下载磁控溅射镀膜设备及其控制方法的技术资料

文档序号:37842673

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本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备及其控制方法,所述磁控溅射镀膜设备包括传送带、多个溅射位、多个溅射装置、多个检测组件以及控制装置,传送带用于传送调试片;溅射位沿所述传送带的传送方向依次间隔设置;溅射装置一对一地设置于所述溅射位,所述溅射装置...
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