一种用于TFT-LCD滤光片制程的弱碱性显影液制造技术

本发明专利技术公开了一种用于TFT

【技术实现步骤摘要】
一种用于TFT
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LCD滤光片制程的弱碱性显影液


[0001]本专利技术属于湿电子化学品领域，具体涉及一种用于TFT
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LCD滤光片制程的弱碱性显影液。

技术介绍

[0002]TFT
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LCD具有使用特性好、适用范围宽、制造技术自动化程度高、大规模工业化生产方便的优点，并且TFT
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LCD易于集成化和更新换代，是大规模半导体集成电路技术和光源技术的完美结合，发展潜力巨大。TFT
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LCD的制程包括阵列（Array）、彩色滤光片（CF）、成盒（Cell）和模组（Module）。其中CF制程在整个TFT
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LCD制程中占据重要地位。
[0003]CF制程中光刻工艺通常包括涂胶、预烘、曝光、显影和后烘等。其中，显影工艺就是碱性的显影液和光阻发生化学反应，即将未经曝光的部分溶解，保留下经过曝光的光阻，从而将掩膜版上的透光区图形转移到光阻上。光刻胶的主要成分为粘性高分子（大多数为丙烯酸酯类物质）、交联剂、光引发剂、有机溶剂、分散剂以及颜料分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于TFT
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LCD滤光片制程的弱碱性显影液，其特征在于，按重量百分数之和为100%计，所述弱碱性显影液中各原料及其所占重量百分数为：碱性物质4~15％，含共轭结构的分散剂5~15％，增溶剂0.5~5％，余量为水。2.根据权利要求1所述的弱碱性显影液，其特征在于：所述含共轭结构的分散剂的化学结构式为：，其中，m和n为0~200的整数且不为0。3.根据权利要求2所述的弱碱性显影液，其特征在于：所述含共轭结构的分散剂的制备步骤如下：（1）将一定量的联苯三唑醇和催化剂混合，保持温度在145~155℃下脱水处理20 min，采用氮气置换体系气体5次后，加入少量环氧丙烷，在150℃、压力小于0.3 MPa条件下进行诱导反应，待反应压力明显下降、温度急剧升高时，逐渐加入余量环氧丙烷，加完后保持温度在145~165℃、压力小于0.3 MPa进行反应，直到反应压力不再变小后继续保持温度30 min，得到中间产物；（2）在所得中间产物中加入少量环氧乙烷，在150℃、压力小于0.3 M Pa的条件下进行诱导反应，待压力明显下降、温度急剧升高时，逐渐加入余量环氧...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖龙强，张文哲，侯琳熙，葛新，孙世豪，赵玉来，蔡静宇，阴翔宇，
申请(专利权)人：清源创新实验室，
类型：发明
国别省市：