一种偏振薄膜及其在半导体器件中的应用、光学隔离器制造技术

本发明专利技术提供了一种偏振薄膜及其在半导体器件中的应用、光学隔离器。本发明专利技术的偏振薄膜，包括多个相互交错设置的相变薄膜或包括多个相互交错设置的相变薄膜与非相变薄膜；本发明专利技术的偏振薄膜可应用于制备半导体器件，具体的，将该偏振薄膜应用于光学隔离器中，当光学隔离器入射窗口由于环境温度提升，此时窗口激光光能大部分被金属相的相变薄膜吸收，变成了透射率极低的状态，自动关闭了光源的入射，起到了自适应的保护和屏蔽作用；当环境温度降低或激光辐照下降至阈值以下，相变薄膜会瞬时切换至介质膜的高透射状态，使得整体激光顺利穿过光学隔离器，因此采用金属

【技术实现步骤摘要】
一种偏振薄膜及其在半导体器件中的应用、光学隔离器


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种偏振薄膜及其在半导体器件中的应用、光学隔离器。

技术介绍

[0002]由于半导体制造是在硅片上加工出各种微观结构，因此除了原始的硅基材料外还需要通过沉积多层薄膜体系引入非硅材料(如非硅介质层、金属层)实现不同功能。对每个工艺环节都需要进行精密检测，类似包括膜层的厚度、表面缺陷、纯度等物理性能进行严格量测。半导体量测设备应用了激光光学、非线性光学和分辩光谱学及高精度干涉测量等
，为了消除光学设备中后端系统产生的背面反射等杂散光对前级系统的影响，半导体量测设备系统光路中通常需用光学隔离器进行屏蔽。
[0003]法拉第光学隔离器的偏振特性可将隔离器分成偏振相关型和偏振无关型两种，在现代高精度半导体检测设备中较多的应用到偏振型法拉第光学隔离器。其基本结构由进光端口偏振器件、磁光晶体法拉第旋转器、出光端口偏振薄膜器件三部分构成，在这个结构上完成对光偏振态的非互易调整。进/出光端口的偏振元件一般采用介质膜偏振分束膜，如平板偏振片或偏振分光棱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种偏振薄膜，其特征在于，包括多个相互交错设置的相变薄膜或包括多个相互交错设置的相变薄膜与非相变薄膜；其中，所述相变薄膜的材料为金属
‑
半导体相变材料。2.如权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述金属
‑
半导体相变材料包括二氧化钒、氧化钨、氧化钴中的任一种。3.如权利要求2所述的偏振薄膜，其特征在于，所述非相变薄膜的材料包括二氧化硅、Ta2O3、Nb2O5、Ti2O3中的任一种。4.如权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述相变薄膜的物理厚度为31.8～95.6nm，所述非相变薄膜的物理厚度为380～517nm。5.如权利要求3所述的偏振薄膜，其特征在于，包括相互交错设置的二氧化钒相变薄膜和二氧化硅非相变薄膜。6.如权利要求5所述的偏振薄膜，其特征在于，所述偏振薄膜的结构为aHbLcHdL eHfL；其中，二氧化钒相变薄膜为高折射率膜层，二氧化硅非相变薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：王广飞，柳彦龙，翟冬梅，伊铁红，皮正豪，赵健，王嘉铭，孟翔祥，张建国，
申请(专利权)人：北方集成电路技术创新中心北京有限公司，
类型：发明
国别省市：