本申请公开一种用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置。该测量装置，包括：X向调整杆、Y向调整杆、Z向调整杆及传感器，所述X向调整杆通过调整杆固定部件固定Y向调整杆，其用于放置于反应腔的顶部侧，所述Z向调整杆可滑动的固定于X向调整杆或Y向调整杆上，且所述Z向调整杆上安装有传感器固定部件，所述传感器固定部件上安装有传感器，所述传感器为测距传感器。该测量装置支持移动测量，不论是生产现场，或是在客户端，都可以简单便捷地实现量测，且操作简单。且操作简单。且操作简单。
【技术实现步骤摘要】
一种用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置
[0001]本申请涉及碳化硅外延设备
，具体的涉及一种用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置。
技术介绍
[0002]垂直供气性碳化硅的反应腔内设置支撑筒，该支撑筒的顶部安装托盘，该支撑筒安装于反应腔内并由驱动装置如电机驱动带动筒旋转，支撑筒旋转进而带动其上的托盘旋转。在实际安装时因零部件的加工误差、安装误差或组合等，导致支撑筒安装后可能出现偏差这样其旋转时同心度超出设计的范围，进而导致托盘在水平方向上下波动，影响其上的外延生长的均匀性。为此需要对托盘连通支撑筒测量。目前传统的测量方式单一，测平面度的方法只适用于测量平面度；测量跳动的方法也只适用于测量圆柱物体的跳动误差。测量跳动的方法及治具只适用于测量小直径的物体。每次测量的结果需要人为地记录，然后进行统计计算，才能得出想要的结果，整个过程比较繁琐且耗时。
技术实现思路
[0003]为解决上述存在的缺点，本申请的目的在于：提供一种装置，其用于测量外延设备中旋转石墨托盘的平面度和同心度。该装置结构简单，且可快速的测量。
[0004]为了达到以上目的，本申请采用如下技术方案：
[0005]一种用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置，包括：
[0006]X向调整杆、Y向调整杆、Z向调整杆及传感器，
[0007]所述X向调整杆通过调整杆固定部件固定Y向调整杆，其放置于反应腔的顶部侧，
[0008]所述Z向调整杆可滑动的固定于X向调整杆或Y向调整杆上，且所述Z向调整杆上安装有传感器固定部件，
[0009]所述传感器固定部件上安装有传感器，所述传感器为测距传感器。该装置在移动的同时检测表面的信息，可在托盘静止或处于旋转时测试其表面，这样得到托盘表面平度信息，维护人员据此进行调整托盘，实现快速精准的调整。
[0010]优选的，该X向调整杆上的设置有第一吸附装置。
[0011]优选的，该Y向调整杆上的设置有第二吸附装置。
[0012]优选的，该第一吸附装置及第二吸附装置分别为磁铁。
[0013]优选的，该第一吸附装置及第二吸附装置分别为吸盘。
[0014]优选的，该用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置，其特征在于，还包括：调整杆固定部件，
[0015]所述调整杆固定部件具有：
[0016]第一连接端，其连接X向调整杆，及
[0017]第二连接端，其连接Y向调整杆。
[0018]优选的，该X向调整杆、Y向调整杆及Z向调整杆上分别设置有刻度标记。
[0019]优选的，该传感器采用CD33系列位移传感器。
[0020]有益效果
[0021]本申请提出的测量装置支持移动测量，不论是生产现场，或是在客户端，都可以简单便捷地实现量测，且操作简单。
附图说明
[0022]附图用来提供对本公开技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本申请内容。
[0023]图1为本申请实施例的成膜装置的截面示意图。
[0024]图2为本申请实施例的装置测量托盘平面的示意图。
[0025]图3为本申请实施例的装置测量支撑筒同心度的示意图。
[0026]图中，1，石墨托盘，2，反应腔，3，支撑筒，4，底盘，5，磁流体密封装置，6，X向调整杆，7，第一吸附装置，8，Y向调整杆，9，Y向调整杆，第二吸附装置，10，Z向调整杆，11，调整杆固定部件，12，传感器固定部件，13，传感器。
具体实施方式
[0027]以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解，这些实施例是用于说明本申请而不限于限制本申请的范围。实施例中采用的实施条件可以如具体厂家的条件做进一步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。
[0028]本申请公开一种用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置(下称装置)。该测量装置，包括：X向调整杆、Y向调整杆、Z向调整杆及传感器，该X向调整杆通过调整杆固定部件固定Y向调整杆，其用于放置于反应腔的顶部侧，该Z向调整杆可滑动的固定于X向调整杆或Y向调整杆上，且该Z向调整杆上安装有传感器固定部件，该传感器固定部件上安装有传感器，该传感器为测距传感器。该装置支持移动测量，不论是生产现场，或是在客户端，都可以简单便捷地实现量测。且该装置操作简单，体积小，测量时单人即可以完成测试工作，方便随时随地进行测量，当不符合标准时，及时做出改进或重新安装，以减少浪费时间，该装置检测精度高，经其测量的成膜装置外延生长时镀膜的均匀性越好。石墨托盘有时也称旋转平台。
[0029]接下来结合附图来描述本申请提出的用于测试旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置。
[0030]如图1所示为本申请实施例的成膜装置的截面示意图。
[0031]该成膜装置包括：
[0032]反应腔2，该反应腔2的顶部配置有喷淋头(图未示)，该反应腔2内设置有石墨托盘2，该石墨托盘2用于放置衬底，以在衬底上进行成膜(也称外延生长)。
[0033]该石墨托盘2配置于支撑筒3的一侧端，较佳的，石墨托盘2与支撑筒3的一侧端卡接(如石墨托盘2上配置有台阶部，其与支撑筒3的一侧端的凹陷匹配使得石墨托盘2卡接于支撑筒3上)。支撑筒3的远离一侧端石墨托盘2的一侧设置有底盘4，较佳的，该底盘4为钼盘。
[0034]反应腔2的底部设有穿孔，该穿孔连接驱动部，该驱动部上套设有磁流体密封部。基于驱动部的驱动带动支撑筒旋转，支撑筒旋转进而带动石墨托盘2旋转。在实际安装时因零部件的加工误差、安装误差或平台本身的水平误差等，支撑筒安装可能出现偏差(如发生倾斜)，导致其旋转时同心度超出设计的范围，这样导致其上的石墨托盘在水平方向上下波动，进而影响在衬底的表面发生化学，外延生长的均匀性差。
[0035]为此需要检测装置检测潜在的缺陷，来提高外延生长时外延的均匀性。
[0036]接下来结合图2及图3来描述该装置。
[0037]该装置包括：
[0038]3个调整杆：X向调整杆6，Y向调整杆8,Z向调整杆10，
[0039]其中，X向调整杆6上的设置有第一吸附装置7，
[0040]Y向调整杆8上的设置有第二吸附装置9，
[0041]Z向调整杆10可滑动的固定于X向调整杆6上，该Z向调整杆10上安装有传感器固定部件12，该传感器固定部件12上可拆卸的安装有传感器13，较佳的，该传感器13为测距传感器。本实施方式中，第一吸附装置7及第二吸附装置9分别采用磁铁。在其他的实施方式中，第一吸附装置7及第二吸附装置9可采用吸盘。X向调整杆6与Y向调整杆8通过调整杆固定部件固定。在一实施方式中，X向调整杆、Y向调整杆及Z向调整杆分别为光栅尺。这样实现精确定位。
[0042]该装置测量石墨托盘(也称本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置，其特征在于，包括：X向调整杆、Y向调整杆、Z向调整杆及传感器，所述X向调整杆通过第一调整杆固定部件固定Y向调整杆，其放置于反应腔的顶部侧，且位于待测量的石墨托盘的上方侧，所述Z向调整杆可滑动的固定于X向调整杆或Y向调整杆上，且所述Z向调整杆上安装有传感器固定部件，所述传感器固定部件上安装有传感器，所述传感器为测距传感器。2.如权利要求1所述的用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置，其特征在于，所述X向调整杆上的设置有第一吸附装置。3.如权利要求2所述的用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置，其特征在于，所述Y向调整杆上的设置有第二吸附装置。4.如权利要求3所述的用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置，其特征在于，所述第一吸附装置及第二吸附装置分别为磁铁。5.如权利要求3所述的用于检测旋转石墨托盘平面度和同心度的测量装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：程金彪，蒋家旺，
申请(专利权)人：芯三代半导体科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。