数码堆釉浮凸岩板及其制备方法技术

本发明专利技术涉及数码堆釉浮凸岩板及其制备方法，属于陶瓷生产制造技术领域。数码堆釉浮凸岩板的制备方法包括以下步骤：在坯体表面施面釉；将施面釉后的坯体干燥并在干燥后的坯体表面施油性的数码浮凸釉；所述数码浮凸釉的基础釉的始融温度为1140～1170℃；所述数码浮凸釉在400～600℃的膨胀系数为(7.9～8.3)

【技术实现步骤摘要】
数码堆釉浮凸岩板及其制备方法


[0001]本专利技术涉及数码堆釉浮凸岩板及其制备方法，属于陶瓷生产制造


技术介绍

[0002]随着生活水平的提高，人们对于家居装饰的要求越来越多样化。平面瓷砖由于视觉效果及手感相对单一，已无法满足消费者的需要。与此同时，表面立体化的瓷砖丰富的视觉效果及多变的手感具有更加突出的优势。
[0003]中国专利CN113666772A披露一种具有深刻凹凸纹理的陶瓷岩板，先使用模具墨水和数码面釉形成第一层模具纹理，再利用颜色墨水叠加图案纹理，最后利用精雕墨水将打印的水性亮光数码保护釉和哑光数码保护釉物理性地排开，从而在保护釉层上形成精雕纹理。这种层层叠加令陶瓷岩板表面的凹凸纹理得以加深，从而提升岩板表面凹凸纹理的立体感和手感。
[0004]中国专利CN113998993A披露一种精雕仿石瓷抛砖，在坯体上喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后再施薄层的深刻保护釉，烧成和抛光后得到图案清晰有穿透力、纹理凹凸有致的瓷抛砖。
[0005]因此，目前市场上的凹凸面陶瓷岩版多数是利用功能墨水向下雕刻来实现凹凸效果，尤其是利用墨水的化学作用或者物理作用使釉料剥开产生模具纹理。但是这种方式很难对纹理的宽度及厚度进行精准控制，同时也很难实现局部浮凸的釉面效果。

技术实现思路

[0006]针对
技术介绍
提出的问题，本专利技术的技术目的在于提供一种数码堆釉浮凸岩板及其制备方法，采用油性的数码浮凸釉向上堆釉，通过数码堆砌的方式形成浮凸纹理，获得的数码堆釉浮凸岩板具有脉络清晰的浮凸纹理，且浮凸纹理的厚度和宽度能够精准数字化控制，再结合喷墨图案，可以提高产品的艺术性和装饰性。
[0007]第一方面，本专利技术提供一种数码堆釉浮凸岩板的制备方法，包括以下步骤：在坯体表面施面釉；将施面釉后的坯体干燥并在干燥后的坯体表面施油性的数码浮凸釉；所述数码浮凸釉的基础釉的始融温度为1140～1170℃；所述数码浮凸釉在400～600℃的膨胀系数为(7.9～8.3)
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‑6/K；在施数码浮凸釉后的坯体表面先喷墨打印颜色图案再施数码保护釉；将施数码保护釉后的坯体烧成，得到数码堆釉浮凸岩板。
[0008]较佳地，干燥后的面釉层含水率为0.3wt％以下。
[0009]较佳地，数码浮凸釉的基础釉的原料组成包括：以质量百分比计，钾长石：15～30％，钠长石：8～20％，硅灰石：3～8％，烧滑石：1～3％，石英砂：20～40％，氧化铝：3～8％，硅酸锆：15～30％。
[0010]较佳地，数码浮凸釉的基础釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：59～79％、
ZrO2：9～20％、Al2O3：10～20％、CaO：1～4％、MgO：0.5～2％、K2O：1.5～3.0％、Na2O：1～3％、烧失：0.3～0.6％。
[0011]较佳地，数码浮凸釉的施釉量为240～320g/m2；优选地，多通道喷墨打印数码浮凸釉进行堆釉；更优选地，多通道喷墨打印的通道个数为3～4。
[0012]较佳地，面釉的基础釉的原料组成包括：以质量百分比计，钾长石：30～40％，钠长石：15～21％，水洗高岭土：1～5％，石英砂：12～18％，硅酸锆：8～12％，氧化铝：3～8％，煅烧高岭土：12～21％。
[0013]较佳地，按照面釉的基础釉的原料组成称取各原料，得到面釉干料；将面釉干料、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素钠和水混合均匀并球磨过筛，得到面釉釉浆；优选地，面釉干料、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素钠和水分别占面釉釉浆的55～62％、0.1～0.25％、0.35～0.55％、37～44％；更优选地，在所述面釉釉浆中还加入添加剂，所述添加剂包括食盐水、无水乙醇；食盐水的添加量为面釉釉浆质量的1～3％；无水乙醇的添加量为面釉釉浆质量的5～10％；进一步优选地，食盐水中食盐的质量百分比为25～35％。
[0014]较佳地，采用喷釉的方式施面釉；面釉的比重为1.35～1.40，施釉量为450～500g/m2。
[0015]较佳地，数码保护釉的基础釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～75％、Al2O3：10～20％、CaO：0.1～1％、MgO：0.1～1％、K2O：0.1～1.0％、Na2O：3～8％、SrO：0.1～3％、ZnO：1～5％、烧失：0.2～0.5％。
[0016]第二方面，本专利技术提供上述任一项所述的制备方法获得的数码堆釉浮凸岩板。
附图说明
[0017]图1是实施例1的砖面效果图。
[0018]图2是对比例3的砖面效果图。
[0019]图3是对比例4的砖面效果图。
具体实施方式
[0020]通过下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。以下说明本专利技术所述数码堆釉浮凸岩板的制备方法。
[0021]将岩板基料压制成形得到坯体。岩板基料的原料组成和化学组成不受限制，采用本领域常用的岩板基料即可。作为示例，所述岩板基料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：63～66％、Al2O3：20～23％、Fe2O3：0.4～0.8％、TiO2：0.2～0.3％、CaO：0.2～0.3％、MgO：0.4～0.6％、K2O：2.2～2.6％、Na2O：2.1～2.6％、烧失：4.4～5.4％。可通过压机压制成型。
[0022]将坯体干燥。干燥温度可为150～200℃。干燥时间可为40～60min。干燥后的坯体水分控制在0.3wt％以内为宜。一些技术方案中，坯体在400～600℃的膨胀系数为(8.3～8.7)
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‑6/K。
[0023]在干燥后的坯体表面施面釉。面釉的基础釉的原料组成包括：以质量百分比计，钾长石：30～40％，钠长石：15～21％，水洗高岭土：1～5％，石英砂：12～18％，硅酸锆：8～
12％，氧化铝：3～8％，煅烧高岭土：12～21％。采用水洗高岭土含量≤5％的面釉配方，可以促使干燥过程中面釉层的水分快速挥发。所述面釉的基础釉中水洗高岭土含量较低，能够降低塑性原料的含量使面釉层的水分能够快速蒸发。
[0024]作为示例，所述面釉的基础釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：55～70％、Al2O3：16～25％、Fe2O3：0.1～0.15％、TiO2：0.05～0.15％、CaO：0.1～0.3％、MgO：0.1～0.2％、K2O：3.0～4.5％、Na2O：2.5～3.5％、ZrO2：4～8％、烧失：0.5～1.2％。
[0025]所述面釉的基础釉的始融温度为1160～1200℃。在生产中，要控制面釉的始融温度低于烧成制度的最高烧成温度。数码浮凸釉设置在面釉上层。烧成过程中浮凸釉熔体对面釉的润湿能力会影响浮凸釉的流动性。面釉的始熔温度太低，烧成过程中浮凸釉熔体与面釉的润湿性越好，在烧成过程中会使位于其上层的浮凸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种数码堆釉浮凸岩板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在坯体表面施面釉；将施面釉后的坯体干燥并在干燥后的坯体表面施油性的数码浮凸釉；所述数码浮凸釉的基础釉的始融温度为1140～1170℃；所述数码浮凸釉在400～600℃的膨胀系数为(7.9～8.3)
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‑6/K；在施数码浮凸釉后的坯体表面先喷墨打印颜色图案再施数码保护釉；将施数码保护釉后的坯体烧成，得到数码堆釉浮凸岩板。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，干燥后的面釉层含水率为0.3wt％以下。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，数码浮凸釉的基础釉的原料组成包括：以质量百分比计，钾长石：15～30％，钠长石：8～20％，硅灰石：3～8％，烧滑石：1～3％，石英砂：20～40％，氧化铝：3～8％，硅酸锆：15～30％。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，数码浮凸釉的基础釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：59～79％、ZrO2：9～20％、Al2O3：10～20％、CaO：1～4％、MgO：0.5～2％、K2O：1.5～3.0％、Na2O：1～3％、烧失：0.3～0.6％。5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，数码浮凸釉的施釉量为240～320g/m2；优选地，多通道喷墨打印数码浮凸釉进行堆釉；更优选地，多通道喷墨打印的通道个数为3～4。6.根据权利要求1至5中任一项所述的制备...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘一军，张克林，欧阳成，黄秋立，张东旭，曹国芹，肖伟荣，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：