双面压印设备及其使用方法技术

本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种双面压印设备，其第一压印单元可升降安装在壳体内的上部，包括上压印腔体和上模具，上模具安装在上压印腔体的下表面；第二压印单元可升降安装在壳体内的下部，包括下压印腔体和下模具，下模具安装在下压印腔体的上表面；夹持单元位于第一压印单元与第二压印单元之间，夹持单元固定在壳体的内部，夹持单元用于夹持基片；抽真空结构用于抽取压印腔内的气体，以使压印腔内为负压状态。本公开的双面压印设备气密性好，有利于纳米压印胶填充在纳米结构中，实现高深宽比结构等难度较大的结构的压印。本发明专利技术设备可两面同时进行压印，提高压印效率。本申请还公开一种双面压印设备的使用方法。本申请还公开一种双面压印设备的使用方法。本申请还公开一种双面压印设备的使用方法。

【技术实现步骤摘要】
双面压印设备及其使用方法


[0001]本申请涉及纳米压印
，例如涉及一种双面压印设备及其使用方法。

技术介绍

[0002]几十年来，光刻技术的特征尺寸不断减小，给制造技术提出了新的挑战。为了得到更高分辨率的结构，就要求使用更短波长的光作为曝光的光源，传统的光刻已经达到了它的极限，因此下一代光刻技术应运而生，出现了电子束光刻(EBL)、离子束光刻(IBL)，极紫外光刻(EUV)等技术。电子束光刻虽然分辨率高，但是产量低，加工成本高，只能用于加工关键层。X射线光刻对光源及样品制造要求很高，同时高能辐射会迅速破坏掩模和透镜中的许多材料，导致光刻成本增加。极紫外光刻技术必须采用精度极高的反射式光学系统，同样带来成本的剧增。
[0003]20世纪90年代中叶，美国普林斯顿大学周郁教授提出纳米压印技术的概念，向人们展示了一种新型的、以模板为基础的纳米压印制造技术。结合现代微电子工艺和材料技术，克服了光学曝光中由于衍射现象引起的分辨率极限问题，显示了超高分辨率，高产量，低成本，适合工业化生产的独特优点，激发广泛的研究兴趣。<br/>[0004]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面压印设备，其特征在于，包括壳体(7)、第一压印单元(2)、第二压印单元(3)、夹持单元(1)、抽真空结构，所述第一压印单元(2)可升降安装在壳体(7)内的上部，所述第一压印单元(2)包括上压印腔体(21)和上模具，所述上模具安装在所述上压印腔体(21)的下表面；所述第二压印单元(3)可升降安装在壳体(7)内的下部，所述第二压印单元(3)包括下压印腔体(31)和下模具，所述下模具安装在所述下压印腔体(31)的上表面；所述夹持单元(1)位于所述第一压印单元(2)与所述第二压印单元(3)之间，所述夹持单元(1)固定在所述壳体(7)的内部，所述夹持单元(1)用于夹持基片(4)；所述抽真空结构用于抽取压印腔(8)内的气体，以使所述压印腔(8)内为负压状态。2.根据权利要求1所述双面压印设备，其特征在于，所述夹持单元(1)包括固定板(11)、支撑环(12)、夹持支撑臂(13)和夹持叉臂(14)；所述夹持叉臂(14)的一端设置有齿，用于夹持所述基片(4)，所述夹持叉臂(14)的另一端与所述夹持支撑臂(13)连接，所述夹持支撑臂(13)与支撑环(12)连接，所述支撑环(12)与固定板(11)连接，所述固定板(11)与所述壳体(7)连接，用于将所述夹持单元(1)固定在所述壳体(7)上。3.根据权利要求2所述双面压印设备，其特征在于，所述抽真空结构包括真空管接口，所述真空管接口安装在所述支撑环(12)上，所述真空管接口通过气管与真空泵和空压机连接，用于抽取压印腔(8)内的空气，形成负压。4.根据权利要求3所述双面压印设备，其特征在于，所述夹持单元(1)还包括金属弹簧环管(15)、压紧环(16)和密封橡胶圈(161)；所述支撑环(12)的上下两侧分别设置有一个所述金属弹簧环管(15)，所述金属弹簧管可在竖直方向上伸缩，所述压紧环(16)设置有两个，两个压紧环(16)分别与所述金属弹簧管远离支撑环(12)的一端连接，所述压紧环(16)设置有密封橡胶圈(161)，所述密封橡胶圈(161)分别与对应的压印腔(8)体贴合。5.根据权利要求4所述双面压印设备，其特征在于，所述金属弹簧管、支撑环(12)、压紧环(16)、第一压印单元(2)和第二压印单元(3)构成...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，彭华，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：