稀土掺杂ＳｉＯ２基质发光薄膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种稀土掺杂ＳｉＯ↓［２］基质发光薄膜的制备方法，包括如下步骤：（１）将正硅酸乙酯Ｓｉ（Ｃ↓［２］Ｈ↓［５］Ｏ）↓［４］溶于乙醇或丙醇中；（２）上述溶液与硼酸的乙醇或丙醇水溶液混合；（３）加入盐酸或冰乙酸调节ｐＨ值２～３；（４）将可溶性铝盐加入上述溶液中；（５）加入可溶性稀土盐；（６）陈化得溶胶，制备薄膜，将薄膜在５００～１５００℃煅烧得发光薄膜。本发明专利技术制备的发光薄膜表面均匀，致密无开裂，薄膜粒子大小在１－５０ｎｍ，厚度可控，本发明专利技术方法工艺简单、无需真空设备、成本低、原料易得且无毒。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无机发光材料合成
，特别是一种稀土掺杂SiCb基质发光薄膜的制备方法。
技术介绍
发光薄膜是一种重要的功能材料，与传统的发光粉相比，发光薄膜在 对比度、分辨率、热传导、均匀性、与基底的附着性、释气速率等方面都 显示出较强的优越性，在彩电、显像管、计算机显示器、照明、医学、核 物理和辐射场、军事等领域都有广泛的应用。因此制备性能良好的发光薄 膜有着十分重要的意义。现有发光薄膜的制备方法包括磁控溅射、化学气 相沉积、准分子激光沉积等，这些方法除了其独特优点之外，都存在工艺 比较复杂、设备比较昂贵等局限性。而溶胶-凝胶法被认为是制备各种薄膜 最经济、最重要、最有前途的一种方法。该工艺是用金属的有机或无机化 合物经过湿化学反应形成溶液、溶胶、凝胶而固化，再经热处理形成氧化 物或经掺杂处理而形成其它复合材料的方法。通过溶液分子级水平的混合 可获得超均匀、超纯的固体材料，并能使一些独具特性的有机基团引入到 无机化合物中形成有机改性杂化材料。已开发的发光材料基质有硫化物和氧化物两大系列，但大量的研究主要集中在ZnS、 CaS、 SrS等硫化物材 料。由于硫化物自身不稳定，对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种稀土掺杂ＳｉＯ↓［２］基质发光薄膜的制备方法，包括如下步骤：　（１）将正硅酸乙酯Ｓｉ（Ｃ↓［２］Ｈ↓［５］Ｏ）↓［４］溶于乙醇或丙醇中；　（２）上述溶液与硼酸的乙醇或丙醇水溶液混合；　（３）调节ｐＨ值２～３；　（４）将可溶性铝盐加入上述溶液中；　（５）加入可溶性稀土Ｅｕ↑［３＋］、Ｔｂ↑［３＋］或Ｄｙ↑［３＋］盐的一种或两种；　（６）陈化得溶胶，制备薄膜，将薄膜在５００～１５００℃煅烧得发光薄膜；　上述步骤中正硅酸乙酯∶硼酸∶可溶性铝盐∶稀土可溶性盐的摩尔比为１∶０．２～０．８∶０．００１～０．００５∶０．００１～０．０１６。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡晓云，樊君，江东，苗仲海，潘静，张德恺，
申请(专利权)人：西北大学，
类型：发明
国别省市：87[中国|西安]