一种铝合金件表面抛光控制方法及系统技术方案

本发明专利技术公开了一种铝合金件表面抛光控制方法及系统，涉及智能控制技术领域，所述方法包括：通过采集铝合金工件的表观图像得到粗糙度分析结果；构建目标结构模型；得到目标粗糙纹理数据，输出目标抛光方案，其中包括目标抛光路径和目标抛光工具；对目标抛光工具基于目标抛光路径对目标结构模型的抛光处理进行仿真分析，得到目标仿真抛光结果；将目标抛光方案作为目标控制方案进行抛光。解决了现有通过抛光处理不具备针对性，影响铝合金工件的抛光处理效果和精度的问题。达到了提高铝合金工件抛光控制个性化程度，进而提高抛光准确性和抛光质量，进一步提升铝合金工件表面品质，同时智能化地抛光控制有效提高抛光效率的技术效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种铝合金件表面抛光控制方法及系统


[0001]本专利技术涉及智能控制
，尤其涉及一种铝合金件表面抛光控制方法及系统。

技术介绍

[0002]单点金刚石车削铝合金表面具有较好的表面质量和精度，然而随着对铝合金件性能要求的提高，对其加工精度和表面质量的要求也越来越严苛。其中，抛光作为对铝合金件制造的最后一道工序，直接决定着对铝合金件最终的面型精度和表面质量。抛光轨迹留下的抛光纹路会使加工表面产生光栅效应，大大增加了镜面光的散射现象。研究根据铝合金件表面特征针对性设置抛光方案，对于提高抛光控制精度、提升铝合金工件表面质量具有重要意义。
[0003]然而，现有通过预设的通用抛光方案对所有铝合金工件进行程序化抛光，然而由于各铝合金工件存在个体偏差，导致抛光处理不具备针对性，进而影响铝合金工件的抛光处理效果和精度的技术问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种铝合金件表面抛光控制方法及系统，用以解决现有通过预设的通用抛光方案对所有铝合金工件进行程序化抛光，然而由于各铝合金工件存在个体偏差，导致抛光处理不具备针对性，进而影响铝合金工件的抛光处理效果和精度的技术问题。
[0005]鉴于上述问题，本专利技术提供了一种铝合金件表面抛光控制方法及系统。
[0006]第一方面，本专利技术提供了一种铝合金件表面抛光控制方法，所述方法通过一种铝合金件表面抛光控制系统实现，其中，所述方法包括：通过采集铝合金工件的表观图像，并通过表观检测模型对所述表观图像进行分析，得到粗糙度分析结果；提取所述粗糙度分析结果中目标网格的目标粗糙信息，并根据所述目标粗糙信息构建目标结构模型；分析所述目标粗糙信息得到目标粗糙纹理数据，并通过抛光分析模型对所述目标粗糙纹理数据进行分析，输出目标抛光方案，其中，所述目标抛光方案包括目标抛光路径和目标抛光工具；对所述目标抛光工具基于所述目标抛光路径对所述目标结构模型的抛光处理进行仿真分析，得到目标仿真抛光结果；判断所述目标仿真抛光结果是否满足预设抛光需求；若是满足，将所述目标抛光方案作为目标控制方案，并对所述目标网格进行抛光。
[0007]第二方面，本专利技术还提供了一种铝合金件表面抛光控制系统，用于执行如第一方面所述的一种铝合金件表面抛光控制方法，其中，所述系统包括：表观分析模块，其用于采集铝合金工件的表观图像，并通过表观检测模型对所述表观图像进行分析，得到粗糙度分析结果；模型构建模块，其用于提取所述粗糙度分析结果中目标网格的目标粗糙信息，并根据所述目标粗糙信息构建目标结构模型；方案获取模块，其用于分析所述目标粗糙信息得到目标粗糙纹理数据，并通过抛光分析模型对所述目标粗糙纹理数据进行分析，输出目标
抛光方案，其中，所述目标抛光方案包括目标抛光路径和目标抛光工具；仿真抛光模块，其用于对所述目标抛光工具基于所述目标抛光路径对所述目标结构模型的抛光处理进行仿真分析，得到目标仿真抛光结果；智能判断模块，其用于判断所述目标仿真抛光结果是否满足预设抛光需求；抛光控制模块，其用于若是满足，将所述目标抛光方案作为目标控制方案，并对所述目标网格进行抛光。
[0008]第三方面，本专利技术还提供了一种电子设备，包括：至少一个处理器；以及与所述至少一个处理器通信连接的存储器；其中，所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够执行上述第一方面中任一项所述的方法。
[0009]第四方面，一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序在执行时实现上述第一方面中任一项所述方法的步骤。
[0010]本专利技术中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：通过采集铝合金工件的表观图像，并通过表观检测模型对所述表观图像进行分析，得到粗糙度分析结果；提取所述粗糙度分析结果中目标网格的目标粗糙信息，并根据所述目标粗糙信息构建目标结构模型；分析所述目标粗糙信息得到目标粗糙纹理数据，并通过抛光分析模型对所述目标粗糙纹理数据进行分析，输出目标抛光方案，其中，所述目标抛光方案包括目标抛光路径和目标抛光工具；对所述目标抛光工具基于所述目标抛光路径对所述目标结构模型的抛光处理进行仿真分析，得到目标仿真抛光结果；判断所述目标仿真抛光结果是否满足预设抛光需求；若是满足，将所述目标抛光方案作为目标控制方案，并对所述目标网格进行抛光。通过表观检测模型对铝合金工件的表观图像进行智能化分析处理，从而得到该铝合金工件的表面的粗糙度分析结果，为后续针对性制定该铝合金工件的抛光方案提供特征基础，达到了有效提高抛光针对性的效果。通过对该铝合金工件中的各个网格区域依次进行分析并构建对应的粗糙结构模型，为对该铝合金工件的不同网格区域进行个性化的抛光提供仿真模型基础。通过基于目标结构模型进行抛光仿真，进而分析仿真抛光结果，并在仿真抛光结果满足预设抛光需求的情况下，利用前述得到的抛光方案进行实际抛光控制。通过仿真抛光为实际抛光处理提供了理论验证可行有效的抛光方案，为提高抛光精度打下了基础。达到了提高铝合金工件抛光控制个性化程度，进而提高抛光准确性和抛光质量，进一步提升铝合金工件表面品质，同时智能化地抛光控制有效提高抛光效率的技术效果。
[0011]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本专利技术的具体实施方式。应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本专利技术的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本专利技术的范围。本专利技术的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
[0012]为了更清楚地说明本专利技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是示例性的，
对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0013]图1为本专利技术一种铝合金件表面抛光控制方法的流程示意图；图2为本专利技术一种铝合金件表面抛光控制方法中根据所述第一粗糙级别得到所述粗糙度分析结果的流程示意图；图3为本专利技术一种铝合金件表面抛光控制方法中作为所述目标抛光路径的流程示意图；图4为本专利技术一种铝合金件表面抛光控制方法中将所述目标磨粒作为所述目标抛光工具的流程示意图；图5为本专利技术一种铝合金件表面抛光控制方法中所述目标仿真抛光结果满足所述预设抛光需求的流程示意图；图6为本专利技术一种铝合金件表面抛光控制系统的结构示意图。
[0014]附图标记说明：表观分析模块11，模型构建模块12，方案获取模块13，仿真抛光模块14，智能判断模块15，抛光控制模块16。
具体实施方式
[0015]本专利技术通过提供一种铝合金件表面抛光控制方法及系统，解决了现有通过预设的通用抛光方案对所有铝合金工件进行程序化抛光，然而由于各铝合金工件存在个体偏差，导致抛光处理不具备针对性，进而影响铝合金工件的抛光处理效果和精度的技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铝合金件表面抛光控制方法，其特征在于，包括：采集铝合金工件的表观图像，并通过表观检测模型对所述表观图像进行分析，得到粗糙度分析结果；提取所述粗糙度分析结果中目标网格的目标粗糙信息，并根据所述目标粗糙信息构建目标结构模型；分析所述目标粗糙信息得到目标粗糙纹理数据，并通过抛光分析模型对所述目标粗糙纹理数据进行分析，输出目标抛光方案，其中，所述目标抛光方案包括目标抛光路径和目标抛光工具；对所述目标抛光工具基于所述目标抛光路径对所述目标结构模型的抛光处理进行仿真分析，得到目标仿真抛光结果；判断所述目标仿真抛光结果是否满足预设抛光需求；若是满足，将所述目标抛光方案作为目标控制方案，并对所述目标网格进行抛光。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述得到粗糙度分析结果，包括：基于所述表观检测模型中的图像预处理模块，对所述表观图像进行预处理，得到预处理表观图像；对所述预处理表观图像进行网格划分，得到图像网格集；提取所述图像网格集中的第一网格，并对所述第一网格进行离散余弦变换，得到第一表观离散余弦系数；提取所述第一表观离散余弦系数中的第一表观交流系数，并计算所述表观图像的第一表观纹理特征值；判断所述第一表观纹理特征值是否符合预设特征值阈值；若是不符合，匹配所述第一表观纹理特征值的第一粗糙级别，并根据所述第一粗糙级别得到所述粗糙度分析结果。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述计算所述表观图像的所述第一表观纹理特征值的计算公式如下：，其中，是指所述第一表观纹理特征值，是指所述第一表观交流系数，m是指所述第一网格的总分区数，是指所述第一网格的第个子分区，是指所述第一表观交流系数对所述第一表观纹理特征值的影响因子。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述计算所述表观图像的所述第一表观纹理特征值之后，还包括：获取预设特征损失函数；基于所述预设特征损失函数对所述第一表观纹理特征值进行损失分析，其中，所述预设特征损失函数的计算公式如下：，其中，
是指所述预设特征损失函数，是指所述第一表观纹理特征值，是指所述第一表观纹理特征值的实际值，i是指所述第一表观纹理特征值或所述第一表观纹理特征值的实际值的第i个参数，n是指所述第一表观纹理特征值或所述第一表观纹理特征值的实际值的参数的总个数；是指变量调节系数，且，其中是指影响因子调节系数，是指特征计算调节系数。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述输出目标抛光方案，其中，所述目标抛光方案包括目标抛光路径和目标抛光工...

【专利技术属性】
技术研发人员：周东帅，杨志伟，施勇刚，
申请(专利权)人：苏州先准电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：