一种带掩膜的二值图光流法制造技术

本发明专利技术公开了一种带掩膜的二值图光流法，包括以下步骤：S01、将设计图进行二值化处理，获得二值图TemplateBin；S02、将拍摄图进行二值化处理，获得二值图SourceBin；S03、生成与TemplateBin和SourceBin同样大小的掩膜图MaskBin；S04、计算在掩膜图MaskBin非0位置处SourceBin到TemplateBin的光流场。该发明专利技术提供的带掩膜的二值图光流法，通过对设计图像和拍摄图像分别执行二值化处理，并对处理后的图片生成与之相同的掩膜图，通过对掩膜图在二值化处理后的设计图像和拍摄图像之间光流场参数计算后判断，确定当前成品与设计图保持在可允许范围内，从而快速检测残次品，提供工作效率。提供工作效率。提供工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种带掩膜的二值图光流法


[0001]本专利技术涉及图像处理
，具体涉及一种带掩膜的二值图光流法。

技术介绍

[0002]通过图像对印刷类产品进行缺陷检测时，需要首先将产品拍摄图与产品设计图进行贴合，然后识别拍摄图中有误缺陷。因为常见的贴合方法有模板匹配方法、特征匹配方法以及光流法等。模板匹配方法在图像存在畸变的情况下精度较差，特征匹配方法在图像特征较少或不明显的情况下不适用。在小变形的情况下使用光流法可以有效的将产品拍摄图贴合到设计图上，但在图像像素数量巨大的情况下计算时间过长。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种带掩膜的二值图光流法，解决图像像素数量巨大的情况下使用光流法进行图像贴合耗时过大的问题。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种带掩膜的二值图光流法，包括以下步骤：
[0005]S01、将设计图进行二值化处理，获得二值图TemplateBin；
[0006]S02、将拍摄图进行二值化处理，获得二值图SourceBin；
>[0007]S03本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带掩膜的二值图光流法，其特征在于，包括以下步骤：S01、将设计图进行二值化处理，获得二值图TemplateBin；S02、将拍摄图进行二值化处理，获得二值图SourceBin；S03、生成与TemplateBin和SourceBin同样大小的掩膜图MaskBin；S04、计算在掩膜图MaskBin非0位置处SourceBin到TemplateBin的光流场。2.根据权利要求1所述的一种带掩膜的二值图光流法，其特征在于，所述步骤S003中当TemplateBin或SourceBin中存在非零的像素值时，掩膜图MaskBin对应位置的像素值设为255；或当TemplateBin或SourceBin中不存在非零的像素值时，掩膜图MaskBin对应位置的像素值设为0。3.根据权利要求1所述的一种带掩膜的二值图光流法，其特征在于，所述步骤S01对所述设计图执行的二值化处理步骤如下：S11、对获取的所述设计图的通道数量进行判断：若通道数为1，图像本身为灰色图像，无需处理；若通道数大于1，取对每个通道的像素值做加权平均得到灰度图像；S12、设定二值化阈值，然后对灰度图像做二值化处理得到二值图TemplateBin。4.根据权利要求1所述的一种带掩膜的二值图光流法，其特征在于，所述步骤S02中对所述拍摄图执行的二值化处理步骤如下：S21、对获取的所述拍摄图的通道数量进行判断：若通道数为1，图像本身为灰色图像，无需处理；若通道...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗银，杨征军，薛军帅，
申请(专利权)人：深圳市华昇精密科技有限公司，
类型：发明
国别省市：