包括侧照明单元的检查系统和使用检查系统的检查方法技术方案

检查系统包括台单元，被配置为在所述台单元上加载空白掩模。提供了侧照明单元，被设置为面对空白掩模的侧表面，并且包括多个LED。提供了与空白掩模邻近的相机。从侧照明单元朝向空白掩模的侧表面照射的检查光束基本上平行于空白掩模的上表面。于空白掩模的上表面。于空白掩模的上表面。

【技术实现步骤摘要】
包括侧照明单元的检查系统和使用检查系统的检查方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本专利申请要求于2021年12月8日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10
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2021
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0174618的优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。


[0003]本公开的示例实施例涉及包括侧照明单元的空白掩模检查系统和使用该空白掩模检查系统的空白掩模检查方法。

技术介绍

[0004]在半导体器件制造过程中使用各种掩模。掩模通常使用空白掩模形成，因此空白掩模的缺陷可能导致半导体器件制造过程中的各种问题。需要用于快速检测和准确检查空白掩模的缺陷的技术。

技术实现思路

[0005]本公开的示例实施例提供了能够快速准确地检查空白掩模的缺陷的检查系统和检查方法。
[0006]根据本公开的示例实施例的检查系统包括：台单元，被配置为在台单元上加载空白掩模；侧照明单元，被配置为面对空白掩模的侧表面，并且包括多个LED；以及相机，与空白掩模邻近。
[0007]根据本公开的示例实施例的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种检查系统，包括：台单元，被配置为在所述台单元上加载空白掩模；侧照明单元，被配置为面对所述空白掩模的侧表面，所述侧照明单元包括多个发光二极管；以及相机，与所述空白掩模邻近。2.根据权利要求1所述的检查系统，其中，所述侧照明单元被配置为使得：从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束相对于所述空白掩模的上表面形成0至10度的角度。3.根据权利要求1所述的检查系统，其中，所述侧照明单元被配置为使得：从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束与所述空白掩模的上表面平行。4.根据权利要求1所述的检查系统，其中，所述侧照明单元被配置为使得：从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束的宽度为所述空白掩模的厚度的1至2倍。5.根据权利要求1所述的检查系统，其中，所述侧照明单元的水平宽度为所述空白掩模的最大水平宽度的1至2倍。6.根据权利要求1所述的检查系统，其中，所述侧照明单元具有环形；并且所述侧照明单元的内周长大于所述空白掩模的周长。7.根据权利要求1所述的检查系统，还包括：竖直照明单元，与所述相机邻近并与所述侧照明单元间隔开。8.根据权利要求7所述的检查系统，其中，所述竖直照明单元被配置为使得：从所述竖直照明单元照射的检查光束相对于所述空白掩模的上表面所形成的角度在85至90度之间。9.根据权利要求7所述的检查系统，其中，所述竖直照明单元被配置为使得：从所述竖直照明单元照射的检查光束相对于所述空白掩模的上表面垂直。10.根据权利要求1所述的检查系统，还包括：倾斜照明单元，被配置为在倾斜方向上朝向所述空白掩模的上表面照射检查光束。11.根据权利要求10所述的检查系统，其中，所述倾斜方向相对于所述空白掩模的上表面在15至85度之间。12.根据权利要求1所述的检查系统，还包括：图像处理单元，连接到所述相机。13.一种检查系统中的检查方法，其中所述检查系统包括：台单元，被配置为在所述台单元上加...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔正勋，郑胤松，刘相用，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：