磁控溅射镀膜设备及其控制方法技术

技术编号:37842673 阅读:12 留言:0更新日期:2023-06-14 09:47
本发明专利技术公开了一种磁控溅射镀膜设备及其控制方法,所述磁控溅射镀膜设备包括传送带、多个溅射位、多个溅射装置、多个检测组件以及控制装置,传送带用于传送调试片;溅射位沿所述传送带的传送方向依次间隔设置;溅射装置一对一地设置于所述溅射位,所述溅射装置用于对所述调试片进行镀膜处理;检测组件设置在所述溅射装置的两侧,用于检测是否有调试片;控制装置与所述检测组件和所述溅射装置电连接,用于根据所述检测组件检测是否有调试片时,控制所述溅射装置工作在预设节能电源功率和/或预设调试电源功率。用于解决能耗过多的问题。设调试电源功率。用于解决能耗过多的问题。设调试电源功率。用于解决能耗过多的问题。

【技术实现步骤摘要】
磁控溅射镀膜设备及其控制方法


[0001]本专利技术涉及磁控溅射镀膜
,具体涉及一种磁控溅射镀膜设备及其控制方法。

技术介绍

[0002]大型磁控溅射镀膜设备是一种能耗较高的机械装置,用于生产定制玻璃等产品。但因实际加工过程中对产品需求的不同,一般会在同一磁控溅射生产线上生产加工多种类型的产品,而在转换加工的产品类型时,需要根据转换的产品类型取调试片进行调试。因在生产模式状态下,需要所有溅射装置自始工作在生产电源功率,而在调试模式状态下,设置的多个溅射装置并不一定要全部处于工作状态,但现有的磁控溅射镀膜设备在调试过程中会打开所有的溅射装置,且所有溅射装置自始工作在调试电源功率,以至于调试模式下的耗能约达总能耗的30%,存在耗能过多的问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的之一在于提供一种磁控溅射镀膜设备,用于解决能耗过多的问题。
[0004]为实现上述目的,本专利技术提供了一种磁控溅射镀膜设备,所述磁控溅射镀膜设备包括:
[0005]传送带,以供传送调试片,所述传送带沿其传送方向设置有相对的传送始端和传送末端;
[0006]多个溅射位,所述溅射位沿所述传送带的传送方向依次间隔设置;
[0007]多个溅射装置,所述溅射装置一对一地设置于所述溅射位,所述溅射装置用于对所述调试片进行镀膜处理;
[0008]多个检测组件,所述检测组件设置在所述溅射装置的两侧,用于检测是否有调试片;以及
[0009]控制装置,所述控制装置与所述检测组件和所述溅射装置电连接,用于根据所述检测组件检测是否有调试片时,控制所述溅射装置工作在预设节能电源功率和/或预设调试电源功率。
[0010]在一实施例中,所述检测组件为检测组件,所述检测组件的检测区域与所述溅射装置的溅射靶材的位置对应。
[0011]在一实施例中,所述预设节能电源功率小于预设调试电源功率。
[0012]在一实施例中,所述预设节能电源功率为5

10kW/h;所述预设调试电源功率为50

150kW/h。
[0013]在一实施例中,所述磁控溅射镀膜设备还包括切换组件,所述切换组件用于触发模式信号,所述模式信号包括调试模式信号和生产模式信号,所述控制装置与所述切换组件电连接,用于在接收到所述调试模式信号时控制多个所述溅射装置工作在预设节能电源
功率;或者,在接收到所述生产模式信号时控制多个所述溅射装置工作在预设生产电源功率。
[0014]在一实施例中,所述磁控溅射镀膜设备还包括输入装置,所述控制装置与所述输入装置电连接,所述输入装置用于输入调试信息,所述调试信息包括预设调试电源功率和预设节能电源功率。
[0015]在一实施例中,所述磁控溅射镀膜设备还包括前缓冲区,所述前缓冲区设置在所述传送带的传送始端,所述前缓冲区包括沿所述传送带的传送方向依次设置的多个大气真空缓冲室,以使所述调试片的气压在进入所述传送始端前呈递进式减少。
[0016]在一实施例中,所述磁控溅射镀膜设备还包括后缓冲区,所述后缓冲区设置在所述传送带的传送末端,所述后缓冲区包括沿所述传送带的传送方向依次设置的多个真空大气缓冲室,以使所述调试片的气压在离开所述传送末端前呈递进式增加。
[0017]本专利技术的主要目的之二在于提供一种磁控溅射镀膜设备控制方法,用于解决能耗过多的问题。
[0018]为实现上述目的,本专利技术提供了一种磁控溅射镀膜设备控制方法,应用于如本专利技术目的之一所述的磁控溅射镀膜设备,所述磁控溅射镀膜设备控制方法包括以下步骤:
[0019]各个检测组件检测是否有调试片;
[0020]确定使用溅射装置和待定溅射装置,包括:沿所述传送带的传送方向,所述使用溅射装置的上一检测组件检测到有调试片,其余所述溅射装置为待定溅射装置;
[0021]控制所述使用溅射装置工作在预设调试电源功率,以及控制所述待定溅射装置工作在预设节能电源功率,所述预设节能电源功率小于预设调试电源功率。
[0022]在一实施例中,所述磁控溅射镀膜设备控制方法还包括以下步骤:
[0023]控制所有所述溅射装置工作在预设节能电源功率;
[0024]沿所述传送带的传送方向,所述溅射装置上一检测组件检测无调试片到有调试片时,判断所述溅射装置为使用溅射装置,控制所述溅射装置变换工作在预设调试电源功率。
[0025]在一实施例中,控制所述溅射装置变换工作在预设调试电源功率的步骤后还包括以下步骤:
[0026]沿所述传送带的传送方向,所述溅射装置上一检测组件检测为无调试片,下一检测组件检测到有调试片到无调试片时,判断所述溅射装置变为待定溅射装置,控制所述溅射装置变换回工作在预设节能电源功率;和/或
[0027]沿所述传送带的传送方向,所述溅射装置上一检测组件检测为有调试片,下一检测组件检测到有调试片到无调试片时,判断所述溅射装置仍为使用溅射装置,控制所述溅射装置保持工作在预设调试电源功率。
[0028]在一实施例中,在执行所述各个检测组件检测是否有调试片之前,所述磁控溅射镀膜设备控制方法还包括以下步骤:
[0029]获取切换组件输出的模式信号,所述模式信号包括生产模式信号和调试模式信号;
[0030]在接收到所述生产模式信号时,控制多个所述溅射装置工作在预设生产电源功率;
[0031]在接收到所述调试模式信号时,控制多个所述溅射装置工作在预设节能电源功
率。
[0032]与现有技术相比本专利技术具有以下有益效果:
[0033]沿传送带的传送方向间隔设置多个溅射位,并对应在多个溅射位设置多个溅射装置,由多个溅射装置对调试片进行镀膜处理,实现对调试片的自动化镀膜,优化调试效率;对应溅射装置设置检测组件,以使检测到有调试片的溅射位的溅射装置工作在预设调试电源功率,并使检测到无调试片的溅射位的溅射装置工作在预设节能电源功率,用以解决调试模式下能耗过多的问题;通过在各个溅射装置两侧设置检测组件,用以提高检测精度,避免出现电源功率升降不及时以及电源功率升降有误的问题,进一步优化调试及生产效率。
附图说明
[0034]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0035]图1为本专利技术的磁控溅射镀膜设备的一实施例的结构简图;
[0036]图2为本专利技术的磁控溅射镀膜设备控制方法的一实施例的流程图;
[0037]图中:100、传送带;200、溅射位;301、电源组件;400、检测组件;510、前缓冲区;520、后缓冲区;600、调试片。
[0038]本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述磁控溅射镀膜设备包括:传送带,以供传送调试片,所述传送带沿其传送方向设置有相对的传送始端和传送末端;多个溅射位,所述溅射位沿所述传送带的传送方向依次间隔设置;多个溅射装置,所述溅射装置一对一地设置于所述溅射位,所述溅射装置用于对所述调试片进行镀膜处理;多个检测组件,所述检测组件设置在所述溅射装置的两侧,用于检测是否有调试片;以及控制装置,所述控制装置与所述检测组件和所述溅射装置电连接,用于根据所述检测组件检测是否有调试片时,控制所述溅射装置工作在预设节能电源功率和/或预设调试电源功率。2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述检测组件为光电检测组件,所述光电检测组件的检测区域与所述溅射装置的溅射靶材的位置对应。3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述预设节能电源功率小于预设调试电源功率。4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述预设节能电源功率为5

10kW/h;所述预设调试电源功率为50

150kW/h。5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述磁控溅射镀膜设备还包括切换组件,所述切换组件用于触发模式信号,所述模式信号包括调试模式信号和生产模式信号,所述控制装置与所述切换组件电连接,用于在接收到所述调试模式信号时控制多个所述溅射装置工作在预设节能电源功率;或者,在接收到所述生产模式信号时控制多个所述溅射装置工作在预设生产电源功率。6.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述磁控溅射镀膜设备还包括输入装置,所述控制装置与所述输入装置电连接,所述输入装置用于输入调试信息,所述调试信息包括预设调试电源功率和预设节能电源功率。7.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述磁控溅射镀膜设备还包括前缓冲区,所述前缓冲区设置在所述传送带的传送始端,所述前缓冲区包括沿所述传送带的传送方向依次设置的多个大气真空缓冲室,以使所述调试片的气压在进入所述传送始端前呈递进式减少。8.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述磁控溅射镀膜设备还包...

【专利技术属性】
技术研发人员:张伟邓军
申请(专利权)人:广东旗滨节能玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:

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