用于图形生成的方法、设备和介质技术

根据本公开的示例实施例提供了用于图形生成的方法、设备和介质。在该方法中，确定版图的待更新区域。待更新区域至少具有沿第一方向的第一边界。该方法还包括基于针对版图的至少一个约束条件，在待更新区域中添加靠近第一边界的第一图形。至少一个约束条件与版图中的图形布局相关联。以此方式，可以在版图中生成满足至少一个约束条件的图形。足至少一个约束条件的图形。足至少一个约束条件的图形。

【技术实现步骤摘要】
用于图形生成的方法、设备和介质


[0001]本公开的实施例主要涉及集成电路领域，并且更具体地，涉及用于图形生成的方法、设备和介质。

技术介绍

[0002]电路版图(又可以简称为版图)是从设计并模拟优化后的电路所转化成的一系列几何图形，其包含了集成电路尺寸、各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据。集成电路制造商根据这些数据来制造掩模。掩模上的版图图案决定着芯片上器件或连接物理层的尺寸。
[0003]随着半导体芯片制造工艺的技术节点的减小，芯片上的晶体管密度和性能都有很大的提升。另一方面，随着工艺的提升，开发难度也不断加大，这对集成电路的生产和设计环节提出来更高的要求。为此，已经提出在版图上添加随机图形，从而提高版图图形的多样性，由此改善芯片的制造能力及版图的可制造性。

技术实现思路

[0004]在本公开的第一方面中，提供了一种用于图形生成的方法。在该方法中，确定版图的待更新区域。待更新区域至少具有沿第一方向的第一边界。该方法还包括基于针对版图的至少一个约束条件，在待更新区域中添加靠近第一边界的第一图形。至少一个约束条件与版图中的图形布局相关联。以此方式，可以在版图中生成满足至少一个约束条件的图形。
[0005]在本公开的第二方面中，提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器、以及与处理器耦合的存储器。该存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使电子设备执行根据本公开的第一方面的用于图形生成的方法。
[0006]在本公开的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质。该计算机可读存储介质上存储有计算机程序。计算机程序在被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的用于图形生成的方法。
[0007]根据本公开的实施例，确定版图的待更新区域，待更新区域至少具有沿第一方面的第一边界。例如，版图的待更新区域与已更新区域中的已有图形之间通过第一边界而分隔开。进一步地，基于针对版图的与版图中的图形布局相关联的至少一个约束条件，在待更新区域中添加靠近第一边界的第一图形。以此方式，可以根据版图的图形布局的至少一个约束条件来生成版图中的图形。因此，本公开的实施例能够使得生成的版图中的图形满足至少一个约束条件，从而在晶圆上形成令人满意的图形。
[0008]应当理解，本
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本公开的实施例的关键特征或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其他特征将通过以下的描述而变得容易理解。
附图说明
[0009]结合附图并参考以下详细说明，本公开各实施例的上述和其他特征、优点及方面将变得更加明显。在附图中，相同或相似的附图标注表示相同或相似的元素，其中：
[0010]图1示出了本公开的各实施例能够在其中实现的示例环境的示意图；
[0011]图2示出了根据本公开的一些实施例的用于图形生成的方法的流程图；
[0012]图3A至图3C示出了根据本公开的一些实施例的根据至少一个约束条件生成图形的示意图；以及
[0013]图4示出了其中可以实施本公开的一个或多个实施例的电子设备的框图。
具体实施方式
[0014]下面将参照附图更详细地描述本公开的实施例。虽然附图中显示了本公开的某些实施例，然而应当理解的是，本公开可以通过各种形式来实现，而且不应该被解释为限于这里阐述的实施例，相反提供这些实施例是为了更加透彻和完整地理解本公开。应当理解的是，本公开的附图及实施例仅用于示例性作用，并非用于限制本公开的保护范围。
[0015]在本公开的实施例的描述中，术语“包括”及其类似用语应当理解为开放性包含，即“包括但不限于”。术语“基于”应当理解为“至少部分地基于”。术语“一个实施例”或“该实施例”应当理解为“至少一个实施例”。术语“第一”、“第二”等等可以指代不同的或相同的对象。下文还可能包括其他明确的和隐含的定义。
[0016]如上文所述，随着半导体芯片制造工艺的技术节点的减小，对集成电路的生产和设计环节提出来更高的要求。目前已经提出在版图上添加随机图形的方案，从而提高版图图形的多样性，由此改善芯片的制造能力及版图的可制造性。然而，如何确定随机图形在版图中的布局是值得关注的问题。传统的随机图形生成方案无法满足某些设计规则需要。
[0017]为此，本公开的实施例提出了一种用于图形生成的方法。根据本公开的实施例，确定版图的待更新区域，待更新区域至少具有沿第一方面的第一边界。例如，版图的待更新区域与已更新区域中的已有图形之间具有第一边界。进一步地，基于针对版图的与版图中的图形布局相关联的至少一个约束条件，在待更新区域中添加靠近第一边界的第一图形。以此方式，可以根据版图的图形布局的至少一个约束条件来生成版图中的图形。因此，本公开的实施例能够使得生成的版图中的图形满足至少一个约束条件，从而在晶圆上形成满足设计规则的图形。
[0018]以下将参考附图来详细描述该方案的各种示例实现。
[0019]首先参见图1，其示出了本公开的各实施例能够在其中实现的示例环境100的示意图。示例环境100总体上可以包括电子设备110。在一些实施例中，电子设备110可以是诸如个人计算机、工作站、服务器等具有计算功能的设备。本公开的范围在此方面不受限制。
[0020]电子设备110获取待处理的版图120作为输入。在一些实施例中，待处理的版图120可以是空白的版图，其上不具有已有图形。附加地或备选地，在一些实施例中，待处理的版图120上也可以具有一个或多个已有图形(未示出)。在待处理的版图120上具有已有图形的实施例中，待处理的版图120上具有一个或多个空白区域。
[0021]电子设备110将待处理的版图120进行处理，以得到处理后的版图130。处理后的版图130包括一个或多个图形(也被称为随机图形)，例如图形132、图形134和图形136。这些图
形132、134和136在处理后的版图130中的位置和大小可以由电子设备110来确定。这将在下文中结合图2至图3C进一步详细描述。
[0022]应理解，图1中示出的各个版图、掩模、图形的形状和大小仅仅是示例性的，而不是限制性的。本公开的范围在此方面不受限制。
[0023]图2示出了根据本公开的一些实施例的用于图形生成的方法200的流程图。在一些实施例中，方法200可以由如图1所示的电子设备110执行。应当理解的是，方法200还可以包括未示出的附加框和/或可以省略所示出的某个(或者某些)框，本公开的范围在此方面不受限制。
[0024]在框210，电子设备110确定版图的待更新区域。待更新区域至少具有沿第一方向的第一边界。以图1中的待处理的版图120为例，电子设备110可以将待处理的版图120的待更新区域确定为待处理的版图120的整个区域。待更新区域的沿第一方向的第一边界可以是待处理的版图120的下侧的边，或者其他任意适当的边。
[0025]在一些实施例中，如果版图中已经具有一个或多个已有图形，电子设备110可以基于版图的已有图形，确定待更新区域。待更新区域与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种图形生成方法，其特征在于，包括：确定版图的待更新区域，所述待更新区域至少具有沿第一方向的第一边界；以及基于针对所述版图的至少一个约束条件，在所述待更新区域中添加靠近所述第一边界的第一图形，所述至少一个约束条件与所述版图中的图形布局相关联。2.根据权利要求1所述的图形生成方法，其特征在于，在所述待更新区域中添加靠近所述第一边界的第一图形包括：至少基于第一约束条件，在所述待更新区域中添加所述第一图形，所述第一约束条件与不同图形之间的角对角距离相关联。3.根据权利要求1所述的图形生成方法，其特征在于，在所述待更新区域中添加靠近所述第一边界的第一图形包括：基于与所述版图上的图形沿所述第一方向的属性相关联的第二约束条件，确定所述待更新区域中沿所述第一方向的第一位置范围；至少基于与所述版图上的图形沿第二方向的属性相关联的第三约束条件，确定所述待更新区域中沿所述第二方向的第二位置范围，所述第二方向垂直于所述第一方向；以及在由所述第一位置范围和所述第二位置范围限定的区域中添加所述第一图形。4.根据权利要求3所述的图形生成方法，其特征在于，所述第二约束条件与以下至少一项相关联：图形沿所述第一方向的第一长度，不同图形之间沿所述第一方向的第一距离。5.根据权利要求4所述的图形生成方法，其特征在于，所述第三约束条件与以下至少一项相关联：图形沿所述第二方向的第二长度，不同图形之间沿所述第二方向的第二距离。6.根据权利要求5所述的图形生成方法，其特征在于，所述第一距离的取值范围与所述第一位置范围的大小有关，并且所述第二距离的取值范围与所述第二位置范围的大小有关。7.根据权利要求4所述的图形生成方法，其特征在于，确定所述第一图形的所述第一位置范围包括：确定所述版图的已有图形的图形密度是否超过密度阈值；如果确定所述图形密度超过所述密度阈值，执行以下至少一项：将所述第一长度的取值范围设置为小于长度阈值，将所述第一距离的取值范围设置为大于距离阈值；以及如果确定所述图形密度未超过所述密度阈值，执行以下至少一项：将所述第一长度的取值范围设置为大于或等于所述长度阈值，将所述第一距离的取值范围设置为小于或等于所述距离阈值。8.根据权利要求3所述的图形生成方法，其特征在于，确定所述第一图形的所述第二位置范围进一步基于以下至少一项：第四约束条件，所述第四约束条件关联于不同图形间的平行长度与图形的大小之间的关...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：全芯智造技术有限公司，
类型：发明
国别省市：