阵列基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种阵列基板及显示装置，阵列基板包括衬底基板和设置在衬底基板上的发光层、像素界定层、电极层和封装层，其中，像素界定层限定出多个像素区，发光层包括位于多个像素区中的有机发光功能层；电极层覆盖于像素界定层和有机发光功能层；封装层覆盖于电极层；封装层的背离电极层一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区，表面处理区用于使经过的光线发生散射。利用表面处理区使经过的光线发生散射的特性，可以避免用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象。圈现象。圈现象。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及显示装置


[0001]本专利技术涉及显示设备
，具体地，涉及一种阵列基板及显示装置。

技术介绍

[0002]有机发光显示器为现今的主流显示技术之一，其具有更轻薄、能耗低、亮度高、发光率好、可以显示纯黑色，并且还可以做到弯曲，在当今电视、电脑(显示器)、手机、平板等领域里得到了广泛应用。但是，在息屏状态下，用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的光圈现象，该问题亟待解决。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种阵列基板及显示装置，其可以避免用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象。
[0004]为实现上述目的，本公开实施例提供一种阵列基板，包括衬底基板和设置在衬底基板上的发光层、像素界定层、电极层和封装层，其中，像素界定层限定出多个像素区，发光层包括位于多个像素区中的有机发光功能层；电极层覆盖于像素界定层和有机发光功能层；封装层覆盖于电极层；封装层的背离电极层一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区，表面处理区形成有凹凸结构，用于使经过的光线发生散射。
[0005]可选地，像素界定层的与像素区相邻的坡面形成有缓坡区，缓坡区与衬底基板所在平面之间的夹角小于等于预设角度；缓坡区正投影于封装层背离电极层一侧的表面上的区域为投影区；
[0006]表面处理区至少包括投影区。
[0007]可选地，缓坡区位于靠近坡面的坡顶的位置。
[0008]可选地，预设角度为20r/>°
。
[0009]可选地，表面处理区为像素界定层正投影于封装层背离电极层一侧的表面的区域；或者，表面处理区为封装层背离电极层一侧的表面的整个区域。
[0010]可选地，表面处理区覆盖有反射层，反射层能够对经过的光线进行反射和透射。
[0011]可选地，反射层的反射率大于等于5％，且小于等于15％。
[0012]可选地，反射层的厚度大于等于0.2微米，且小于等于2微米。
[0013]可选地，封装层包括覆盖于电极层上的第一无机层、覆盖于第一无机层上的有机层、覆盖于有机层上的第二无机层，在第一无机层、有机层以及第二无机层中至少其中之一背离电极层的一侧的表面设置有表面处理区。
[0014]可选地，在有机层或第二无机层上设置的表面处理区为有机层或第二无机层背离电极层的一侧的整个表面。
[0015]本公开实施例还提供一种显示装置，包括上述技术方案中的阵列基板。
附图说明
[0016]图1为本申请所采用的阵列基板的一种实施方式的剖视图；
[0017]图2为本申请所采用的阵列基板的另一种实施方式的剖视图；
[0018]图3为本申请所采用的具有反光层的阵列基板的一种实施方式的剖视图；
[0019]图4为本申请所采用的显示装置的侧剖图；
[0020]图5a为光线在坡度较小的斜面上进行反射的情况示意图；
[0021]图5b为光线在坡度较大的斜面上进行反射的情况示意图；
具体实施方式
[0022]为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术的部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0023]附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是为了便于对本专利技术实施例的内容的理解。
[0024]除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
[0025]本公开实施例不限于附图中所示的实施例，而是包括基于制造工艺而形成的配置的修改。因此，附图中例示的区具有示意性属性，并且图中所示区的形状例示了元件的区的具体形状，但并不是旨在限制性的。
[0026]本公开实施例提供一种阵列基板，参照图1
‑
4所示，包括衬底基板1和设置在衬底基板1上的发光层3、像素界定层2、电极层4和封装层，其中，像素界定层2限定出多个像素区，发光层包括位于多个像素区中的有机发光功能层3；电极层4覆盖于像素界定层2和有机发光功能层3；封装层覆盖于电极层4；封装层的背离电极层4一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区9，表面处理区9形成有凹凸结构，用于使经过的光线发生散射。
[0027]其中，表面处理区9可为通过表面处理的方式，对封装层中部分或全部表面进行处理，形成凹凸结构，该凹凸结构为使表面产生众多连续的凸起或凹陷的微结构，凹凸结构为在封装层的表面产生的众多连续的凸起或凹陷的微结构，即形成相对于原有的光滑平面凸起或凹陷的结构，该结构可为凸起的半球体、椭球体或具有弧面的凸起结构等，也可为半球状或椭球状的凹槽，使封装层的表面变得相对粗糙。
[0028]另外，电极层4可为阴极层并包含阴极金属，使其具有半反半射的特性，即当有白色光线照射到电极层4上时，部分光线能够穿过电极层4并照射到其下方的其他结构上，而
另一部分光线则被电极层4反射，发生反射的位置通常为电极层4远离衬底基板1的一侧的表面。图1、图2和图4仅展示了照射到电极层4后发生反射部分的光线路径，在现有技术中，如图4所示，电极层4均匀覆盖于像素界定层2上，而像素界定层2侧面的截面形状近似为如图4所示的正梯形，其靠近发光层3的区域两侧形成有斜面，因此，电极层4相对应地也具有斜面，且可以认为在像素界定层2上的斜面与电极层4上相对应形成的斜面具有相同的坡度角(该处坡面的切向方向与衬底基板所在的平面之间的夹角)。当入射光以0度视角入射时(即如图1以及图4所示，从垂直于衬底基板所在平面的方向入射时)，单槽衍射的主极大方向与反射光的方向一致，也就是反射光的折射角为2θ，其中θ为反射光线处的电极层4的坡面的坡度角，如图4所示。这部分的能量被赋予槽间干涉的第k级主条纹，且由于红绿蓝光的波长不同，入射的白光会在反射时发生分光，即发生了类似于闪耀光栅的分光现象，被分光后的光线由显示面板的最上层出射时，即可观测到由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈。
[0029]为了能够解决用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象的问题，可考虑通过采用增大反射光线处的电极层4本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的发光层、像素界定层、电极层和封装层，其中，所述像素界定层限定出多个像素区，所述发光层包括位于多个所述像素区中的有机发光功能层；所述电极层覆盖于所述像素界定层和所述有机发光功能层；所述封装层覆盖于所述电极层；其特征在于，所述封装层的背离所述电极层一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区，所述表面处理区形成有凹凸结构，用于使经过的光线发生散射。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层的与所述像素区相邻的坡面形成有缓坡区，所述缓坡区与所述衬底基板所在平面之间的夹角小于等于预设角度；所述缓坡区正投影于所述封装层背离所述电极层一侧的表面上的区域为投影区；所述表面处理区至少包括所述投影区。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述预设角度为20
°
。4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述缓坡区位于靠近所述坡面的坡顶的位置。5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述表面处理区为所述像素界定层正投影于所述封装层背离所述电极层一侧的表面的...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐璞玉，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：