眼图遮罩修正方法技术

一种眼图遮罩修正方法，步骤如下：ａ．多次取得第一状态下的量测值；ｂ．多次取得第二状态下的量测值；ｃ．整理出两种状态下的量测变化量；利用第一状态量测值和第二状态量测值，得出一差值，由多组差值通过归纳法整理得出两种状态下测量值的变化量；ｄ．计算出眼图遮罩的修正值：眼图遮罩修正值＝眼图遮罩第一状态标准值－量测变化量；ｅ．利用量测修正值修正眼图遮罩；经过如上步骤，可将原标准眼图遮罩修正为，可在一种环境测试得出另外环境的测试结果的眼图遮罩；本发明专利技术方法简单、实用，方便测试。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到一种，特别是涉及到一种在一种环境进行 另一种环境测试的。
技术介绍
现行眼图遮罩(MASK)量测技术是将被测设备在各种状态下的参数以图形 化表示，测试时，只需观察眼图遮罩与被测设备信号波形的关系，即可快速判 断是否在规格内，以及计算出偏差值。比如在低温低压条件下测试总线接口的一种总线接口眼图遮罩，其是将总 线接口在低温低压等状态下的量测最高标准值和量测最低标准值，输入到眼图 遮罩中，眼图遮罩将该值以一图形显示出一界限区域，而可迅速判定测试结果 以及偏差范围。但该种眼图遮罩具有一定的局限性，即要得出一种状态下的测试结果，需 要在该种状态下进行测试，比如要得出总线接口在低温低压下的测试结果，需 要将总线接口在低温低压下进行测试。使得如需进行多种特殊条件(低温低压、 低温高压、高温低压、高温高压状态等)下的测试进行很不方便。
技术实现思路
为解决上述局限性的问题，本专利技术提出了一种简单、实用的眼图遮罩的修 正方法。本专利技术技术方案为 一种，此方法步骤如下，a. 多次取得第一状态下的量测值；利用之前经验数据，或者通过实验在特殊环境中量测多组第一状态量测值；b. 多次取得第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种眼图遮罩修正方法，其特征在于，步骤如下：　ａ．多次取得第一状态下的量测值；　ｂ．多次取得第二状态下的量测值；　ｃ．整理出两种状态下的量测变化量；　ｄ．计算出眼图遮罩的修正值：修正值＝眼图遮罩第一状态标准值－量测变 化量；　ｅ．利用量测修正值修正眼图遮罩。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：柳富升，
申请(专利权)人：佛山市顺德区顺达电脑厂有限公司，
类型：发明
国别省市：44[中国|广东]