一种超疏水盖板结构及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种超疏水盖板结构及制备方法，其中超疏水盖板结构包括基材、激光成型在所述基材表面的微结构、沉积在所述基材和微纳米结构表面的镀膜层及涂覆在所述镀膜层表面的疏水层，所述微纳米结构包括微米级的多个凸起。本发明专利技术提供的超疏水盖板结构及制备方法，可以提高盖板表面水滴角和自清洁能力。可以提高盖板表面水滴角和自清洁能力。可以提高盖板表面水滴角和自清洁能力。

【技术实现步骤摘要】
一种超疏水盖板结构及制备方法


[0001]本专利技术涉及盖板
，特别涉及一种超疏水盖板结构及制备方法。

技术介绍

[0002]玻璃盖板的适用范围领域相当广泛，比如电子屏，显示屏，车载玻璃等等，现有技术中，一般采用在玻璃盖板表面喷涂或蒸镀氟化物，来提高玻璃表面的水滴角提升顺滑度。但是上述工艺制得的玻璃盖板，表面水滴角维持在110
°‑
120
°
之间，无法满足日益提升的客户需求。为了解决上述问题，本专利技术因此而来。

技术实现思路

[0003]本专利技术目的是提供一种超疏水盖板结构及制备方法，可提高盖板表面水滴角和自清洁能力。
[0004]基于上述问题，本专利技术提供的技术方案之一是：
[0005]一种超疏水盖板结构，包括基材、激光成型在所述基材表面的微结构、沉积在所述基材和微纳米结构表面的镀膜层及涂覆在所述镀膜层表面的疏水层，所述微纳米结构包括微米级的多个凸起。
[0006]在其中的一些实施方式中，所述多个凸起呈阵列布置在所述基材上。
[0007]在其中的一些实施方式中，所述凸起底部的长为a、宽为b，面积为S1；所述凸起顶部的长为c、宽为d，面积为S2；其中，0.5<a：b＜2，0.5<c：d＜2，2.0
×
10
‑5mm2＜S1＜3.0
×
10
‑2mm2，1≤S1：S2≤2。
[0008]在其中的一些实施方式中，所述凸起之间的间距宽度为L，峰与峰的宽度为RSM，深度为RZ，其中，3μm＜L＜25μm，100μm<RSM<400μm，4μm<RZ<12μm。
[0009]在其中的一些实施方式中，所述镀膜层为SO2膜层。
[0010]在其中的一些实施方式中，所述疏水层为全氟聚醚层。
[0011]在其中的一些实施方式中，所述基材为PET板材或玻璃。
[0012]基于上述问题，本专利技术提供的技术方案之二是：
[0013]上述的超疏水盖板结构的制备方法，包括以下步骤：
[0014](1)采用飞秒激光器在基材上激光镭射形成微米级的多个凸起；
[0015](2)在基材和多个凸起的表面磁控溅射形成镀膜层；
[0016](3)在镀膜层的表面涂覆疏水层。
[0017]在其中的一些实施方式中，步骤(1)中激光的功率在7～12KW，激光的扫描速度为100mm/s，激光扫描间距为30～200μm。
[0018]在其中的一些实施方式中，步骤(2)中镀膜层为SO2层，厚度为10～20nm。
[0019]与现有技术相比，本专利技术的优点是：
[0020]采用本专利技术的技术方案，在基材表面镭射形成微结构，然后在微结构表面沉积镀膜层，最后在镀膜层表面涂覆疏水层，该超疏水盖板结构可以提高盖板表面的水滴角和自
清洁能力。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1为本专利技术一种超疏水盖板结构实施例的结构示意图；
[0023]图2为本专利技术实施例中微结构的结构示意图；
[0024]图3为本专利技术实施例中凸起各部分尺寸的示意图；
[0025]其中：
[0026]1、基材；1
‑
1、凸起；
[0027]2、镀膜层；
[0028]3、疏水层。
具体实施方式
[0029]以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解，这些实施例是用于说明本专利技术而不限于限制本专利技术的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。
[0030]实施例
[0031]如图1至图3所示，本专利技术提供一种超疏水盖板结构，包括基材1、激光成型在基材1表面的微结构、沉积在基材1和微结构表面的镀膜层2及涂覆在镀膜层2表面的疏水层3，其中，微结构包括微米级的多个凸起1
‑
1，优选的，多个凸起1
‑
1呈阵列布置在基材1上。
[0032]镀膜层2为SO2膜层，可提高疏水层3的附着力。疏水层3为全氟聚醚层，基材1可采用PET板材或玻璃。
[0033]其中，凸起1
‑
1底部的长为a、宽为b，面积为S1；凸起顶部的长为c、宽为d，面积为S2；其中，0.5＜a：b＜2，0.5＜c：d＜2，2.0
×
10
‑5mm2＜S1＜3.0
×
10
‑2mm2，1≤S1：S2≤2。凸起之间的间距宽度为L，峰与峰的宽度为RSM，深度为RZ，其中，3μm＜L＜25μm，100μm<RSM<400μm，4μm＜RZ＜12μm。
[0034]上述的超疏水盖板结构的制备方法，包括以下步骤：
[0035](1)采用飞秒激光器在基材上激光镭射形成微米级的多个凸起，激光的功率在7～12KW，激光的扫描速度为100mm/s，激光扫描间距为30～200μm；
[0036](2)在基材和多个凸起的表面磁控溅射形成镀膜层，镀膜层为SO2层，厚度为10～20nm；
[0037](3)在镀膜层的表面涂覆疏水层，疏水层为全氟聚醚层。
[0038]具体的实施例及对应的测试数据如表一所示：
[0039]表一实施例的测试数据
[0040][0041]其中，实施例1和实施例2为方柱结构，实施例3至实施例4为塔状结构。
[0042]综上，该超疏水盖板可以提高盖板表面的水滴角和自清洁能力，满足使用需求。
[0043]上述实例只为说明本专利技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本专利技术的内容并据以实施，并不能以此限制本专利技术的保护范围。凡根据本专利技术精神实质所做的等效变换或修饰，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超疏水盖板结构，其特征在于：包括基材、激光成型在所述基材表面的微结构、沉积在所述基材和微纳米结构表面的镀膜层及涂覆在所述镀膜层表面的疏水层，所述微纳米结构包括微米级的多个凸起。2.根据权利要求1所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述多个凸起呈阵列布置在所述基材上。3.根据权利要求2所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述凸起底部的长为a、宽为b，面积为S1；所述凸起顶部的长为c、宽为d，面积为S2；其中，0.5＜a：b＜2，0.5＜c：d＜2，2.0
×
10
‑5mm2＜S1＜3.0
×
10
‑2mm2，1≤S1：S2≤2。4.根据权利要求3所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述凸起之间的间距宽度为L，峰与峰的宽度为RSM，深度为RZ，其中，3μm＜L＜25μm，100μm<RSM＜400μ...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜广文，刘君钧，
申请(专利权)人：苏州胜利精密制造科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：