【技术实现步骤摘要】
(一)
：本专利技术涉及一种抛光液及其制备方法，特别是一种用于玻璃材料的抛光液及其制备方法。(二)
技术介绍
：玻璃材料抛光及其平面加工是涉及许多领域的技术，其中包括LCD面板，光学用玻璃等广泛的领域。由于玻璃材料本身脆性大，化学抛光作用不明显，给材料表面平坦化加工带来了很大难度。目前国际上主要采用氧化铈的粉末作为抛光加工磨料，但氧化铈颗粒的清洗工艺比较复杂，因此限制了氧化铈的技术应用。(三)
技术实现思路
：本专利技术的目的在于提供一种用于玻璃的抛光液及其制备方法，它克服了现有技术中的缺点，是一种高效、易清洗且对设备无损害的用于玻璃材料的抛光液及其制备方法。本专利技术的技术方案：一种用于玻璃材料的抛光液，其特征在于：由磨料、表面活性剂、PH值调节剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料10～50％；表面活性剂0.01～0.6％；PH值调节剂1～6％；去离子水为余量；抛光液PH值范围为11～12，粒径为50nm～200nm。上述所说的磨料是指粒径范围为50nm～200nm的水溶硅溶胶或金属氧化物SiO2、Al2O3、CeO2或TiO2的水溶胶。上述所说的表面活性剂系采用非离子型表面活性剂，如脂肪醇聚氧乙稀醚或烷基醇酰胺。上述所说的PH调节剂是指氢氧化钠、氢氧化钾、多羟多胺和胺中的一种或其组合。一种用于玻璃材料的抛光液制备方法，其特征在于：首先将制备抛光液的各种组分分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中-->并充分搅拌，混合均匀即可。本专利技术的优点是：抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易...
【技术保护点】
一种用于玻璃材料的抛光液，其特征在于：由磨料、表面活性剂、ＰＨ值调节剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料１０～５０％；表面活性剂０．０１～０．６％；ＰＨ值调节剂１～６％；去离子水为余量；抛光液ＰＨ值范围为１１～１２，粒径为１５ｎｍ～１００ｎｍ。
【技术特征摘要】
1.一种用于玻璃材料的抛光液，其特征在于：由磨料、表面活性剂、PH值调节剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料10～50％；表面活性剂0.01～0.6％；PH值调节剂1～6％；去离子水为余量；抛光液PH值范围为11～12，粒径为15nm～100nm。2.根据权利要求1所述的一种用于玻璃的抛光液，其特征在于：其磨料是指粒径范围为50nm～200nm的水溶硅溶胶或金属氧化物SiO2、Al2O3、CeO2或TiO2的水溶胶。3.根据权利要求1所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：仲跻和，刘玉岭，
申请(专利权)人：天津晶岭电子材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]
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