一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具制造技术

本发明专利技术提供了一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，属于KDP晶体检修技术领域。为了解决现有夹具无法使用背照光源，无法保证晶体样品的全范围扫描，会导致KDP晶体部分缺陷点检测与修复遗漏的问题。外圈夹具的中间处设有中空部，且中空部的四周边缘位置均设有卡台，三种光源包括环形光源、轴向光源和背照光源，环形光源和轴向光源均设置在双工位检测装置上，背照光源用于设置在中空部下方的支撑台上，卡台上设有限位块，限位块的两端通过限位件与卡台可拆卸连接。能够通过三种光源光照下不同的视野来比较和确定缺陷的准确位置；提高了夹具的适应性；可保证了KDP晶体元件表面缺陷外形轮廓的获取。晶体元件表面缺陷外形轮廓的获取。晶体元件表面缺陷外形轮廓的获取。

【技术实现步骤摘要】
一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具


[0001]本专利技术涉及KDP晶体检修
，具体而言，涉及一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具。

技术介绍

[0002]在KDP(磷酸二氢钾)晶体表层缺陷原位检测与修复的装置中，KDP晶体需分别在明场暗场条件下进行成像，再对图像照片进行图像识别以区分缺陷和污染物。在光学成像系统中，需要搭配光学镜头同轴光源、环形光源以及背照光源使用。普通的夹具采用平面进行定位，KDP晶体是一种具有软脆性质的晶体，采用一般的金属材质夹具以平面定位容易划伤晶体表面；由于晶体表面缺陷尺寸较小，所以采用三光源以提高缺陷的检测能力，现有夹具无法使用背照光源。
[0003]进行光学元件缺陷检测的时候需要让光学元件连同夹具通过二维电动平移台实现平面二维扫描，在缺陷检测与修复过程中，夹具位置设计的合理与否将会影响到二维电动平移台的行程充分使用，目前电动平移台的夹具无法保证晶体样品的全范围扫描，这会导致晶体部分缺陷点检测与修复的遗漏。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题是：
[0005]为了解决现有夹具无法使用背照光源，无法保证晶体样品的全范围扫描，会导致KDP晶体部分缺陷点检测与修复遗漏的问题。
[0006]本专利技术为解决上述技术问题所采用的技术方案：
[0007]本专利技术提供了一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，所述夹具包括外圈夹具，所述外圈夹具的中间处设有中空部，且中空部的四周边缘位置均设有卡台，用于将KDP晶体卡接在卡台上，三种光源包括环形光源、轴向光源和背照光源，所述环形光源和轴向光源均设置在双工位检测装置上，所述背照光源用于设置在中空部下方的支撑台上，所述卡台上设有限位块，所述限位块的两端通过限位件与卡台可拆卸连接。
[0008]进一步地，还包括夹具移动底座，所述夹具设置在夹具移动底座上，且夹具的中空部与设置在支撑台上的背照光源相对，且夹具移动底座上开设有光照口。
[0009]进一步地，所述夹具移动底座包括上下设置的第一移动底座和第二移动底座，所述支撑台上设有第二移动底座驱动电机，所述第二移动底座驱动电机的输出端与第二移动底座连接，用于驱动第二移动底座在支撑台上横向或竖向移动，所述第二移动底座上设有第一移动底座驱动电机，所述第一移动底座驱动电机的输出端与第一移动底座连接。
[0010]进一步地，所述夹具可为聚四氟乙烯夹具。
[0011]进一步地，所述夹具适用于50mm
×
50mm、40mm
×
40mm、30mm
×
30mm、20mm
×
20mm尺寸的光学元件。
[0012]进一步地，所述支撑台为大理石支撑台，所述大理石支撑台包括下方的底座和底座上方两侧的支架，两个支架通过横撑连接，所述夹具和夹具移动底座均设置在横撑与底座之间。
[0013]进一步地，所述限位块为板状结构，所述限位件可为螺栓，用于通过螺栓将限位块的两端固定在卡台上。
[0014]进一步地，所述卡台的宽度为1.5mm
‑
3mm。
[0015]相较于现有技术，本专利技术的有益效果是：
[0016]本专利技术通过一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，外圈夹具的中间处设有中空部，且中空部的四周边缘位置均设有卡台，三种光源包括环形光源、轴向光源和背照光源，环形光源和轴向光源均设置在双工位检测装置上，背照光源用于设置在中空部下方的支撑台上，背照光源设置在中空部下方的支撑台上，卡台上设有限位块，限位块的两端通过限位件与卡台可拆卸连接。
[0017]本专利技术通过一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，通过三种光源交替开启来对KDP晶体进行光照，能够提供缺陷更为明晰的视野，且能够通过三种光源光照下不同的视野来比较和确定缺陷的准确位置；在环形光源7下，缺陷部分为较亮的光点或光带，非缺陷部分相对较暗；在轴向光源和背照光源下，缺陷部分为较暗的点或带，非缺陷部分相对较亮；
[0018]本专利技术通过一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，通过限位块的设置可对不同尺寸的KDP晶体元件实现装夹，提高了夹具的适应性；该夹具的中空部的设置可以保证了背照光源的正常使用，保证了KDP晶体元件表面缺陷外形轮廓的获取。
附图说明
[0019]图1为本专利技术实施例中KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复的立体总装图；
[0020]图2为本专利技术实施例中KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复的总装主视图；
[0021]图3为本专利技术实施例中KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复的总装侧视图；
[0022]图4为本专利技术实施例中夹具与夹具移动底座的立体结构示意图；
[0023]图5为本专利技术实施例中三种光源作用的示意图；
[0024]图6为本专利技术实施例中同一位置缺陷分别在三光源作用下图像。
[0025]附图标记说明：
[0026]1、驱动电机；2、Z轴移动单元；3、X轴移动单元；4、支撑台；5、AFM装置；6、夹具；7、环形光源；8、总体安装板；9、环形光源固定座；10、夹具移动底座；11、镜头；13、相机；14、镜头固定座；15、横向压线块；16、竖向压线块；17、滑轨；18、相机固定座；19、加劲肋；20、Z轴滑轨连接板；21、X轴滑轨连接板；401、横撑；402、支架；601、外圈夹具；602、中空部；603、卡台；604、限位块；1001、第一移动底座；1002、第二移动底座；1003、第一移动底座驱动电机；1004、第二移动底座驱动电机。
具体实施方式
[0027]在本专利技术的描述中，应当说明的是，各实施例中的术语名词例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示方位的词语，只是为了简化描述基于说明书附图的位置关系，并不
代表所指的元件和装置等必须按照说明书中特定的方位和限定的操作及方法、构造进行操作，该类方位名词不构成对本专利技术的限制。
[0028]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施例做详细的说明。
[0029]具体实施方案一：结合图1至图6所示，本专利技术提供一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，所述夹具6包括外圈夹具601，所述外圈夹具601的中间处设有中空部602，且中空部602的四周边缘位置均设有卡台603，用于将KDP晶体卡接在卡台603上，三种光源包括环形光源7、轴向光源和背照光源，所述环形光源7和轴向光源均设置在双工位检测装置上，所述背照光源用于设置在中空部602下方的支撑台4上，所述卡台603上设有限位块604，所述限位块604的两端通过限位件与卡台603可拆卸连接，用于根据KDP晶体的尺寸调节限位块604的位置，进而使KDP晶体相对两侧分别通过限位块604和与限位块604相对侧的卡台603上方侧壁固定在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，其特征在于：所述夹具(6)包括外圈夹具(601)，所述外圈夹具(601)的中间处设有中空部(602)，且中空部(602)的四周边缘位置均设有卡台(603)，用于将KDP晶体卡接在卡台(603)上，三种光源包括环形光源(7)、轴向光源和背照光源，所述环形光源(7)和轴向光源均设置在双工位检测装置上，所述背照光源用于设置在中空部(602)下方的支撑台(4)上，所述卡台(603)上设有限位块(604)，所述限位块(604)的两端通过限位件与卡台(603)可拆卸连接。2.根据权利要求1所述的一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，其特征在于：还包括夹具移动底座(10)，所述夹具(6)设置在夹具移动底座(10)上，且夹具(6)的中空部(602)与设置在支撑台(4)上的背照光源相对，且夹具移动底座(10)上开设有光照口。3.根据权利要求2所述的一种KDP晶体表层微纳缺陷检测与修复用的三光源用可调夹具，其特征在于：所述夹具移动底座(10)包括上下设置的第一移动底座(1001)和第二移动底座(1002)，所述支撑台(4)上设有第二移动底座驱动电机(1004)，所述第二移动底座驱动电机(1004)的输出端与第二移动底座(1002)连接，用于驱动第二移动底座(1002)在支撑台(4)上横向或竖向移动，所述第二移动底座(1002)上设有第一移动底座驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员：程健，徐文才，赵林杰，陈广，陈明君，丁雯钰，雷鸿钦，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：