一种高稳定性载体质粒及其构建方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种高稳定性载体质粒及其构建方法和应用。该载体质粒的序列结构从5

【技术实现步骤摘要】
一种高稳定性载体质粒及其构建方法和应用


[0001]本专利技术涉及一种高稳定性载体质粒，该质粒的构建方法，以及该质粒的应用，属于生物


技术介绍

[0002]当前质粒在细胞基因治疗领域被大量使用，其中腺相关病毒包装、慢病毒包装、逆转录病毒包装以及mRNA制备需要使用的质粒的量非常大。然而在大规模制备质粒的过程中，质粒序列带来的毒性和不稳定的问题会导致大肠杆菌生长缓慢，质粒的丢失以及序列的改变，这些都会导致生产难度大大上升甚至生产失败。当前使用最多的载体质粒是以pUC57为代表的蓝白斑筛选质粒，这些质粒经过了常年科研方向的使用，而且当前仍然广泛应用，其成功是毋庸置疑的。然而，近年来新的合成技术层出不穷，最有代表性的是以Gibson Assembly为代表的重组法以及基于不对称限制性内切酶（Type IIS）的Golden Gate Assembly（Golden Gate克隆法），这些方法阳性率极高，因此不需要蓝白斑筛选，与之相比，上述蓝白斑筛选质粒的缺陷就显示出来，例如，包含BsaI、BbsI、BsmBI这些常见的不对称限制性内切酶，导本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高稳定性载体质粒，其特征是，所述载体质粒的序列结构从5
’
端至3
’
端依次为：线性化位点的酶剪切点后序列
‑
启动子序列
‑
抗性基因序列
‑
第一过渡连接序列
‑
pUC复制起始位点序列
‑
第二过渡连接序列
‑
序列taa
‑
线性化位点的酶剪切点前序列；所述线性化位点由酶剪切点前序列和酶剪切点后序列构成，酶剪切点指限制性内切酶剪切点；所述线性化位点为平末端位点。2.根据权利要求1所述的一种高稳定性载体质粒，其特征是，所述线性化位点为PvuII位点、EcoRV位点、NruI位点、HpaI位点之一；PvuII位点序列为5
’‑
CAG
↑
CTG
‑3’
，EcoRV位点序列为5
’‑
GAT
↑
ATC
‑3’
，NruI位点序列为5
’‑
TCG
↑
CGA
‑3’
，HpaI位点序列为5
’‑
GTT
↑
AAC
‑3’
，其中
↑
表示酶剪切点。3.根据权利要求1所述的一种高稳定性载体质粒，其特征是，所述启动子序列为SEQ ID NO.1；所述第一过渡连接序列为无或SEQ ID NO.2；所述pUC复制起始位点序列为SEQ ID NO.3；所述第二过渡连接序列为无或SEQ ID NO.4。4.根据权利要求1所述的一种高稳定性载体质粒，其特征是，所述抗性基因序列为卡那霉素抗性基因序列SEQ ID NO.5、青霉素抗性基因序列SEQ ID NO.6、新霉素抗性基因序列SEQ ID NO.7、氯霉素抗性基因序列SEQ ID NO.8、壮观霉...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴昕，杨熹，钱莉春，姜伟，
申请(专利权)人：苏州左旋星生物科技有限公司，
类型：发明
国别省市：