氟树脂薄膜以及橡胶成型体制造技术

提供一种氟树脂薄膜，其含有氟树脂，具有经过改性处理的表面。所述表面中的碳、氧以及氟的各元素的比例以所述各元素的总和为100原子％计，碳：30原子％以上且70原子％以下，氧：0.6原子％以上且小于13原子％，氟：60原子％以下。该氟树脂薄膜是具有经过改性处理的表面的薄膜，适于制造具有由该薄膜覆盖的表面的橡胶成型体。成型体。成型体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】氟树脂薄膜以及橡胶成型体


[0001]本专利技术涉及氟树脂薄膜以及橡胶成型体。

技术介绍

[0002]氟树脂薄膜由于化学上稳定，被用作覆盖含橡胶基材的表面的薄膜。具备含橡胶基材和覆盖其表面的氟树脂薄膜的橡胶成型体被用作隔膜、辊、垫片、软管、管等。专利文献1公开了表面被氟树脂薄膜覆盖的隔膜。专利文献1的隔膜对大气中的臭氧、燃料等具有高耐久性。
[0003]另一方面，氟树脂薄膜对其它物质、构件的粘接性一般较低。众所周知，氟树脂薄膜的粘接性通过溅射蚀刻处理等改性处理而提高(参照专利文献2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本实愿昭53
‑
182502号(日本实开昭55
‑
98854号)的微型薄膜
[0007]专利文献2：日本特开2012
‑
233189号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的问题
[0009]对含橡胶基材的粘接性不足时，橡胶成型体容易产生氟树脂薄膜从含橡胶基材浮起等的缺陷。通过改性处理，氟树脂薄膜和含橡胶基材之间的粘接性提高。然而，根据本专利技术人等的研究，发现在使用经过改性处理的氟树脂薄膜的情况下，得到的橡胶成型体也会产生上述缺陷，并且上述缺陷在以氟树脂薄膜配置在模具内的状态对橡胶赋形的模内成型时特别容易产生。
[0010]本专利技术的目的是提供一种具有经过改性处理的表面的氟树脂薄膜，该氟树脂薄膜适于制造具有由该薄膜覆盖的表面的橡胶成型体。
[0011]用于解决问题的方案
[0012]本专利技术提供一种氟树脂薄膜，其含有氟树脂，
[0013]所述氟树脂薄膜具有经过改性处理的表面，
[0014]所述表面中的碳、氧以及氟的各元素的比例以所述各元素的总和为100原子％计，
[0015]碳：30原子％以上且70原子％以下，
[0016]氧：0.6原子％以上且小于13原子％，
[0017]氟：60原子％以下。
[0018]在另一方面中，本专利技术提供一种橡胶成型体，
[0019]其具备含橡胶基材和树脂薄膜，
[0020]所述含橡胶基材具有由树脂薄膜覆盖的表面，
[0021]所述树脂薄膜为上述本专利技术的氟树脂薄膜。
[0022]专利技术的效果
[0023]在经过改性处理的表面进行了上述比例的控制的本专利技术的氟树脂薄膜适于制造具有由该薄膜覆盖的表面的橡胶成型体。
附图说明
[0024]图1是示意性地示出本专利技术的氟树脂薄膜的一例的剖面图。
[0025]图2是示出能够制造本专利技术的氟树脂薄膜的装置的一例的示意图。
[0026]图3A是示意性地示出本专利技术的橡胶成型体的一例的俯视图。
[0027]图3B是示出图3A的橡胶成型体的剖面B
‑
B的剖面图。
[0028]图4是实施例2的氟树脂薄膜的利用扫描电子显微镜(以下记为SEM)得到的拉伸试验后的表面的观察图像。
[0029]图5是比较例1的氟树脂薄膜的拉伸试验后的表面的利用SEM得到的观察图像。
[0030]图6是参考例的氟树脂薄膜的拉伸试验后的表面的利用SEM得到的观察图像。
具体实施方式
[0031]以下，关于本专利技术的实施方式，参照附图进行说明。本专利技术不限于以下的实施方式。
[0032][氟树脂薄膜][0033]本实施方式的氟树脂薄膜如图1所示。图1的氟树脂薄膜1含有氟树脂，具有经过改性处理的表面11。表面11中的碳、氧以及氟的各元素的比例以所述各元素的总和为100原子％计，碳：30原子％以上且70原子％以下，氧：0.6原子％以上且小于13原子％，氟：60原子％以下。以下，表面11中的各元素的比例除非另有说明，为将碳、氧以及氟的总和设为100原子％的值。在氟树脂薄膜1中，即使该薄膜被拉伸时，表面11的粘接性的下降也得到抑制。推定这是由于进行了上述比例的控制的表面11通过改性处理粘接性得到提高，同时抑制了由拉伸导致的裂纹的产生。由裂纹的产生而导致的粘接性的下降可能是由于未经过改性处理的薄膜内部露出于表面而发生的。
[0034]碳的比例的下限可以为33原子％以上、35原子％以上、38原子％以上、进而40原子％以上。碳的比例的上限可以为65原子％以下、60原子％以下、55原子％以下、50原子％以下、45原子％以下、44原子％以下、进而43原子％以下。
[0035]氧的比例的上限可以为12原子％以下、11原子％以下、10原子％以下、9原子％以下、8原子％以下、7原子％以下、6原子％以下、进而5原子％以下。氧的比例的下限可以为0.7原子％以上、0.8原子％以上、0.9原子％以上、进而1原子％以上。
[0036]氟的比例的上限可以为59原子％以下、进而58原子％以下。氟的比例的下限可以为例如大于17原子％、20原子％以上、25原子％以上、30原子％以上、35原子％以上、40原子％以上、45原子％以上、48原子％以上、50原子％以上、进而52原子％以上。
[0037]表面11中的氧/碳元素比(以下记为O/C比)可以为0.25以下、0.20以下、0.17以下、0.15以下、0.12以下、0.10以下、0.09以下、进而0.08以下。O/C比的下限为例如0.01以上、可以为0.02以上。O/C比的适当控制可以有助于更可靠地抑制由拉伸引起的表面11的粘接性的降低。O/C比可以由表面11中的氧的比例以及碳的比例计算得出。
[0038]表面11中的氟/碳元素比(以下记为F/C比)可以为0.32以上且1.82以下。F/C比的
下限可以为0.50以上、0.70以上、0.90以上、1.00以上、1.05以上、1.10以上、1.15以上、1.20以上、进而1.25以上。F/C比的上限可以为1.75以下、1.70以下、1.65以下、1.60以下、1.55以下、进而1.50以下。F/C比的适当控制可以有助于更可靠地抑制由拉伸引起的表面11的粘接性的降低。F/C比可以由表面11中的氟的比例以及碳的比例计算得出。
[0039]表面11中也可以存在其它元素的原子。其它元素的例子为氮、硅、以及源自改性处理所使用的腔室或靶等的金属。表面11中的其它元素的比例的总和以碳、氧、氟以及其它元素的总和为100原子％计，例如为5原子％以下、可以为3原子％以下、2原子％以下、进而1原子％以下。
[0040]表面11中的各元素的比例可以由X射线光电子能谱法(ESCA)进行评价。
[0041]本实施方式的氟树脂薄膜也适于抑制伴随改性处理的着色。表面11中的日本产业标准(旧日本工业标准；以下记为JIS)Z8781
‑
4：2013所规定的CIE1976(L
*
，a
*
，b
*
)色空间(以下记为(L
*
，a
*
，b
*
)色空间)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种氟树脂薄膜，其含有氟树脂，所述氟树脂薄膜具有经过改性处理的表面，所述表面中的碳、氧以及氟的各元素的比例以所述各元素的总和为100原子％计，碳：30原子％以上且70原子％以下，氧：0.6原子％以上且小于13原子％，氟：60原子％以下。2.根据权利要求1所述的氟树脂薄膜，其中，所述表面中的氧/碳元素比即O/C比为0.25以下。3.根据权利要求2所述的氟树脂薄膜，其中，所述表面中的所述O/C比为0.15以下。4.根据权利要求1～3中任一项所述的氟树脂薄膜，其中，所述表面中的氟/碳元素比即F/C比为0.32以上且1.82以下。5.根据权利要求4所述的氟树脂薄膜，其中，所述表面中的所述F/C比为0.90以上。6.根据权利要求5所述的氟树脂薄膜，其中，所述表面中的所述F/C比为1.10以上。7.根据权利要求1～6中任一项所述的氟树脂薄膜，其中，所述表面中的JIS Z8781
‑
4：2013所规定的CIE1976(L
*
，a
*
，b
*
)色空间的b
*
值的绝对值为小于3.1。8.根据权利要求1～7中任一项所述的氟树脂薄膜，其中，对于JIS Z8781
‑
4：2013所规定的CIE1976(L
*
，a
*
，b
*
)色空间的b
*
，所述表面中的值b
*...

【专利技术属性】
技术研发人员：黑木裕太，植田成美，秋叶府统，藤原圭子，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：