【技术实现步骤摘要】
一种提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法
[0001]本专利技术涉及稀土磁材镀膜晶界扩散
,特别涉及一种提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法。
技术介绍
[0002]在钕铁硼等磁性材料中添加铽/镝有利于提高其磁性能,晶界扩散渗铽/镝过程添加预设金属元素,有利于改善晶界扩散和优化磁体性能。沉积薄膜的方法包括涂覆法、电泳法、浸渍法、磁控溅射等,其中磁控溅射镀膜是钕铁硼晶界扩散的主流方式之一,该方法较其他方法,获得的薄膜与磁体结合力高、膜厚度可控,且使用的重稀土用量更少,无需制备粉体根除消除易燃易爆风险,尤其是化学活性高的金属粉或合金粉体。采用单质稀土靶材和有益元素稀土靶材依次溅射,存在溅射效率低问题,成分控制困难;此外,稀土平面靶材利用率一般为30%
‑
50%,靶材利用率低。
技术实现思路
[0003]本专利技术实施例的目的是提供一种提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法,为提高稀土靶材利用率、溅射效率和实现成分精准控制,同时达到缩短晶界扩散时间或降低扩散温度,将稀土与预设金属元素组合在一起 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将稀土旋转靶材与预设金属靶管制备成稀土合金旋转靶材,所述稀土旋转靶材的材料为铽、镝、钬、钆中的一种,所述预设金属靶管包括铝、铜、镍、铁等中的至少一种;(2)将所述稀土合金旋转靶材与背管焊接在一起;(3)将所述稀土合金旋转靶材与所述背管安装于镀膜生产线上,靶材功率密度为0.5W/cm2‑
6W/cm2,磁体增重控制在0.2%
‑
0.6%;(4)对磁铁进行热处理和回火处理,得到处理后的稀土合金靶材。2.根据权利要求1所述的提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法,其特征在于,步骤(1)中,通过熔铸法或粉末冶金法将所述稀土旋转靶材与所述预设金属靶管制备成所述稀土合金旋转靶材。3.根据权利要求1或2所述的提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法,其特征在于,所述稀土旋转靶材的材料为铽或镝。4.根据权利要求1
‑
3任一所述的提高钕铁硼性能的稀土合金靶材制备方法,其特征在于,所述预设金属靶管包括铝和/或铜。5.根据权利要求1
‑
4任一所述的提高钕铁硼性能的...
【专利技术属性】
技术研发人员:王志强,钟嘉珉,陈德宏,李宗安,庞思明,张小伟,吴道高,程军,杨秉政,张艳岭,张洪超,程博,
申请(专利权)人:有研稀土高技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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