一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及反光膜技术领域，具体为一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法。方案先对聚酯薄膜进行两面电晕处理，再在聚酯薄膜一面涂覆光固化胶，利用模具辊挤压后光固化，形成棱镜微结构，反光层采用真空蒸镀加工，接着利用含氟硅氧烷单体、季戊四醇四

【技术实现步骤摘要】
一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及反光膜
，具体为一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]反光膜，是一种制成薄膜可直接应用的逆反射材料，一般应用为道路交通标志、车身反光标识、反光型广告材料、户外设施指示标牌、设备和管道反光标识等；目前使用的反光膜主要可以分为微棱镜结构和玻璃微珠结构两大类，在反光膜制造时一般会采用PMMA、PET或PVC作为表面保护层，但其耐水解性能较差，整体耐候性无法满足实际需求，因此，采用含氟材料作为表面层逐渐成为我们的主流选择。
[0003]另外，当反光膜作为交通标志使用时，有时会将两层反光膜复合，比如高速公路上的交通标志，通常是绿底白字，就是绿色反光膜作为底膜，白色反光膜作为字膜，而采用氟材料作为表面保护层时，容易导致字膜粘不住，实用性较差。
[0004]基于以上情况，本申请公开了一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法，在保证表面保护层耐污防水性能的同时，制得的反光膜能够适用于多层复合的情境，以解决现有存在的技术问题。
专利技术内容
[00本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高耐候自清洁反光膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)取电晕处理后的聚酯薄膜，在聚酯薄膜一面涂覆光固化胶，模具辊挤压，紫外光固化，形成棱镜微结构，再在棱镜微结构表面蒸镀反光层；(2)取含氟硅氧烷单体、季戊四醇四
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巯基丙酸酯和乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷混合，加入光引发剂搅拌均匀，二氯甲烷搅拌溶解，得到保护液；将步骤(1)处理后的聚酯薄膜置于保护液中浸渍，紫外光下固化50～60min，形成保护层；(3)取步骤(2)处理后的聚酯薄膜，在聚酯薄膜远离反光层的一面涂布压敏胶，压敏胶表面覆离型膜，紫外光下固化，分切，得到成品。2.根据权利要求1所述的一种高耐候自清洁反光膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，紫外光固化时间为5～10s，紫外光的光照强度为350～400mW/cm2。3.根据权利要求1所述的一种高耐候自清洁反光膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，所述含氟硅氧烷单体、季戊四醇四
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巯基丙酸酯、乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷的摩尔比为1：1：(3～4)；所述光引发剂用量为乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷的2.5～3wt％。4.根据权利要求1所述的一种高耐候自清洁反光膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，含氟硅氧烷单体的制备步骤为：S1：取甲醇和盐酸，85～90℃油浴下搅拌均匀，再加入γ
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巯丙基三甲氧基硅烷，搅拌反应70～75h，反应结束后静置，分离上层清液，通过甲醇中和下层pH，旋蒸浓缩除去甲醇，纯化，得到巯基POSS单体；S2：取巯基POSS单体、全氟丁基乙烯和光引发剂混合，...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘晶，
申请(专利权)人：湖北棱镜新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：