氧化还原一体式冶金炉制造技术

本发明专利技术涉及一种氧化还原一体式冶炼炉，包括一体式的炉体，所述炉体内部通过炉墙分隔成氧化炉和还原炉，所述炉墙的上端低于炉体的内顶壁；所述氧化炉的内底高于还原炉的内底，还原炉和氧化炉之间设有虹吸组件；所述炉体上部段设有烟气管道，氧化炉上端设有投料口和探渣口，还原炉上端设有辅料口和探铅口。使用本发明专利技术所述的一体式冶金炉可缩短传统铅冶炼的工艺流程，将氧化和还原原需两套的环境集烟、收尘合二为一，可降低工厂投资成本，节约人工成本。本。本。

【技术实现步骤摘要】
氧化还原一体式冶金炉


[0001]本专利技术属于冶炼
，具体的说，涉及一种氧化还原一体式冶炼炉。

技术介绍

[0002]近年来，火法炼铅模式逐渐由高含铅物料向低含铅或其他渣物料转变，原先的部分炉型随之而变，逐渐由两段炼铅过度到一段氧化、一段还原的炼铅模式，但是，两台冶金炉的人员构成不变，所需设备、占地面积等也不会改变。再随着环保压力的增加，火法炼铅的生产经营面临着巨大的挑战，要如何压缩成本、扩大经济效益，成为企业生死存亡的威胁。
[0003]本专利技术可以在当前最新的炼铅模式下，进一步压缩投资及人工成本，大大降低企业的运行成本，在相同产能的情况下，占据非常明显的经济优势，将会成为未来炼铅、甚至其他冶炼行业的首选炉型。

技术实现思路

[0004]为了克服
技术介绍
中存在的问题，本专利技术提供了一种氧化还原一体式冶炼炉。
[0005]为实现上述目的，本专利技术是通过如下技术方案实现的：一种氧化还原一体式冶炼炉，包括一体式的炉体，所述炉体内部通过炉墙分隔成氧化炉和还原炉，所述炉墙的上端低于炉体的内顶壁；所述氧化炉的内底高于还原炉的内底，还原炉和氧化炉之间设有虹吸组件；所述炉体上部段设有烟气管道，氧化炉上端设有投料口和探渣口，还原炉上端设有辅料口和探铅口。
[0006]进一步的，所述的烟气管道位于炉墙的正上方，氧化炉和还原炉各占一半烟气管道。
[0007]进一步的，所述的虹吸组件包括放渣虹吸井、第一虹吸通道和渣溜槽；所述放渣虹吸井设置在氧化炉的外壁上，第一虹吸通道的一端伸入至氧化炉的底部，另一端连通放渣虹吸井；放渣虹吸井通过渣溜槽连通还原炉。
[0008]进一步的，所述氧化炉底部呈漏斗状往第一虹吸通道处倾斜。
[0009]进一步的，所述的还原炉外壁上设有放铅虹吸井，放铅虹吸井通过倾斜向下的第二虹吸通道连接至还原炉底部，所述还原炉底部呈漏斗状往第二虹吸通道的下端口处倾斜。
[0010]进一步的，所述氧化炉的虹吸井高度为1.5m，高于还原炉正常熔炼熔池高度0.5m，确保氧化炉熔池向还原炉内流动。
[0011]进一步的，所述氧化炉与还原炉连通的渣溜槽倾斜角度为15度，可以实现熔渣的自行流淌。
[0012]进一步的，所述氧化炉和还原炉的侧面设有预留事故排渣管。
[0013]进一步的，所述还原炉的底部呈漏斗状往第二虹吸通道处倾斜。
[0014]本专利技术的有益效果：使用本专利技术所述的一体式冶金路可缩短传统铅冶炼的工艺流
程，将氧化和还原原需两套的环境集烟、收尘合二为一，可降低工厂投资成本，节约人工成本。
附图说明
[0015]图1是本专利技术的俯视图；图2是本专利技术中氧化炉的结构示意图。
[0016]图中，1、炉体；2、炉墙；3、氧化炉；4、还原炉；5、虹吸组件；501、放渣虹吸井；502、第一虹吸通道；503、渣溜槽；6、烟气管道；7、投料口；8、辅料口；9、放铅虹吸井；10、第二虹吸通道；11、事故排渣管；12、探渣口；13、探铅口。
具体实施方式
[0017]为了使本专利技术的目的、技术方案和有益效果更加清楚，下面将对本专利技术的优选实施例进行详细的说明，以方便技术人员理解。
[0018]实施例，一种氧化还原一体式冶炼炉，参照附图1
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2，包括一体式的炉体1，所述炉体1内部通过炉墙2分隔成氧化炉3和还原炉4，所述炉墙2的上端低于炉体1的内顶壁；所述氧化炉3的内底比还原炉4的内底高0.5m，还原炉4和氧化炉3之间设有虹吸组件5；通过虹吸组件5将氧化炉3中的熔渣输送至还原炉4，所述炉体1上部段设有烟气管道6，氧化炉3上端设有投料口7和探渣口12，还原炉4上端设有辅料口8和探铅口13。
[0019]在一实施例中，所述的烟气管道6位于炉墙2的正上方，氧化炉3和还原炉4各占一半烟气管道6，两段炉体1共用一套余热锅炉来吸收烟气中的热量、共用一套除尘设备来处理烟气中烟尘，可节省建设投资成本。
[0020]在一实施例中，所述的虹吸组件5包括放渣虹吸井501、第一虹吸通道502和渣溜槽503；所述放渣虹吸井501设置在氧化炉3的外壁上；第一虹吸通道502通过140mm*140mm的耐火砖砌筑而成，其一端伸入至氧化炉3的底部，另一端连通放渣虹吸井501；放渣虹吸井501通过渣溜槽503连通还原炉4。
[0021]在一实施例中，所述氧化炉3底部呈漏斗状往第一虹吸通道502处倾斜。
[0022]在一实施例中，所述的还原炉4外壁上设有放铅虹吸井9，放铅虹吸井9通过倾斜向下的第二虹吸通道10连接至还原炉4底部，所述还原炉4底部呈漏斗状往第二虹吸通道10的下端口处倾斜。第二虹吸通道10通过140mm*140mm的耐火砖砌筑而成。
[0023]在一实施例中，所述氧化炉3的虹吸井高度为1.5m，高于还原炉4正常熔炼熔池高度0.5m，确保氧化炉3熔池向还原炉4内流动。
[0024]在一实施例中，渣溜槽503倾斜角度为15度，可以实现熔渣的自行流淌。
[0025]在一实施例中，所述氧化炉3和还原炉4的侧面设有预留事故排渣管11。
[0026]在一实施例中，所述还原炉4的底部呈漏斗状往第二虹吸通道10处倾斜。
[0027]最后说明的是，以上优选实施例仅用于说明本专利技术的技术方案而非限制，尽管通过上述优选实施例已经对本专利技术进行了详细的描述，但本领域技术人员应当理解，可以在形式上和细节上对其作出各种各样的改变，而不偏离本专利技术权利要求书所限定的范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化还原一体式冶炼炉，其特征在于：包括一体式的炉体，所述炉体内部通过炉墙分隔成氧化炉和还原炉，所述炉墙的上端低于炉体的内顶壁；所述氧化炉的内底高于还原炉的内底，还原炉和氧化炉之间设有虹吸组件；所述炉体上部段设有烟气管道，氧化炉上端设有投料口和探渣口，还原炉上端设有辅料口和探铅口。2.根据权利要求1所述的氧化还原一体式冶炼炉，其特征在于：所述的烟气管道位于炉墙的正上方，氧化炉和还原炉各占一半烟气管道。3.根据权利要求1所述的氧化还原一体式冶炼炉，其特征在于：所述的虹吸组件包括放渣虹吸井、第一虹吸通道和渣溜槽；所述放渣虹吸井设置在氧化炉的外壁上，第一虹吸通道的一端伸入至氧化炉的底部，另一端连通放渣虹吸井；放渣虹吸井通过渣溜槽连通还原炉。4.根据权利要求3所述的氧化还原一体式冶炼...

【专利技术属性】
技术研发人员：张红，曾国礼，张朝波，付光，马绍斌，尹为波，兰国辉，刘殿传，张特，肖毕高，李永凤，张路飞，
申请(专利权)人：云南驰宏锌锗股份有限公司，
类型：发明
国别省市：