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本发明涉及反光膜技术领域，具体为一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法。方案先对聚酯薄膜进行两面电晕处理，再在聚酯薄膜一面涂覆光固化胶，利用模具辊挤压后光固化，形成棱镜微结构，反光层采用真空蒸镀加工，接着利用含氟硅氧烷单体、季戊四醇四
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该专利属于湖北棱镜新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北棱镜新材料科技有限公司授权不得商用。

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