自移清洁设备及其控制方法、装置和存储介质制造方法及图纸

技术编号:38157214 阅读:16 留言:0更新日期:2023-07-13 09:26
本公开实施例提供了一种自移清洁设备及其控制方法、装置和存储介质。其中,自移清洁设备包括机身和设置于机身底部的清洁元件,清洁元件的至少一部分位于机身的边缘投影区域外,该方法包括:确定自移清洁设备的目标干涉区域;基于目标干涉区域内的障碍物信息,控制自移清洁设备行进。由此,能够减少或者避免自动清洁设备突出机身的清洁元件与障碍物的干涉,进而提升自移清洁设备的避障体验,提高自移清洁设备运行的顺畅性。洁设备运行的顺畅性。洁设备运行的顺畅性。

【技术实现步骤摘要】
自移清洁设备及其控制方法、装置和存储介质


[0001]本公开涉及智能控制
,尤其涉及一种自移清洁设备及其控制方法、装置和存储介质。

技术介绍

[0002]目前的清洁设备,如自移动清洁机器人,通常能够在无使用者操作的情况下,在某一待清洁区域自动行进完成清洁操作。在清洁设备行进过程中,清洁设备会遇到障碍物,清洁设备需要躲避该障碍物才能继续行进。

技术实现思路

[0003]有鉴于此,本公开实施例提供一种自移清洁设备及其控制方法、装置和存储介质,能够减少或者避免自动清洁设备突出机身的清洁元件与障碍物的干涉,进而提升自移清洁设备的避障体验,提高自移清洁设备运行的顺畅性。
[0004]根据本公开的第一个方面,提供了一种自移清洁设备的控制方法,自移清洁设备包括:机身和设置于机身底部的清洁元件,清洁元件的至少一部分位于机身的边缘投影区域外,自移清洁设备的控制方法包括:
[0005]确定自移清洁设备的目标干涉区域;基于目标干涉区域内的障碍物信息,控制自移清洁设备行进。
[0006]进一步地,机身为圆形,确定自移清洁设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自移清洁设备的控制方法,其特征在于,所述自移清洁设备包括:机身和设置于所述机身底部的清洁元件,所述清洁元件的至少一部分位于所述机身的边缘投影区域外,所述自移清洁设备的控制方法包括:确定所述自移清洁设备的目标干涉区域;基于所述目标干涉区域内的障碍物信息,控制所述自移清洁设备行进。2.根据权利要求1所述的自移清洁设备的控制方法,其特征在于,所述机身为圆形,确定所述自移清洁设备的目标干涉区域,包括:基于所述自移清洁设备的自身结构和所述自移清洁设备在所处空间的位置,确定所述目标干涉区域,其中,所述自移清洁设备的自身结构包括所述机身半径、以及所述清洁元件位于所述机身的边缘投影区域外的外缘与所述机身的旋转中心之间的最大距。3.根据权利要求1或2所述的自移清洁设备的控制方法,其特征在于,基于所述目标干涉区域内的障碍物信息,控制所述自移清洁设备行进,包括:当所述目标干涉区域内有障碍物时,确定所述障碍物与所述自移清洁设备的相对位置;根据所述相对位置控制所述自移清洁设备进行对应的避障操作。4.根据权利要求3所述的自移清洁设备的控制方法,其特征在于,所述清洁元件设置于所述机身后方,根据所述相对位置控制所述自移清洁设备进行对应的避障操作,包括:当所述障碍物位于所述自移清洁设备一侧,且所述自移清洁设备执行向与所述障碍物相反一侧的转弯操作时,根据所述自移清洁设备所处空间的地图,获取所述自移清洁设备的可达区域;根据所述可达区域确定所述自移清洁设备的旋转方向和旋转角度,控制所述自移清洁设备按照所述旋转方向和所述旋转角度进行旋转后,执行后退操作,使所述障碍物脱离所述目标干涉区域。5.根据权利要求4所述的自移清洁设备的控制方法,其特征在于,根据相对位置控制自移清洁设备进行对应的避障操作,还包括:所述自移清洁设备旋转至原角度,并执行所述转弯操作。6.根据权利要求3所述的自移清洁设...

【专利技术属性】
技术研发人员:侯峥韬
申请(专利权)人:北京石头创新科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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