【技术实现步骤摘要】
公自转转架装置及真空镀膜机
[0001]本技术涉及真空处理
,尤其涉及一种公自转转架装置及真空镀膜机。
技术介绍
[0002]在真空镀膜、刻蚀等真空处理
,往往通过公自转形式来提高真空处理的均匀性。在公自转真空处理系统中,通常将基板或晶片等待处理工件装载在设置于真空处理室的公自转工件架上来进行真空处理。
[0003]现有技术中,公自转机构一般采用多级齿轮机构。机械类齿轮一般是接触式啮合,齿轮之间相对运动时会产生摩擦并形成颗粒。在一些对真空处理质量要求较高的场合,这些颗粒是影响产品良率的重要不利因素。现有技术中公自转机构的公转和自转通常通过一个驱动件共同驱动。此时,公自转机构往往需要在自转工件架的周向设置齿形结构,并设置与公转轴同轴的固定齿轮,通过多级齿轮连接自转工件架和固定齿轮以实现自转工件架自转。这种结构的公自转机构齿轮啮合结构多,产生的颗粒多;而且与公转轴同轴设置的固定齿轮无法与公转盘固定,导致公转盘与公转轴之间无法实现有效密封,进而公转盘内部的齿轮摩擦产生的颗粒容易进入真空镀膜室,影响真空镀膜的质量。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提出一种公自转转架装置及真空镀膜机,该公自转转架装置产生的颗粒少,且公转盘内部产生的颗粒不易进入真空镀膜室,提高了应用该公自转转架装置的真空镀膜机的镀膜质量。
[0005]为达此目的,本技术采用以下技术方案:
[0006]公自转转架装置,包括自转轴、公转轴、公转盘和自转子轴,所述自转轴穿设于所述公转轴内且能相对所述公转轴转动 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.公自转转架装置,其特征在于,包括自转轴(1)、公转轴(2)、公转盘(3)和自转子轴(4),所述自转轴(1)穿设于所述公转轴(2)内且能相对所述公转轴(2)转动,所述公转轴(2)通过公转驱动件(51)驱动,所述公转盘(3)设于所述公转轴(2)的端部;所述自转子轴(4)设置有多个,多个所述自转子轴(4)间隔布设于所述公转盘(3)的周向;所述自转轴(1)远离公转盘(3)的一端与自转驱动件(61)连接,另一端伸入所述公转盘(3)内部,并通过传动机构(7)与多个所述自转子轴(4)连接,所述自转子轴(4)与所述公转盘(3)外部的工件架(9)连接;所述公转盘(3)包括第一护板(31)和安装架(32),所述公转轴(2)设于所述第一护板(31)的中心,所述安装架(32)与所述第一护板(31)连接,所述公转盘(3)内设有容纳腔,所述传动机构(7)位于所述容纳腔内。2.根据权利要求1所述的公自转转架装置,其特征在于,所述传动机构(7)包括太阳齿轮(71)、多个行星齿轮(72)和多个第一带轮组件(73),所述太阳齿轮(71)与所述自转轴(1)连接,多个所述行星齿轮(72)均与所述太阳齿轮(71)啮合传动,每个所述行星齿轮(72)对应连接一个所述第一带轮组件(73),多个所述第一带轮组件(73)与多个所述自转子轴(4)一一对应连接,所述自转子轴(4)与所述工件架(9)连接。3.根据权利要求2所述的公自转转架装置,其特征在于,所述容纳腔包括第一容纳腔和第二容纳腔,所述安装架(32)的中心设置有连通孔(324),所述安装架(32)靠近所述第一护板(31)的一侧设置有环形槽(325),所述环形槽(325)与所述第一护板(31)之间形成所述第一容纳腔;所述安装架(32)和所述第一护板(31)均与所述公转轴(2)连接,所述公转盘(3)还包括第二护板(33),所述第二护板(33)设于所述安装架(32)远离所述第一护板(31)的一侧,所述第二护板(33)与所述安装架(32)和所述公转轴(2)的端部之间形成所述第二容纳腔;多个所述第一带轮组件(73)和多个所述自转子轴(4)均安装于所述安装架(32),且位于所述第一容纳腔内;所述安装架(32)的周向设置有多个伸出孔,多个所述伸出孔与多个所述自转子轴(4)一一对应设置,每个所述自转子轴(4)穿过与其对应的所述伸出孔和所述工件架(9)连接;所述太阳齿轮(71)和多个所述行星齿轮(72)均设于所述第二容纳腔内,所述自转轴(1)通过所述连通孔(324)伸入所述第二容纳腔与所述太阳齿轮(71)连接,所述行星齿轮(72)与所述第一容纳腔内的所述第一带轮组件(73)连接。4.根据权利要求3所述的公自转转架装置,其特征在于,所述伸出孔远离所述第一护板(31)的一侧设置有防护件(8)。5.根据权利要求4所述的公自转转架装置,其特征在于,所述第一带轮组件(73)包括第一主动带轮(731)、第一皮带(732)和第一从动带轮(733),所述第一主动带轮(731)与所述行星齿轮(72)连接,所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:裴蓓,渡边优,余龙,吕启蒙,曹永军,
申请(专利权)人:光驰科技上海有限公司,
类型:新型
国别省市:
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