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本发明公开了一种带掩膜的二值图光流法，包括以下步骤：S01、将设计图进行二值化处理，获得二值图TemplateBin；S02、将拍摄图进行二值化处理，获得二值图SourceBin；S03、生成与TemplateBin和SourceBin同样...
该专利属于深圳市华昇精密科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华昇精密科技有限公司授权不得商用。

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