表面能够形成空气层，从而减小细菌与表面的接触面积，有效阻止细菌的黏附。虽然超疏水表面能够阻止大部分细菌的黏附，但无法完全阻止细菌的黏附。少量细菌粘附于超疏水表面在营养充足的情况下仍然能够形成生物被膜，进而对人类健康和生产生活造成巨大危害。而具有杀菌功能的超疏水表面有望克服上述的缺点，实现长效的抗生物被膜效果。
[0004]目前，超疏水杀菌表面的主要制备方式是在超疏水表面固定接触型杀菌剂（例如季铵盐，阳离子聚合物等）或负载释放型杀菌剂（如金属离子，抗生素等药物）。杀菌组分的引入，赋予了超疏水表面更好的抗菌性能，这种具备杀菌功能的超疏水表面一方面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超疏水光热涂层，其特征在于：所述超疏水光热涂层包括沉积在基材表面的蜡烛灰层、包覆在所述蜡烛灰层上的二氧化硅层以及由含氟硅烷自组装修饰在所述二氧化硅层的修饰层。2.根据权利要求1所述的超疏水光热涂层，其特征在于：所述超疏水光热涂层在近红外光的照射下温度升高并能够杀死黏附于所述超疏水光热涂层的细菌；和/或，所述超疏水光热涂层的接触角大于150
°
且滚动角小于10
°
；和/或，所述基材包括玻璃片、硅片、金片、不锈钢片中的任一种。3.一种超疏水光热涂层的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：（1）将基材置于燃烧着的蜡烛的火焰处，在所述基材表面沉积蜡烛灰层；（2）在所述蜡烛灰层上气相沉积二氧化硅得到二氧化硅包覆的蜡烛灰涂层；（3）使含氟硅烷自组装在所述二氧化硅包覆的蜡烛灰涂层得到所述超疏水光热涂层。4.根据权利要求3所述的超疏水光热涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤（2）结束后直接在所述二氧化硅包覆的蜡烛灰涂层上进行所述含氟硅烷的自组装；和/或，所述气相沉积包括将沉积有所述蜡烛灰层的所述基材置于密封的容器中，在所述容器中加入正硅酸乙酯和氨水，在40~80℃下在所述蜡烛灰层上沉积所述二氧化硅。5.根据权利要求4所述的超疏水光热涂层的制备方法，其特征在于：所述正硅酸乙酯和所述氨水的投料体积比为1：（1~1.5）；和/或，所述正硅酸乙酯投料体积与所述基材的面积比为1 ml：(0.1~2.5) cm2；和/或，控制所述沉积的时间为12~24 h。6.根据权利要求3所述的超疏水光...

【专利技术属性】
技术研发人员：于谦，林元城，张燕霞，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：