HCFC-132的制造方法以及分离方法和HCFO-1122a的制造方法技术

技术编号:38267143 阅读:5 留言:0更新日期:2023-07-27 10:23
本发明专利技术提供一种从不使用氯和毒性高的四氯化碳的方面比现有方法容易操作并且HCFC-132的选择率高的制造方法。本发明专利技术具体提供一种HCFC-132的制造方法,其特征在于,包括:将通式(1):CFClX-CFClX(式中,X分别独立地为Cl、Br、I或H。其中,X中的至少一个为Cl、Br或I。)所示的卤代乙烷在还原剂的存在下还原而生成1,2-二氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-132)的工序。序。

【技术实现步骤摘要】
HCFC-132的制造方法以及分离方法和HCFO-1122a的制造方法
[0001](本申请是2018年7月4日递交的专利技术名称为“1,2-二氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-132)的制造方法、1-氯-1,2-二氟乙烯(HCFO-1122a)的制造方法和HCFC-132的分离方法”的申请201880050223.5的分案申请)


[0002]本专利技术涉及1,2-二氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-132)的制造方法、1-氯-1,2-二氟乙烯(HCFO-1122a)的制造方法和HCFC-132的分离方法。

技术介绍

[0003]目前,已知通过使1,2-二氟乙烯(HFO-1132)和氯反应而生成1,2-二氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-132)、并使HCFC-132进行脱盐酸反应从而制造1-氯-1,2-二氟乙烯(HCFO-1122a)的方法(例如,专利文献1)。
[0004]然而,上述制造方法中,在制造HCFC-132时,使用难以处理的卤素氯,且作为溶剂使用毒性高的四氯化碳,因此,为了简便并且高效率制造HCFO-1122a,还有改善的余地。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:日本专利特开2015-120670号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的技术问题
[0009]本专利技术的目的在于,提供在使用还原剂的HCFC-132的制造方法和以利用该制造方法得到的HCFC-132作为原料化合物的HCFO-1122a的制造方法,并且是该方法中的HCFC-132和HCFO-1122a的选择率高的制造方法。另外,本专利技术的目的在于提供一种HCFC-132的分离方法。
[0010]用于解决技术问题的技术方案
[0011]本专利技术的专利技术人为了实现上述目的反复进行深入研究,结果发现,在将作为原料化合物的特定卤代乙烷利用还原剂还原的情况下,能够实现上述目的,以至完成了本专利技术。
[0012]即,本专利技术涉及下述的HCFC-132的制造方法、HCFO-1122a的制造方法和HCFC-132的分离方法。
[0013]1.一种HCFC-132的制造方法,其特征在于,包括:
[0014]将通式(1):CFClX-CFClX(式中,X分别独立地为Cl、Br、I或H。其中,X中的至少一个为Cl、Br或I。)所示的卤代乙烷在还原剂的存在下还原而生成1,2-二氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-132)的工序。
[0015]2.如项1所述的制造方法,其中,上述还原剂为甲酸盐。
[0016]3.如项1或2所述的制造方法,其中,在20℃~100℃的范围内进行上述还原工序。
[0017]4.如项1~3中任一项所述的制造方法,其中,上述通式(1)所示的卤代乙烷为1,1,2,2-四氯-1,2-二氟乙烷(CFC-112)。
[0018]5.一种HCFO-1122a的制造方法,包括:
[0019](i)将通式(1):CFClX-CFClX(式中,X分别独立地为Cl、Br、I或H。其中,X中的至少一个为Cl、Br或I。)所示的卤代乙烷在还原剂的存在下还原而生成含有HCFC-132的混合物的工序;和
[0020](ii)将在上述工序(i)生成的混合物中的HCFC-132在碱的存在下进行脱盐酸反应而生成1-氯-1,2-二氟乙烯(HCFO-1122a)的工序。
[0021]6.如项5所述的HCFO-1122a的制造方法,其中,在上述工序(i)与上述工序(ii)之间,还包括从上述混合物中分离HCFC-132的工序,将该HCFC-132提供至上述工序(ii)。
[0022]7.一种HCFC-132的分离方法,其中,在加压下分离HCFC-132和沸点-10℃以下的混合物。
[0023]8.如项7所述的分离方法,其中,进行加压的压力为0.01~2.0MPa。
[0024]9.项7或8所述的分离方法,其中,上述沸点-10℃以下的混合物含有选自CO2、N2、HCFO-1122a和2-氯-1,1-二氟乙烯(HCFC-1122)中的至少一种。
[0025]10.一种组合物,含有:HCFC-132,和,选自1,1,2-三氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-122a)、1,2-二氯-1,1-二氟乙烷(HCFC-132b)和1,1-二氯-2,2-二氟乙烷(HCFC-132a)中的至少一种化合物。
[0026]11.一种组合物,含有:HCFO-1122a,和,选自HCFC-132、HCFC-1122和1,2-二氯-1,2-二氟乙烯(CFC-1112)中的至少一种化合物。
[0027]12.如项11所述的组合物,其为冷媒组合物。
[0028]专利技术的效果
[0029]本专利技术为将特定的卤代乙烷利用还原剂氢化来制造HCFC-132的方法,并且是将利用该制造方法得到的HCFC-132作为原料化合物制造HCFO-1122a的方法,因此,从不使用氯和毒性高的四氯化碳的方面比现有方法容易操作,并且HCFC-132和HCFO-1122a的选择率高。
具体实施方式
[0030]以下,对本专利技术的HCFC-132的制造方法、HCFO-1122a的制造方法和HCFC-132的分离方法进行详细说明。在本专利技术中,在没有特殊解释的情况下,“压力”意指表压(即、以大气压为0的压力表示方法)。
[0031]1,2-二氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-132)的制造方法
[0032]本专利技术的1,2-二氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-132)的制造方法的特征在于,包括:将通式(1):CFClX-CFClX(式中,X分别独立地为Cl、Br、I或H。其中,X中的至少一个为Cl、Br或I。)所示的卤代乙烷在还原剂的存在下还原而生成HCFC-132的工序。
[0033]使通式(1)的卤代乙烷变成HCFC-132的反应可以通过在还原剂的存在下、在合适的溶剂中将通式(1)的卤代乙烷氢化而进行。
[0034]作为还原剂的例子,可以列举氢、氢化铝锂、甲酸、甲酸盐、硼氢化钠、氰基硼氢化钠、三乙酰氧基硼氢化钠。
[0035]这些还原剂中,从高收率获得HCFC-132的观点考虑,优选为甲酸盐。作为甲酸盐,可以使用甲酸钠、甲酸钾、甲酸铵,从易水溶性、处理容易性的方面考虑,优选为甲酸钠、甲酸铵。
[0036]还原反应中,从高收率获得HCFC-132的观点考虑,可以使用钯黑、钯/碳、氧化铂、铂黑、拉尼镍等的催化剂。
[0037]从以高选择率获得HCFC-132的观点考虑,使用还原剂进行还原反应时的反应温度优选为20℃~100℃、更优选为20℃~80℃、进一步优选为30℃~70℃。还原反应通常优选在0.0~2.0MPa下进行,更优选在0.0~1.5MPa下进行。
[0038]还原反应在反应开始起1~20小时内结束。
[0039]相对于通式(1)的需要还原的卤素1mol,还原剂的量优本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种HCFC-132的制造方法,其特征在于,包括:将通式(1):CFClX-CFClX所示的卤代乙烷在还原剂的存在下还原而生成1,2-二氯-1,2-二氟乙烷(HCFC-132)的工序,式(1)中,X分别独立地为Cl、Br、I或H,其中,X中的至少一个为Cl、Br或I。2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述还原剂为甲酸盐。3.如权利要求1或2所述的制造方法,其特征在于:在20℃~100℃的范围内进行所述还原的工序。4.如权利要求1~3中任一项所述的制造方法,其特征在于:所述通式(1)所示的卤代乙烷为1,1,2,2-四氯-1,2-二氟乙烷(CFC-112)。5.一种HCFO-1122a的制造方法,其特征在于,包括:(i)将通式(1):CFClX-CFClX所示的卤代乙烷在还原剂的存在下还原而生成含有HCFC-132的混合物的工序,式(1)中,X分别独立地为Cl、Br、I或H,其中,X中的至少一个为Cl、Br或I;和(ii)将在所述工序(i)生成的混合物中的HCFC-132在碱的存在下进行脱盐酸反应而生成1-氯-1,2-二氟乙烯(HCFO-1122a)的工序。6.如权利要求5所述的HCFO-1122a...

【专利技术属性】
技术研发人员:臼井隆加留部大辅
申请(专利权)人:大金工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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