【技术实现步骤摘要】
具有多参数老化补偿的SiC MOSFET结温测量方法
[0001]本专利技术属于SiC MOSFET结温监测
,涉及具有多参数老化补偿的SiC MOSFET结温测量方法。
技术介绍
[0002]对比传统的硅材料,碳化硅材料具有禁带宽度大、击穿场强大、载流子迁移率大等优点。材料的优越性使得碳化硅功率器件具有更好的高温、高压、高频特性。目前,以SiC MOSFET为代表的功率半导体器件已经在多个领域得到了广泛应用,包括机车牵引,电动汽车,智能电网,新能源发电等领域。随着应用越来越广泛,SiC MOSFET的可靠性、健康管理等方面成为人们关注的重点。其中,SiC MOSFET的结温是可靠性中非常重要的一环,因而SiC MOSFET结温测量也成为了研究热点。目前,使用温敏电参数法测量SiC MOSFET结温被认为是最有前景的方法,然而大多数温敏电参数都是随着器件的老化而发生变化,温敏电参数的变化会使得SiC MOSFET结温测量误差越来越大,不利于SiC MOSFET的健康管理。因此,实现具有老化补偿的SiC MOSFET结温 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.具有多参数老化补偿的SiC MOSFET结温测量方法,其特征在于,利用不同时间段采集三个电参数,电参数包括阈值电压、开通延迟时间和导通电阻,经过两级补偿后,使用补偿后的导通电阻实现SiC MOSFET结温在线测量,具体按照以下步骤实施:步骤1、通过实验分别建立SiC MOSFET的阈值电压、开通延迟时间和导通电阻的温敏特性曲线模型;步骤2、搭建SiC MOSFET驱动与参数采集系统,用于驱动SiC MOSFET通断,并且对所使用参数进行采集;步骤3、在SiC MOSFET不工作时,利用采集到的壳温和阈值电压进行计算,得到阈值电压的偏移量,将此偏移量添加到步骤1所得的开通延迟时间与结温的曲线模型中进行补偿;步骤4、在SiC MOSFET开通过程中,系统采集开通延迟时间,利用补偿后的开通延迟时间与结温的曲线模型计算出器件实时结温;步骤5、采集导通电阻并根据步骤1所得的导通电阻温敏特性曲线模型计算结温,将步骤4的器件实时结温与步骤5计算所得结温进行对比,再计算导通电阻的变化量,将导通电阻的变化量添加到步骤1所得的导通电阻温敏特性曲线模型进行导通电阻的老化补偿;步骤6、在补偿过程结束后,SiC MOSFET器件正常工作过程中利用补偿后的导通电阻温敏特性曲线模型进行SiC MOSFET结温测量。2.根据权利要求1所述的具有多参数老化补偿的SiC MOSFET结温测量方法,其特征在于,所述步骤2中所使用参数为不同时间段采集的参数,即离线状态下的阈值电压、开通过程中的开通延迟时间和开通后工作过程中的导通电阻。3.根据权利要求1所述的具有多参数老化补偿的SiC MOSFET结温测量方法,其特征在于,所述步骤2中SiC MOSFET驱动与参数采集系统包括电源模块、FPGA控制模块、驱动模块、保护模块、参数采集模块、壳温采集模块、串口通信模块。4.根据权利要求2所述的具有多参数老化补偿的SiC MOSFET结温测量方法,其特征在于,所述步骤3具体为:在SiC MOSFET不工作时,SiC MOSFET不会自主发热,SiC MOSFET的结温与壳温相等,此时使用壳温采集模块采集的壳温即等于结温,利用此结温与步骤1所得的阈值电压温敏特性曲线计算得到阈值电压值V
TH1
;再使用参数采集模块测量出...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。