高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法，涉及用于加工玻璃的抛光液的生产技术领域。先将经高温焙烧的稀土氧化物和水混合，制成稀土氧化物悬浮液，再加入无定形硅酸盐，搅匀，调整ｐＨ至４～１１，制成混合悬浮液，再将该混合悬浮液在水性载体中通过高强度机械研磨制成；所述经高温焙烧的稀土氧化物和无定形硅酸盐分别占抛光液总重量的０．１～５０％和０．５～３０％。本发明专利技术工艺简单、易于操作，方便生产，生产效率高，产品质量稳定。通过高强度机械摩擦，增强各种复合组分的密切接触与相互作用，充分发挥各种复合组分的协同增效功能，抛光效果稳定，表面缺陷低，无划痕。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种化工产品的生产工艺，特别是用于加工玻璃的抛光液的 生产
技术介绍
当前玻璃加工企业生产中所使用的玻璃抛光液主要以大颗粒稀土氧化 物粉做抛光摩擦剂，总体抛光速率低，分散稳定性差，容易导致严重的表面 划伤，还存在平化抛光效率低等缺陷。长时间抛光往往大大降低抛光效率， 造成抛光机的迅速磨损，生产效率低，以及大量的耗材消费。抛光粉的粒径 控制通常是通过多级风选完成的。由于微米以及亚微米剂固体颗粒具有很高 的比表面活化能，团聚现象导致风选无法严格控制抛光粉研磨剂的粒度与分 布，导致抛光粉在划伤方面的性能难以稳定控制。
技术实现思路
本专利技术第一目的在于专利技术一种分散稳定性好、平化抛光效率高、不损伤 抛光机的高效无划伤玻璃抛光液。本专利技术主要由水、占抛光液总重量的0.1 50%的经高温焙烧的稀土氧 化物和占抛光液总重量的0.5 30%的无定形硅酸盐组成。本专利技术产品通过高强度机械摩擦，增强各种复合组分的密切接触与相互 作用，充分发挥各种复合组分的协同增效功能，抛光效果稳定，表面缺陷低， 无划痕。本专利技术所述无定形硅酸盐优选为硅酸盐小分子聚合体。该无定形硅酸盐 小分子聚合体加快了抛光液的切削率。另外，本专利技术还可有占抛光液总重量的0.5 10%的高分子分散剂。以保证所生产抛光液产品悬浮性强，不宜沉积，分散稳定性好。本专利技术还可有占抛光液总重量的0.1 10%的多官能团加速剂。可有效提高平化抛光效率，且不易造成对抛光机的损伤。本专利技术还可有占抛光液总重量的0.005 10%的表面活性剂。以改进抛 光液的液体流变性，并与利于抛光后的清洗。本专利技术的第二个目的还在于为上述高效无划伤玻璃抛光液提供一种可 行的生产方法。本专利技术之方法是先将经高温焙烧的稀土氧化物和水混合，制成稀土氧 化物悬浮液，再加入无定形硅酸盐，搅匀，调整pH值至4 U，制成混合 悬浮液，再将该混合悬浮液在水性载体中通过高强度机械研磨制成；所述经 高温焙烧的稀土氧化物和无定形硅酸盐分别占抛光液总重量的0.1 50%和 0.5 300/0。生产过程中原料的介质温度为5 60°C。目的是能有效控制无定形硅酸 盐小分子的聚合度，同时更有效地与稀土氧化物结合产生最有效的复合抛光 材料。另外，在稀土氧化物悬浮液中还加入占抛光液总重量的0.5 10%的高 分子分散剂。加入占抛光液总重量的0.1 10%的多官能团加速剂。加入占 抛光液总重量的0.005 10%的表面活性剂。本专利技术工艺简单、易于操作，方便生产，生产效率高，产品质量稳定。具体实施例方式例一一、制备抛光液称取250克经高温焙烧的稀土氧化物，加入4417克水中，室温下搅拌 均匀，制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入333克30%无定 形硅酸盐，30克体积浓度为50%的十二垸基聚环氧垸磷酸酯(高分子分散剂)，5克草聚乙二醇醚(表面活性剂)进一步搅匀，将pH调至8，形成 混合悬浮液。本专利技术整个生产过程中原料的介质温度控制在5 60° C。 将上述混合悬浮液注入不锈钢内衬装有5kg高钛合金研磨珠的球磨机 分别研磨5、 10、 30、 60分钟，分别制成样品A 、 B 、 C、 D。 二、抛光实例将所制各样品分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压 lpsi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速100ml/分钟。<table>table see original document page 6</column></row><table>总结在各原料成份相同的条件下，随研磨时间增长，抛光效率降低， 表面划伤快速降低至不可测。 例二一、制备抛光液称取不等量经高温焙烧的稀土氧化物，分别加入等量水中，室温下搅拌 均匀，分别制成不同的稀土氧化物悬浮液。生产过程中原料的介质温度为 5 60。C。分别向各稀土氧化物悬浮液加入不等量的无定形硅酸盐，进一步搅匀。 在陶瓷内衬的砂磨机研磨10分钟。 二、抛光实例将所制各抛光液分别在Logitech CDP单面抛光机上拋光。抛光机下压:lpsi，下盘以及载盘转速50RPM,抛光液流速100ml/分钟。<table>table see original document page 7</column></row><table>总结在pH值相同的条件下，不同的各原料配比，可获得不同的的抛光效率，最高可达776纳米/分。 例三-一、制备抛光液称取250克经高温焙烧的稀土氧化物，加入4417克水中，室温下搅拌 均匀，制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入333克30%的无定形硅酸盐，进一步搅匀。加入KOH ,将pH值分别调至10，制成抛光液初品。向抛光液初品 加入不等量吡啶，分别制成抛光液A、 B、 C、 D。在超硬合金内衬的砂磨机 研磨IO分钟。二、抛光实例将所制各抛光液分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压: lpsi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速100ml/分钟。<table>table see original document page 7</column></row><table>总结加入适当浓度的吡啶可使抛光液的抛光效率得以改善。 例四一、制备抛光液称取250克经高温焙烧的稀土氧化物，加入4417克水中，室温下搅拌 均匀，制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入333克30%无定 形硅酸盐，30克50%十二垸基聚环氧垸磷酸酯(高分子分散剂)，5克草 聚乙二醇醚进一步搅匀，将pH调至8。在超硬合金内衬的砂磨机，研磨 珠与悬浮液固含量比为1:5， 1:3, 1:1以及1:0.5,研磨时间十分钟。 二、抛光实例将所制各抛光液分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压 lpsi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速100ml/分钟。研磨珠与悬浮液固体比抛光速率(纳米/分)1: 55291: 37291: 16131: 0.5617总结适当的研磨介质悬浮液固体比可使抛光液的抛光效率得以改善。 例五一、制备抛光液根据表下表，配制抛光液。在超硬合金内衬的砂磨机研磨时间十分钟。 且，整个生产过程中原料的介质温度控制在5 60。C。二、抛光实例-将所制各抛光液分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压: lpsi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速100ml/分钟。稀土氧化物 (%)硅酸盐聚 合物 (%)高分子分散剂 (如，聚酰胺， 或十二烷基聚 环氧乙烷醇， 或聚甲基丙烯 酸聚环氧烷 酯，等)(%)多官能团 加速剂 (如，草 酸，吡啶， 乙酸，丁二 酸，氨基丁 酸，等) (10%)表面活性剂 (如，三甲基十 二烷基氯化铵， 或混合聚环氧 乙垸聚环氧丙 烷醚，或烷基磷 酸盐，等)抛光速率 (纳米/分)0.13010.50.11595020.8o細1037300.51.50.058920.530630.022731100.530.13330.10.5100.50.0513100.50.1126910之100.00674400.531.50.0本文档来自技高网...
【技术保护点】
高效无划伤玻璃抛光液，包括水，其特征在于还包括占抛光液总重量的０．１～５０％的经高温焙烧的稀土氧化物、占抛光液总重量的０．５～３０％的无定形硅酸盐。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：孙韬，
申请(专利权)人：孙韬，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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