一种光芯片波导模式的测试装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种光芯片波导模式的测试装置，包括光源、保偏光纤、待测光芯片、放大透镜组件和平面探测器，保偏光纤与光源连接，保偏光纤的光纤出射端与待测光芯片的波导入射端分离并向波导入射端输出高斯光束，待测光芯片的波导出射端的出射光经过放大透镜组件的成像放大后入射至平面探测器。当激发光波导最高阶模需要的光入射角度在光纤出射端的高斯光束的远场发散角内，并在平行于波导入射端所在平面横向移动光纤出射端，继而可以达到逐次激发波导的各阶模的目的，随后再用放大透镜组件和平面探测器搭建成像系统，通过获取模斑成像，即可判断波导的模式，继而简易高效测出光芯片的波导模式。光芯片的波导模式。光芯片的波导模式。

【技术实现步骤摘要】
一种光芯片波导模式的测试装置


[0001]本技术涉及光芯片领域，尤其涉及一种光芯片波导模式的测试装置。

技术介绍

[0002]光芯片指借助光波导利用光波进行信息传输或数据运算，将光信号和电信号的调制、传输、解调等集成在同一集成光学介质的芯片，其中，光波导的模式是光芯片设计的基础和核心问题。
[0003]单模/基模光波导是一类非常重要的波导类型，主要包括TE和TM两种基模模式，对于梯度折射率的光波导，一般很难在设计阶段控制其形成的模式，在实际的制作中，一般是通过测试反馈，再优化调节工艺来实现单模光波导的制备，如何准确测试光波导的模式成为工艺优化的重要参考依据。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种简易高效测出光芯片波导模式的测试装置。
[0005]为了实现本技术目的，本技术提供一种光芯片波导模式的测试装置，其特征在于，包括光源、保偏光纤、待测光芯片、放大透镜组件和平面探测器，保偏光纤与光源连接，保偏光纤的光纤出射端与待测光芯片的波导入射端分离并向波导入射端输出高斯光束；待测光芯片、放大透镜组件和平面探测器沿本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光芯片波导模式的测试装置，其特征在于，包括光源、保偏光纤、待测光芯片、放大透镜组件和平面探测器，所述保偏光纤与所述光源连接，所述保偏光纤的光纤出射端与所述待测光芯片的波导入射端分离并向所述波导入射端输出高斯光束；所述待测光芯片、所述放大透镜组件和所述平面探测器沿光路方向依次布置，所述待测光芯片的波导出射端的出射光经过所述放大透镜组件的成像放大后入射至所述平面探测器。2.根据权利要求1所述的光芯片波导模式的测试装置，其特征在于：所述光纤出射端可平行于所述波导入射端所在平面移动。3.根据权利要求1所述的光芯...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆龙钊，胡彦斌，郝婷，卢金龙，周赤，吉贵军，刘昆，黄杭东，
申请(专利权)人：珠海光库科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：