本发明专利技术公开一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，包括由上至下依次设置的离型膜、网格双面胶和PC片，网格双面胶的空隙内且位于离型膜与PC片之间设置有导电双面胶，离型膜完全覆盖导电双面胶和网格双面胶但不完全覆盖PC片。本发明专利技术提供的预折式断层结构的局部导电绝缘片，集粘附、局部导电、绝缘等功能于一体，将离型膜和网格双面胶分别设计成四个互不接触的预折式断层结构，便于预折弯曲，能紧密贴附于不同平面的对手件表面上，采用热压工艺即可实现，较之传统注射工艺，大大节省模具费用及开模时间，工作效率显著提高，产能明显提高，采用的网格双面胶具有气槽结构，可避免贴附时气泡产生，在不同位置设多处拉耳，方面流水线式分工站作业。分工站作业。分工站作业。
【技术实现步骤摘要】
一种预折式断层结构的局部导电绝缘片
[0001]本专利技术属于导电绝缘片
，具体涉及一种预折式断层结构的局部导电绝缘片。
技术介绍
[0002]对手件表面通常需要贴导电绝缘片，但现有的导电绝缘片通常为一体式结构，无预折式断层结构，也即不能分段，贴附至对手件表面时会出现气泡、贴不平等不良问题，不仅影响外观，还可能会影响其正常使用。因此，设计一种新款的带有预折式断层结构的局部导电绝缘片具有重要的现实意义。
技术实现思路
[0003]为解决现有技术中存在的技术问题，本专利技术的目的在于提供一种预折式断层结构的局部导电绝缘片。
[0004]为实现上述目的，达到上述技术效果，本专利技术采用的技术方案为：
[0005]一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，包括由上至下依次设置且相适配的离型膜、网格双面胶和PC片，所述网格双面胶的空隙内且位于离型膜与PC片之间设置有导电双面胶，所述离型膜包括顺序设置的预折式断层一、预折式断层二、预折式断层三和预折式断层四，所述预折式断层一、预折式断层二、预折式断层三和预折式断层四互不接触，所述网格双面胶包括顺序设置的预折式网格双面胶断层一、预折式网格双面胶断层二、预折式网格双面胶断层三和预折式网格双面胶断层四，所述预折式网格双面胶断层一、预折式网格双面胶断层二、预折式网格双面胶断层三和预折式网格双面胶断层四互不接触，所述PC片包括顺序相接的第一PC片、第二PC片、第三PC片和第四PC片，所述离型膜完全覆盖导电双面胶和网格双面胶但不完全覆盖PC片。
[0006]进一步的，所述预折式断层一与预折式断层二之间形成间隙一，所述预折式断层二与预折式断层三之间形成间隙二，所述预折式断层三与预折式断层四之间形成间隙三。
[0007]进一步的，所述预折式断层二右侧下方边缘开设有避位槽一和避位槽二，所述预折式断层二上部边缘具有台阶结构一，所述预折式断层三右侧下方具有台阶结构二，所述台阶结构一与台阶结构二相适配且二者之间存在空隙二，所述预折式断层四右侧下方具有凸起。
[0008]进一步的，所述预折式断层一左侧上方具有拉耳一，所述预折式断层二左侧具有拉耳二，所述预折式断层三左侧上方具有拉耳三，所述预折式断层四左侧下方具有拉耳四。
[0009]进一步的，所述离型膜1的型号为ASNW
‑
100T085B，离型力为60
±
15g/25mm。
[0010]进一步的，所述导电双面胶上开设有通孔，所述预折式断层三和第三PC片上均设置有与通孔相适配且位置一一对应的孔结构，所述通孔呈方形或圆形结构。
[0011]进一步的，所述预折式断层一、预折式网格双面胶断层一和第一PC片三者相适配且位置一一对应，所述预折式断层二、预折式网格双面胶断层二、第二PC片三者相适配且位
置一一对应，所述预折式网格双面胶断层二与预折式网格双面胶断层三之间形成的空隙内设置有导电双面胶且三者之间互相不接触，所述预折式断层三与导电双面胶和预折式网格双面胶断层三相适配并能够完全覆盖导电双面胶和预折式网格双面胶断层三但不能完全覆盖第三PC片，所述预折式断层四与预折式网格双面胶断层四和第四PC片相适配并能够完全覆盖预折式网格双面胶断层四和第四PC片。
[0012]进一步的，所述导电双面胶的厚度为50μm，表面电阻不大于0.2欧姆/平方。
[0013]进一步的，所述预折式网格双面胶断层二包括左断层和右断层，所述左断层和右断层之间存在空隙四，所述右断层右侧下方边缘且与预折式断层二相同位置处开设有避位槽一和避位槽二，所述右断层右侧设置有凹槽，所述预折式网格双面胶断层三下方边缘设置有若干个U型槽，所述预折式网格双面胶断层四包括方形断层一和方形断层二且二者之间存在空隙五，所述方形断层一上方设置方形槽，所述方形断层一右侧下方设置有双面胶凸起。
[0014]进一步的，所述PC片的厚度为0.075～0.250mm，所述第二PC片下方边缘且与预折式断层二相同位置处开设有避位槽一和避位槽二。
[0015]与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：
[0016]本专利技术公开了一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，包括由上至下依次设置且相适配的离型膜、网格双面胶和PC片，网格双面胶的空隙内且位于离型膜与PC片之间设置有导电双面胶，离型膜包括顺序设置的预折式断层一、预折式断层二、预折式断层三和预折式断层四，预折式断层一、预折式断层二、预折式断层三和预折式断层四互不接触，网格双面胶包括顺序设置的预折式网格双面胶断层一、预折式网格双面胶断层二、预折式网格双面胶断层三和预折式网格双面胶断层四，预折式网格双面胶断层一、预折式网格双面胶断层二、预折式网格双面胶断层三和预折式网格双面胶断层四互不接触，PC片包括顺序相接的第一PC片、第二PC片、第三PC片和第四PC片，离型膜完全覆盖导电双面胶和网格双面胶但不完全覆盖PC片。本专利技术提供的预折式断层结构的局部导电绝缘片，集粘附、导电、绝缘等多个功能于一体，而且导电双面胶设置于网格双面胶的空隙内、离型膜与PC片之间，具有局部导电效果，将离型膜和网格双面胶分别设计成四个互不接触的预折式断层结构，便于预折弯曲，能紧密地贴附于不同平面的对手件表面上，采用热压工艺即可实现，较之传统注射工艺，大大节省了模具费用及开模时间，工作效率显著提高，产能明显提高，采用的网格双面胶具有气槽结构，可避免贴附时气泡产生，在不同位置设置多处拉耳，方面流水线式分工站作业。
附图说明
[0017]图1为本专利技术的爆炸图；
[0018]图2为本专利技术的离型膜的结构示意图；
[0019]图3为本专利技术的导电双面胶的结构示意图；
[0020]图4为本专利技术的网格双面胶的结构示意图；
[0021]图5为本专利技术的PC片的结构示意图。
具体实施方式
[0022]下面对本专利技术进行详细阐述，以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本专利技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0023]以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综览，并且既非旨在指认出所有方面的关键性或决定性要素亦非试图界定任何或所有方面的范围。其唯一的目的是要以简化形式给出一个或多个方面的一些概念以为稍后给出的更加详细的描述之序。
[0024]如图1
‑
5所示，一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，包括由上至下依次设置且互相适配的离型膜1、导电双面胶2、网格双面胶3和PC片4。
[0025]离型膜1包括预折式断层一11、预折式断层二12、预折式断层三13和预折式断层四14，预折式断层一11、预折式断层二12、预折式断层三13和预折式断层四14顺序设置且彼此之间互相不接触，顺序形成间隙一5、间隙二6、间隙三7，预折式断层一11左侧上方具有拉耳一111，预折式断层二12左侧具有拉耳二121，预折式断层二12右侧下方边缘开设有避位槽一122和避位槽二123，预折式断层二12上部边本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，其特征在于，包括由上至下依次设置且相适配的离型膜、网格双面胶和PC片，所述网格双面胶的空隙内且位于离型膜与PC片之间设置有导电双面胶，所述离型膜包括顺序设置的预折式断层一、预折式断层二、预折式断层三和预折式断层四，所述预折式断层一、预折式断层二、预折式断层三和预折式断层四互不接触，所述网格双面胶包括顺序设置的预折式网格双面胶断层一、预折式网格双面胶断层二、预折式网格双面胶断层三和预折式网格双面胶断层四，所述预折式网格双面胶断层一、预折式网格双面胶断层二、预折式网格双面胶断层三和预折式网格双面胶断层四互不接触，所述PC片包括顺序相接的第一PC片、第二PC片、第三PC片和第四PC片，所述离型膜完全覆盖导电双面胶和网格双面胶但不完全覆盖PC片。2.根据权利要求1所述的一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，其特征在于，所述预折式断层一与预折式断层二之间形成间隙一，所述预折式断层二与预折式断层三之间形成间隙二，所述预折式断层三与预折式断层四之间形成间隙三。3.根据权利要求1所述的一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，其特征在于，所述预折式断层二右侧下方边缘开设有避位槽一和避位槽二，所述预折式断层二上部边缘具有台阶结构一，所述预折式断层三右侧下方具有台阶结构二，所述台阶结构一与台阶结构二相适配且二者之间存在空隙二，所述预折式断层四右侧下方具有凸起。4.根据权利要求1所述的一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，其特征在于，所述预折式断层一左侧上方具有拉耳一，所述预折式断层二左侧具有拉耳二，所述预折式断层三左侧上方具有拉耳三，所述预折式断层四左侧下方具有拉耳四。5.根据权利要求1所述的一种预折式断层结构的局部导电绝缘片，其特征在于，所述离型膜1的型号为ASNW
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100T085B，离型力为60
±
1...
【专利技术属性】
技术研发人员：张兵，
申请(专利权)人：苏州佳值电子工业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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