一种光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备制造技术

技术编号:37911601 阅读:11 留言:0更新日期:2023-06-21 22:34
本实用新型专利技术公开了一种光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备,技术核心是通过无线射频识别PFID和计算机逻辑算法来控制游星盘自转和公转换位,产品研磨或抛光完后精准追踪定位游星盘位置设备。后续可加自动化机构部分由机器人执行物料上下料,来实现全自动双面研磨抛光设备。大大提高生产效率和产品质量。填补这么多年行业中,双面研磨机无法实现全自动上下料,靠操作员作业手工物料上下料。实际的加工过程中,首先通过第二伺服电机和第三伺服电机的使用,通过无线射频识别PFID和计算机逻辑算法控制内齿圈和外齿圈的转速带动游星轮公转以及自转,且可通过转速比的调整,使游星轮的公转位置和自转位置可以处于预定的位置,有效提高了产品研磨抛光效率。提高了产品研磨抛光效率。提高了产品研磨抛光效率。

【技术实现步骤摘要】
一种光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备


[0001]本技术涉及玻璃打磨加工设备领域,特别涉及一种光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备。

技术介绍

[0002]研磨机广泛应用于压电晶体、化合物半导体、硅晶体、光学玻璃、陶瓷片、视窗玻璃、金属材料、蓝宝石以及其他硬脆性材料的高精度,进行双面研磨/抛光加工。但是,现有的研磨机占用了较大的空间体积,占用的场地成本较高,例如流水线的结构。同时,现有的研磨机只能适用于单一要求的加工(一般为单面打磨),例如打磨、抛光;且加工时不能根据实际情况,打磨不同的精度,同时噪音较大,且加工精度不能精确地控制。
[0003]例如中国专利201820074582.1其主要采用人工的方式上下料,其主要原因是游星轮的位置不能精确的控制,其中当外齿圈和内齿圈位置不一致时,游星轮在公转的同时也会产生自转,因此两个维度的控制比较难溯源,当加工中出现不良品或加工精密超出预期时,不能获取预定周期的数据。因此,人工上下料也不需要考虑自转和公转的相对位置。但是对于自动化机械设备来说,需要精确地获取游星轮的公转位置和自转位置,才能自动上下料。当然也有采用视觉装置获取相对位置的,但是研磨抛光过程中,需要采用研磨液体研磨抛光的方式,因此也会出现阻碍相对位置的获取精确性。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的是提出一种光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备,旨在实现游星轮的精确定位(自转和公转),同时可以实现游星轮的位置溯源,实现光学玻璃的精密加工。
[0005]为实现上述目的,本技术提出一种光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备包括机架、枢转安装于机架的下磨盘、设于下磨盘内侧的内齿圈、设于下磨盘外侧的外齿圈以及与下磨盘相对设置的上磨盘,所述内齿圈和外齿圈之间设有游星轮,所述游星轮设有多个且间隔设置,所述游星轮的两端分别与内齿圈和外齿圈相互啮合;
[0006]所述下磨盘与第一驱动装置相连接并可驱动其转动,所述内齿圈与第二驱动装置相连接并可驱动其转动,所述外齿圈与第三驱动装置相连接并可驱动其转动,所述上磨盘与第四驱动装置相连接;
[0007]所述第二驱动装置为第二伺服电机,所述第二伺服电机可获取内齿圈的第一转速以及第一行程位置,且可控制内齿圈的转速;
[0008]所述第三驱动装置为第三伺服电机,所述第三伺服电机可获取外齿圈的第二转速以及第二行程位置,且可控制外齿圈的转速;
[0009]当内齿圈和外齿圈转速相异时,所述游星轮可沿游星轮轴心转动以及沿下磨盘轴心转动,
[0010]控制系统通过第一行程位置、第一转速、第二行程位置以及第二转速获取游星轮
的自转位置和公转位置。
[0011]本技术技术方案在具体的操作中,通过第二伺服电机和第三伺服电机分别驱动内齿圈和外齿圈,当转速不同时,可以控制游星轮自转以及公转,同时通过控制系统获取第一转速、第一行程位置、第二转速和第二行程位置,当机械手需要将光学玻璃精确放置时,游星轮的第一原点位(公转位置,需要位于上下料夹取工位)和第二原点位(即治具槽的朝向,需要与机械手多个光学玻璃的排布一致);通过第二伺服电机和第三伺服电机的精确控制,可以精确控制自转速度以及公转速度(即上下料精准停顿定位),在方便自动化夹取的同时也可以精确地控制打磨或抛光的转速,从而提高了加工的精度;通过第二伺服电机和第三伺服电机的溯源数据,可以精确地控制游星轮的相对位置,且通过控制内齿圈和外齿圈的相对转速,即可控制游星轮的自转位置和公转位置;
[0012]技术核心是通过无线射频识别PFID和计算机逻辑算法来控制游星盘自转和公转换位,产品研磨或抛光完后精准追踪定位游星盘位置,再由机器人执行物料上下料,来实现全自动双面研磨抛光设备。大大提高生产效率和产品质量。填补这么多年行业中,双面研磨机无法实现全自动上下料,靠操作员作业手工物料上下料
附图说明
[0013]图1为本技术立体示意图一;
[0014]图2为本技术立体示意图二;
[0015]图3为本技术剖视图;
[0016]图4为本技术立体示意图三;
[0017]图5为本技术立体示意图四;
[0018]图6为本技术简要示意图一;
[0019]图7为本技术简要示意图二。
[0020]图中,1为机架,10为游星轮,11为下磨盘,12为上磨盘,13为治具槽,21为内齿圈,22为外齿圈,211为第一定位销,221为第二定位销,31为第一驱动装置,32为第二驱动装置,33为第三驱动装置,34为第四驱动装置,41为第一位置感应装置,42为第二位置感应装置,51为第一无线射频识别PFID装置,52为第二无线射频识别PFID装置,101为第一原点位,102为第二原点位,201为公转,202为自转。
具体实施方式
[0021]下面将结合附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0022]需要说明,若本技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、顶、底、内、外、垂向、横向、纵向,逆时针、顺时针、周向、径向、轴向
……
),则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
[0023]另外,若本技术实施例中有涉及“第一”或者“第二”等的描述,则该“第一”或
者“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本技术要求的保护范围之内。
[0024]如图1至图7所示,一种光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备,其特征在于,
[0025]包括机架1、枢转安装于机架1的下磨盘11、设于下磨盘11内侧的内齿圈21、设于下磨盘11外侧的外齿圈22以及与下磨盘11相对设置的上磨盘12,所述内齿圈21和外齿圈22之间设有游星轮10,所述游星轮10设有多个且间隔设置,所述游星轮10的两端分别与内齿圈21和外齿圈22相互啮合;
[0026]所述下磨盘11与第一驱动装置31相连接并可驱动其转动,所述内齿圈21与第二驱动装置32相连接并可驱动其转动,所述外齿圈22与第三驱动装置33相连接并可驱动其转动,所述上磨盘12与第四驱动装置34相连接;
[0027]所述第一驱动装置和第四驱动装置分别为第一伺服电机和第四伺服电机;
[0028本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备,其特征在于,包括机架、枢转安装于机架的下磨盘、设于下磨盘内侧的内齿圈、设于下磨盘外侧的外齿圈以及与下磨盘相对设置的上磨盘,所述内齿圈和外齿圈之间设有游星轮,所述游星轮设有多个且间隔设置,所述游星轮的两端分别与内齿圈和外齿圈相互啮合;所述下磨盘与第一驱动装置相连接并可驱动其转动,所述内齿圈与第二驱动装置相连接并可驱动其转动,所述外齿圈与第三驱动装置相连接并可驱动其转动,所述上磨盘与第四驱动装置相连接;所述第一驱动装置和第四驱动装置分别为第一伺服电机和第四伺服电机;所述第二驱动装置为第二伺服电机,所述第二伺服电机可获取内齿圈的第一转速以及第一行程位置,且可控制内齿圈的转速;所述第三驱动装置为第三伺服电机,所述第三伺服电机可获取外齿圈的第二转速以及第二行程位置,且可控制外齿圈的转速;当内齿圈和外齿圈转速相异时,所述游星轮可沿游星轮轴心转动以及沿下磨盘轴心转动,控制系统通过第一行程位置、第一转速、第二行程位置以及第二转速获取游星轮的自转位置和公转位置。2.如权利要求1所述的光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备,其特征在于:所述内齿圈设有第一位置感应装置,所述机架设有与第一位置感应装置相配合的第一位置接收装置;所述外齿圈设有第二位置感应装置,所述机架设有与第二位置感应装置相配合的第二位置接收装置。3.如权利要求2所述的光学玻璃双面研磨抛光游星轮定位设备,其特征在于:所述内齿圈设有第一无线射频识别PFID装置,所述机架设有与第一无线射频识别PFID装置相配合的第一无线射频识别PFID装置;所述外齿圈设有第二无线射频识别PFID装置,所述机架设有与第二无线射频识别PFID装置相配合的第二无线射频识别PFID装置。4.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖志贤吴后榜
申请(专利权)人:东莞市顺怡隆机械科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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