【技术实现步骤摘要】
一种低挥发高导热垫片及其制备方法和应用
[0001]本专利技术涉及有机硅导热垫片
,尤其涉及一种低挥发高导热垫片及其制备方法和应用。
技术介绍
[0002]导热垫片能很好的将电子元器件内部产生的热量导出,大幅提高了产品的使用寿命和使用稳定性。但是产品在使用过程中,导热垫片内部有一些小分子会逐渐挥发出来。由于导热垫片使用在光模块元器件内部,挥发出来的小分子容易聚集在玻璃等透明材质的表面,导致镜头模糊;此外,一些光模块元器件功率较大,发热严重,对垫片的导热系数要求较高,如何提供一种低挥发高导热的垫片成为亟需解决的问题。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于克服现有技术中的缺陷,提供一种低挥发高导热垫片及其制备方法和应用。
[0004]为了实现上述专利技术目的,本专利技术提供以下技术方案:
[0005]本专利技术提供了一种低挥发高导热垫片,由包含下列质量份的原料制备得到:
[0006]乙烯基树脂90~110份、含氢硅油130~140份、二甲基硅油20~40份、偶联剂70~85 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种低挥发高导热垫片,其特征在于,由包含下列质量份的原料制备得到:乙烯基树脂90~110份、含氢硅油130~140份、二甲基硅油20~40份、偶联剂70~85份、催化剂1~3份、炔醇类抑制剂1~3份、氧化铝A2000~2200份、氧化铝B 1100~1300份、氧化铝C 400~500份、氧化铝D 420~470份、氧化锌275~300份。2.如权利要求1所述的垫片,其特征在于,所述乙烯基树脂的乙烯基含量为1~1.3mmoles/gm,所述乙烯基树脂的粘度为900~1100cP。3.如权利要求1或2所述的垫片,其特征在于,所述含氢硅油的活泼氢含量为0.3~0.5mmoles/gm,所述含氢硅油的粘度为90~110cSt;所述二甲基硅油的粘度为450~550cP。4.如权利要求3所述的垫片,其特征在于,所述偶联剂为十二烷基硅烷偶联剂,所述催化剂为铂金催化剂。5.如权利要求1或4所述的垫片,其特征在于,所述氧化铝A的粒径为110~130μm,所述氧化铝B的粒径为15~25μm,所述氧化铝C的粒径为4~6μm,所述氧化铝D的粒径为1~3μm;所述氧化锌的粒径为0.4~0.6μm。6.权利要求1~5任意一项所述垫片的制备方法,其特征在于,包含下列步骤:(1)将乙烯基树脂、含氢硅油、二甲基硅油和偶联剂混合得到基础体系;(2)将氧化铝A和基础体系混合,得到中间物A;(3)将中间物A和氧化铝B混合,得到中间物B;(4)将中间物B和氧化铝C混...
【专利技术属性】
技术研发人员:彭庆元,万炜涛,王红玉,陈田安,
申请(专利权)人:深圳德邦界面材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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