基片架及镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基片架及镀膜设备，其中基片架包括支撑架及载样组件，载样组件包括支撑板、柔性层及限位件，柔性层覆盖于支撑板的一侧表面，柔性层远离支撑板的一侧形成载样面；限位件连接于支撑板和/或柔性层，限位件用于抵接于基片的边缘以使基片压紧于载样面。由于柔性层具有一定的弹性，即使基片存在边角翘曲、外形收缩、热变形等情况，导致基片的实际尺寸和形状可能与理论尺寸和形状存在差异，和/或载样组件的部件存在尺寸、形状和安装误差，柔性层也能够紧密地覆盖基片无需镀膜的背侧，从而有效降低工艺气体渗入基片背侧导致极片背侧沉积薄膜的可能性，提高成品率，降低生产成本。产成本。产成本。

【技术实现步骤摘要】
基片架及镀膜设备


[0001]本技术涉及镀膜
，尤其是涉及一种载样组件、反应装置及镀膜设备。

技术介绍

[0002]采用化学气相沉积法对面积较大的基片进行镀膜时，一方面，基片可能存在边角翘曲、外形收缩、热变形等情况，导致基片的实际尺寸和形状可能与理论尺寸和形状存在差异，另一方面，载样组件的部件也可能存在尺寸、形状和安装误差，因此，将基片安装至基片架上并进行化学气相沉积的过程中，工艺气体易渗入基片无需镀膜的背侧，导致基片的背侧沉积薄膜，造成基片的报废或性能的降低，成品率较低，生产成本较高。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种基片架，其载样组件设置有柔性层，柔性层能够紧密地覆盖基片无需镀膜的背侧，从而有效降低工艺气体渗入基片背侧导致极片背侧沉积薄膜的可能性，提高成品率，降低生产成本。
[0004]本技术还提出了一种包括上述基片架的镀膜设备。
[0005]本技术第一方面实施例提供的一种基片架，用于安装基片，所述基片架包括：支撑架；载样组件，安装于所述支撑架，所述载样组件包括支撑板、柔性层及限位件，所述柔性层覆盖于所述支撑板的一侧表面，所述柔性层远离所述支撑板的一侧形成载样面；所述限位件连接于所述支撑板和/或所述柔性层，所述限位件用于抵接于所述基片的边缘以使所述基片压紧于所述载样面。
[0006]本技术第一方面实施例提供的一种基片架，至少具有如下有益效果：基片架中用于安装基片的载样组件设置有柔性层，柔性层具有载样面，使用时，限位件抵接于基片的边缘，使得基片压紧于载样面，由于柔性层具有一定的弹性，即使基片存在边角翘曲、外形收缩、热变形等情况，导致基片的实际尺寸和形状可能与理论尺寸和形状存在差异，和/或载样组件的部件存在尺寸、形状和安装误差，柔性层也能够紧密地覆盖基片无需镀膜的背侧，从而有效降低工艺气体渗入基片背侧导致极片背侧沉积薄膜的可能性，提高成品率，降低生产成本。
[0007]在本技术的一些实施例中，所述载样组件还包括定位框，所述定位框连接于所述柔性层远离所述支撑板的一侧，所述定位框具有定位窗口，部分所述柔性层从所述定位窗口处露出，所述定位窗口用于容置所述基片，所述限位件至少部分位于所述定位窗口的内部。
[0008]在本技术的一些实施例中，所述载样组件还包括锁紧件，所述锁紧件包括相互连接的抵持部及连接部，所述连接部穿设于所述限位件并连接于所述支撑板和/或所述柔性层，所述抵持部用于将所述限位件压紧于所述柔性层。
[0009]在本技术的一些实施例中，所述连接部与所述支撑板和/或所述柔性层螺纹
连接，所述连接部与所述限位件能够相对转动。
[0010]在本技术的一些实施例中，所述支撑架包括支撑单元及支撑座，所述支撑单元连接于所述支撑座，所述支撑单元包括上固定件及下固定件，所述载样组件的上端连接于所述上固定件，所述载样组件的下端连接于所述下固定件。
[0011]在本技术的一些实施例中，所述载样组件设置有多个，所述支撑架包括多个所述支撑单元，多个所述支撑单元在所述支撑座的周向上分布，每一所述载样组件对应安装于一个所述支撑单元。
[0012]在本技术的一些实施例中，所述支撑架还包括多个支撑柱，多个所述支撑单元在所述支撑座的周向上分布，任意两个相邻的所述支撑单元之间均设置有所述支撑柱，每一所述上固定件的两端分别连接于两个所述支撑柱，每一所述下固定件的两端分别连接于两个所述支撑柱，每一所述载样组件均上端连接于所述上固定件、下端连接于所述下固定件且两侧分别连接于两个所述支撑柱。
[0013]在本技术的一些实施例中，所述支撑单元还包括嵌入件，所述嵌入件的一侧嵌入所述支撑柱，所述嵌入件的另一侧与所述载样组件贴合。
[0014]在本技术的一些实施例中，所述支撑单元还包括密封件，所述上固定件与所述载样组件之间、所述下固定件与所述载样组件之间均设置有所述密封件。
[0015]本技术第二方面实施例提供的一种镀膜设备，用于对基片进行镀膜，镀膜设备包括：外壳；本技术第一方面任一实施例提供的基片架，所述支撑架安装于所述外壳，所述载样组件容置于所述外壳的内部，所述载样组件用于安装所述基片的一侧与所述外壳的内壁之间形成有工艺气体腔，所述工艺气体腔用于容置工艺气体，所述载样组件的另一侧与所述外壳的内壁之间形成有惰性气体腔，所述惰性气体腔用于容置惰性气体；驱动装置，连接于所述支撑架，所述驱动装置用于驱动所述基片架相对所述外壳转动。
[0016]本技术第二方面实施例提供的一种镀膜设备，至少具有如下有益效果：采用本技术第一方面实施例提供的基片架，其中的载样组件设置有柔性层，将基片安装至载样组件，柔性层能够紧密地覆盖基片无需镀膜的背侧，从而有效降低工艺气体渗入基片背侧导致极片背侧沉积薄膜的可能性，提高成品率，降低生产成本。
[0017]在本技术的一些实施例中，所述外壳的内壁设置有第一导向结构，所述支撑架设置有与所述第一导向结构配合的第二导向结构，所述第一导向结构与所述第二导向结构用于对所述支撑架相对所述外壳的转动进行导向。
[0018]在本技术的一些实施例中，所述第一导向结构具有沿所述支撑架的转动轨迹延伸的环形滑槽，所述第二导向结构包括导向柱及滚珠，所述导向柱连接于所述支撑架，所述滚珠转动连接于所述导向柱且嵌设于所述环形滑槽。
[0019]在本技术的一些实施例中，所述第二导向结构还包括滚珠座及弹性件，所述滚珠座可滑动地套设于所述导向柱，所述滚珠转动连接于所述滚珠座，所述弹性件套设于所述导向柱，所述弹性件的一端抵接于所述支撑架且另一端抵接于所述滚珠座。
[0020]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0021]下面结合附图和实施例对本技术做进一步的说明，其中：
[0022]图1为本技术第一方面的一些实施例提供的基片架的立体示意图；
[0023]图2为图1所示的基片架的载样组件的主视图
[0024]图3为图2所示的载样组件的侧视图；
[0025]图4为图2所示的载样组件的爆炸示意图；
[0026]图5为本技术第二方面的一些实施例提供的镀膜设备的立体示意图；
[0027]图6为图4中的镀膜设备的剖视图；
[0028]图7为图6中A处的放大图；
[0029]图8为本技术第二方面的另一些实施例提供的镀膜设备的剖视图。
[0030]附图标记：
[0031]基片架10，载样组件100，支撑板110，柔性层120，载样面121，限位件130，定位框140，定位窗口141，锁紧件150，抵持部151，连接部152，把手160，外壳200，上壁板210，工艺气体通入口221，第一侧壁板220，第二侧壁板230，下壁板2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基片架，用于安装基片，其特征在于，所述基片架包括：支撑架；载样组件，安装于所述支撑架，所述载样组件包括支撑板、柔性层及限位件，所述柔性层覆盖于所述支撑板的一侧表面，所述柔性层远离所述支撑板的一侧形成载样面；所述限位件连接于所述支撑板和/或所述柔性层，所述限位件用于抵接于所述基片的边缘以使所述基片压紧于所述载样面。2.根据权利要求1所述的基片架，其特征在于，所述载样组件还包括定位框，所述定位框连接于所述柔性层远离所述支撑板的一侧，所述定位框具有定位窗口，部分所述柔性层从所述定位窗口处露出，所述定位窗口用于容置所述基片，所述限位件至少部分位于所述定位窗口的内部。3.根据权利要求1所述的基片架，其特征在于，所述载样组件还包括锁紧件，所述锁紧件包括相互连接的抵持部及连接部，所述连接部穿设于所述限位件并连接于所述支撑板和/或所述柔性层，所述抵持部用于将所述限位件压紧于所述柔性层。4.根据权利要求3所述的基片架，其特征在于，所述连接部与所述支撑板和/或所述柔性层螺纹连接，所述连接部与所述限位件能够相对转动。5.根据权利要求1所述的基片架，其特征在于，所述支撑架包括支撑单元及支撑座，所述支撑单元连接于所述支撑座，所述支撑单元包括上固定件及下固定件，所述载样组件的上端连接于所述上固定件，所述载样组件的下端连接于所述下固定件。6.根据权利要求5所述的基片架，其特征在于，所述载样组件设置有多个，所述支撑架包括多个所述支撑单元，多个所述支撑单元在所述支撑座的周向上依次排布，每一所述载样组件对应安装于一个所述支撑单元。7.根据权利要求6所述的基片架，其特征在于，所述支撑架还包括多个支撑柱，多个所述支撑单元在所述支撑座的周向上分布，任意两个相邻的所述支撑单元之间均设置有所述支撑柱，每一所述上固定件的两端分别连接于两个所述支撑柱，每一所述下固定件的两端分...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：深圳市原速光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：