一种用于低温中子散射实验的合金样品盒制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于低温中子散射实验的合金样品盒，涉及中子散射科学技术领域，包括：由低散射背底的中子透明材料制备而成的容纳筒，容纳筒的一端为封闭端，另一端为开口端；固定法兰，固定法兰上设置有通孔，容纳筒位于固定法兰的一侧，且容纳筒的开口端与通孔的边缘密封连接，固定法兰上与设置容纳筒相反的一侧设置有环形密封槽，环形密封槽位于通孔的周侧，环形密封槽内设置有密封件；密封法兰，密封法兰的一侧设有密封塞，密封塞与通孔适配，用于对通孔封堵，密封法兰与固定法兰连接。本实用新型专利技术可以使中子很容易的穿过它照射到样品上，不仅降低了散射数据的背底噪声，同时避免了中子通量的过度损失。时避免了中子通量的过度损失。时避免了中子通量的过度损失。

【技术实现步骤摘要】
一种用于低温中子散射实验的合金样品盒


[0001]本技术涉及中子散射科学
，更具体的说是涉及一种用于低温中子散射实验的合金样品盒。

技术介绍

[0002]在中子科学研究实验中，为分析样品晶体结构及磁结构等信息，通常需要将粉末样品盛放在专为低温中子散射实验设计的低背底的样品盒中，低背底的样品盒不仅为粉末样品提供了密闭的放置空间，还可以使中子很容易的透过它照射到样品上，而不产生过多的杂散信号，为低温中子散射实验提供了可能，也为后续的数据分析提供了便利。
[0003]随着中国中子相关研究的发展，国内中子源和中子谱仪的陆续建成，对中子散射用样品盒的需求大大增加，特别是低温中子散射实验对密封用样品盒提出了更高要求，其结构优化设计也显得尤为重要。
[0004]但是，现有的样品盒真空漏率较大，容易产生杂散信号，背底噪声大，容易导致中子通量的损失，影响样品晶体结构的分析和磁结构的研究。
[0005]因此，如何提供一种能够减小真空漏率、背底噪声和中子通量损失的样品盒是本领域技术人员亟需解决的问题。

技术实现思路

[0006]有鉴于此，本技术提供了一种用于低温中子散射实验的合金样品盒，旨在解决上述
技术介绍
中的问题，减小样品盒的真空漏率，降低背底噪声和中子通量损失。
[0007]为了实现上述目的，本技术采用如下技术方案：
[0008]一种用于低温中子散射实验的合金样品盒，包括：
[0009]由低散射背底的中子透明材料制备而成的容纳筒，所述容纳筒的一端为封闭端，另一端为开口端；
[0010]固定法兰，所述固定法兰上设置有通孔，所述容纳筒位于所述固定法兰的一侧，且所述容纳筒的开口端与所述通孔的边缘密封连接，所述固定法兰上与设置所述容纳筒相反的一侧设置有环形密封槽，所述环形密封槽位于所述通孔的周侧，所述环形密封槽内设置有密封件；
[0011]密封法兰，所述密封法兰的一侧设有密封塞，所述密封塞与所述通孔适配，用于对所述通孔封堵，所述密封法兰与所述固定法兰连接。
[0012]进一步地，所述密封件为铜环或铟丝。
[0013]进一步地，所述密封法兰的边缘处设有螺栓孔和螺纹孔，所述固定法兰上对应所述密封法兰上螺纹孔和螺栓孔的位置均设置有螺栓孔，且所述密封法兰上的螺栓孔位于所述环形密封槽的外周侧。
[0014]进一步地，所述通孔位于所述固定法兰的中心位置，所述环形密封槽与所述通孔同轴设置。
[0015]进一步地，所述容纳筒的壁厚小于0.2mm。
[0016]经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本技术公开提供了一种用于低温中子散射实验的合金样品盒，通过将容纳筒的一端与固定法兰连接，容纳筒与固定法兰上的通孔连通，密封法兰与固定法兰连接，用于对通孔密封，进而实现对容纳筒的密封，通过在固定法兰上设置有环形密封槽，环形密封槽内设置有密封件，能够实现对容纳筒的封堵；容纳筒不仅用来盛装粉末样品，还可以用来盛装各类对水氧敏感的块类、棒类样品和液态样品等；此外容纳筒由低散射背底的中子透明材料制备而成，可以使中子很容易的穿过它照射到样品上，不仅降低了散射数据的背底噪声，同时避免了中子通量的过度损失；同时，由于该样品盒由固定法兰与密封法兰连接而成，结构简单，制造安装方便，且便于与环境设备连接，为中子散射低温实验带来了极大便利。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0018]图1为本技术提供的固定法兰和容纳筒的结构示意图；
[0019]图2为本技术提供的密封法兰的结构示意图。
[0020]其中：1为容纳筒；2为固定法兰；3为密封法兰；4为通孔；5为环形密封槽；6为密封塞。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]参见图1和2，本技术实施例公开了一种用于低温中子散射实验的合金样品盒，包括：
[0023]由低散射背底的中子透明材料制备而成的容纳筒1，容纳筒1的一端为封闭端，另一端为开口端；
[0024]固定法兰2，固定法兰2上设置有通孔4，容纳筒1位于固定法兰2的一侧，且容纳筒1的开口端与通孔4的边缘密封连接，固定法兰2上与设置容纳筒1相反的一侧设置有环形密封槽5，环形密封槽5位于通孔4的周侧，环形密封槽5内设置有密封件(图中未示出)；
[0025]密封法兰3，密封法兰3的一侧设有密封塞6，密封塞6与通孔4适配，用于对通孔4封堵，密封法兰3与固定法兰2连接。
[0026]其中，低散射背底的中子透明材料可以是低中子散射背底的特制合金，如钛锆合金、钒镍合金或纯钒金属等，具体地，容纳筒1的壁厚小于0.2mm；固定法兰2和密封法兰3均采用质轻、低辐照活性、低的中子散射界面的合金制成，如钛合金等。容纳筒1与固定法兰2采用焊接的方式以实现两者的密封连接。
[0027]在本实施例中，优选地，密封件为铜环或铟丝。通过将铜环或铟丝采用过盈的方式填充到环形密封槽5内，进而保证固定法兰2和密封法兰3之间的密封性。
[0028]在本实施例中，密封法兰3的边缘处设有螺栓孔和螺纹孔，固定法兰2上对应密封法兰3上螺纹孔和螺栓孔的位置均设置有螺栓孔，且密封法兰3上的螺栓孔位于环形密封槽5的外周侧。具体地，在密封法兰3的边缘处设置有四个螺栓孔和四个螺纹孔，四个螺栓孔和四个螺纹孔依次交替设置，并且以密封法兰3的轴线呈环形阵列布设，固定法兰2上设置有八个螺栓孔，固定法兰2上的八螺栓孔分别与固定法兰2上的四个螺栓孔和四个螺纹孔相对应，将螺栓从固定法兰2上的螺栓孔向密封法兰3上的螺纹孔旋转，以实现固定法兰2与密封法兰3的连接，而固定法兰2上剩余的螺栓孔和密封法兰3上的支撑孔用于与环境设备连接。
[0029]在上述实施例中，优选地，通孔4位于固定法兰2的中心位置，环形密封槽5与通孔4同轴设置。保证环形密封槽5中的密封件距离通孔4的位置相等，保证密封件受力的均衡性，保证密封效果。
[0030]本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
[0031]对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本技术。对这些实施例的多种修改对本领域的专业本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于低温中子散射实验的合金样品盒，其特征在于，包括：由低散射背底的中子透明材料制备而成的容纳筒，所述容纳筒的一端为封闭端，另一端为开口端；固定法兰，所述固定法兰上设置有通孔，所述容纳筒位于所述固定法兰的一侧，且所述容纳筒的开口端与所述通孔的边缘密封连接，所述固定法兰上与设置所述容纳筒相反的一侧设置有环形密封槽，所述环形密封槽位于所述通孔的周侧，所述环形密封槽内设置有密封件；密封法兰，所述密封法兰的一侧设有密封塞，所述密封塞与所述通孔适配，用于对所述通孔封堵，所述密封法兰与所述固定法兰连接。2.根据权利要求1所述的用于低温中子散...

【专利技术属性】
技术研发人员：何伦华，卢怀乐，陈洁，沈斐然，邓司浩，郝嘉政，谭志坚，
申请(专利权)人：散裂中子源科学中心，
类型：新型
国别省市：