显示装置制造方法及图纸

技术编号:38187223 阅读:9 留言:0更新日期:2023-07-20 01:37
提供了显示装置。显示装置包括衬底、多个像素、第一封装层和第二封装层,衬底包括显示区域和围绕显示区域的非显示区域,多个像素在显示区域中的衬底上,第一封装层在衬底上以覆盖像素并且包含无机材料,第二封装层在第一封装层上并且包含有机材料。第二封装层的边缘位于非显示区域中,第一封装层的边缘定位成比第二封装层的边缘更靠外。第一封装层包括第一区域和第二区域,第二区域定位成比第一区域更靠外并且具有小于第一区域的表面粗糙度的表面粗糙度。粗糙度。粗糙度。

【技术实现步骤摘要】
显示装置
[0001]本申请要求于2021年11月2日提交的第10

2021

0148885号韩国专利申请的优先权以及从其获得的所有权益,该韩国专利申请的内容通过引用以其整体并入本文。


[0002]本公开涉及显示装置和制造显示装置的方法。

技术介绍

[0003]向用户显示图像的诸如智能电话、平板个人计算机(“PC”)、数码相机、膝上型计算机、导航装置和智能电视(“TV”)的电子装置包括用于显示图像的显示装置。显示装置可包括随着电子与空穴复合而发射光以显示图像的有机发光元件。
[0004]在制造有机发光二极管显示器的工艺期间,可在衬底上形成各自包括发光元件的多个像素,并且然后可在衬底上提供薄膜封装层以覆盖像素。薄膜封装层可包括无机绝缘层和有机绝缘层。

技术实现思路

[0005]在形成有机发光二极管显示器的薄膜封装层的有机绝缘层的工艺中,可在衬底上提供具有流动性的有机材料,并且可固化有机材料以形成有机绝缘层。当在衬底上提供具有流动性的有机材料时,有机材料可能无法均匀地铺展或者可能流出衬底。
[0006]本公开的实施方式提供了一种显示装置以及制造显示装置的方法,该显示装置包括具有提高的均匀性的有机膜并且在显示装置中防止了色斑(Mura)缺陷。
[0007]本公开的实施方式还提供了其中有机材料可有效地形成在期望的位置处并且有机材料不流出衬底的显示装置以及制造显示装置的方法。
[0008]根据本公开的实施方式,显示装置包括衬底、多个像素、第一封装层和第二封装层,衬底包括显示区域和围绕显示区域的非显示区域,多个像素布置在显示区域中的衬底上,第一封装层布置在衬底上以覆盖像素,其中第一封装层是无机材料,第二封装层布置在第一封装层上,其中第二封装层是有机材料,其中,第二封装层的边缘位于非显示区域中,第一封装层的边缘定位成比第二封装层的边缘更靠外,第一封装层包括具有第一表面粗糙度的第一区域和具有小于第一表面粗糙度的第二表面粗糙度的第二区域,并且第二区域定位成比第一区域更靠外。
[0009]在实施方式中,第一区域的边缘可位于坝构件的内表面上。
[0010]在实施方式中,第一区域可与第二封装层重叠,并且第二区域可与第二封装层不重叠。
[0011]在实施方式中,第一区域的边缘可与第二封装层的边缘对齐。
[0012]在实施方式中,第一区域的厚度可比第二区域的厚度小了约50埃至约100埃。
[0013]在实施方式中,第一表面粗糙度可比第二表面粗糙度大了约5纳米至约10纳米。
[0014]在实施方式中,显示装置还可包括布置在第二封装层上并且是无机材料的第三封
装层,其中,第三封装层的边缘定位成比第二封装层的边缘更靠外。
[0015]根据本公开的另一实施方式,显示装置包括衬底、多个像素、第一坝构件、第一封装层和第二封装层,衬底包括显示区域和围绕显示区域的非显示区域,多个像素布置在显示区域中的衬底上,第一坝构件布置在非显示区域中的衬底上,第一封装层覆盖像素和第一坝构件,其中第一封装层的边缘位于第一坝构件的外侧,第二封装层布置在第一封装层上并且覆盖像素,其中第二封装层的边缘位于第一坝构件上。在这种实施方式中,第一封装层包括跨显示区域和非显示区域布置的第一区域以及布置在第一区域的外侧的第二区域,第一区域具有第一表面粗糙度并且第二区域具有与第一表面粗糙度不同的第二表面粗糙度。
[0016]在实施方式中,第一区域与第二区域之间的边界可与第一坝构件重叠,并且第一区域与第二区域之间的边界可位于第一坝构件的内表面上。
[0017]在实施方式中,第一区域可与第二封装层重叠,并且第二区域可与第二封装层不重叠。
[0018]在实施方式中,第一区域与第二区域之间的边界可与第二封装层的边缘对齐。
[0019]在实施方式中,第一区域的厚度可比第二区域的厚度小了约50埃至约100埃。
[0020]在实施方式中,第一表面粗糙度可比第二表面粗糙度大了约5纳米至约10纳米。
[0021]在实施方式中,显示装置还包括布置在第一坝构件的外侧的第二坝构件,其中,第二坝构件的高度可大于第一坝构件的高度。
[0022]在实施方式中,显示装置还包括布置在第二封装层上以覆盖第二封装层和第一坝构件的第三封装层,其中,第三封装层的边缘可位于第一坝构件的外侧。
[0023]根据本公开的实施方式,制造显示装置的方法包括:制备衬底,衬底包括其中布置有多个像素的显示区域和围绕显示区域的非显示区域;在衬底上提供包含第一无机材料的第一封装层以覆盖像素,其中,第一封装层包括从显示区域延伸到非显示区域的一部分的第一区域和位于第一区域的外侧的第二区域;以使得第一区域的表面粗糙度大于第二区域的表面粗糙度的方式来部分地蚀刻第一封装层的第一区域;以及在第一封装层的第一区域上提供包含有机材料的第二封装层。
[0024]在实施方式中,部分地蚀刻可包括:在第一封装层上方放置蚀刻掩模以暴露第一区域并且掩蔽第二区域,以及使用包含氟元素的蚀刻气体执行蚀刻。
[0025]在实施方式中,制造显示装置的方法还可包括:在部分地蚀刻之后,清洗氟元素的残留物。
[0026]在实施方式中,第一区域的厚度可比第二区域的厚度小了约50埃至约100埃。
[0027]在实施方式中,第一区域的表面粗糙度可比第二区域的表面粗糙度大了约5纳米至约10纳米。
[0028]在实施方式中,提供第一封装层可包括:在衬底上方放置其中开口被限定成暴露第一区域和第二区域的开口掩模,以及通过开口掩模在衬底上沉积第一无机材料。
[0029]根据本公开的实施方式,可提高有机膜的均匀性,并且可有效地防止显示装置中的色斑缺陷。在这种实施方式中,有机材料可形成在期望的位置处并且有机材料不流出衬底。
附图说明
[0030]通过参照附图详细描述本公开的实施方式,本公开的上述和其它特征将变得更加明确,在附图中:
[0031]图1A是根据本公开的实施方式的显示装置的平面图;
[0032]图1B是图1A的圆圈部分的放大图;
[0033]图2是根据本公开的实施方式的显示装置的剖面图;
[0034]图3是示意性地示出根据本公开的实施方式的显示装置的元件的排列的平面图;
[0035]图4是根据本公开的实施方式的显示装置的像素的剖面图;
[0036]图5是沿图1A的线A

A'截取的剖面图;
[0037]图6A是图5中所示的第一封装层的端部的放大图;
[0038]图6B是图6A的圆圈部分的放大图;
[0039]图7至图11是用于示出根据本公开的实施方式的制造显示装置的方法的剖面图;以及
[0040]图12至图14是用于示出根据本公开的替代性实施方式的制造显示装置的方法的剖面图。
具体实施方式
[0041]现在在下文中将参照其中示出了本技术本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置,其特征在于,包括:衬底,所述衬底包括显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域;多个像素,所述多个像素布置在所述显示区域中的所述衬底上;第一封装层,所述第一封装层布置在所述衬底上以覆盖所述多个像素,其中,所述第一封装层是无机材料;以及第二封装层,所述第二封装层布置在所述第一封装层上,其中,所述第二封装层是有机材料,其中,所述第二封装层的边缘位于所述非显示区域中,所述第一封装层的边缘定位成比所述第二封装层的所述边缘更靠外,所述第一封装层包括具有第一表面粗糙度的第一区域和具有小于所述第一表面粗糙度的第二表面粗糙度的第二区域,以及所述第二区域定位成比所述第一区域更靠外。2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一区域的边缘位于坝构件的内表面上。3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一区域与所述第二封装层重叠,并且所述第二区域与所述第二封装层不重叠。4.如权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述第一区域的边缘与所述第二封装层的所述边缘对齐。5.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一区域的厚度比所述第二区域的厚度小50埃至100埃。6.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一表面粗糙度比所述第二表面粗糙度大5纳米至10纳米。7.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:玄珍浩尹瓘赫李惠珉
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:新型
国别省市:

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