用于精确基准查找的形状不变方法技术

通过将模板与从工件图像提取的感兴趣区对准来获得基准坐标。沿着模板轴线投影所述感兴趣区中的图像值，并评估投影值以建立基准位置，所述基准位置可用作用于定位工件区域以用于离子束铣削或其它处理的参考位置。于离子束铣削或其它处理的参考位置。于离子束铣削或其它处理的参考位置。

【技术实现步骤摘要】
用于精确基准查找的形状不变方法


[0001]本公开涉及使用基准的工件对准。

技术介绍

[0002]半导体和其它装置的制造和评估中的各种程序需要确定任何感兴趣区在装置上的精确坐标。为了帮助定位选定区，装置和装置衬底设置有可允许衬底对准的基准。基准通常包含意图用于相对于正交线性轴线(即，X轴和Y轴)定向衬底并且在一些情况下还相对于这些轴线进行角度对准的特征。
[0003]在一些应用中，必须定位多个感兴趣区，并且标识接近这些区的基准并将其用于位置查找。操作员可将衬底放置在成像系统的视场中，并使用由基准限定的边缘来建立坐标。这种操作员干预可能是耗时且容易出错的。通常可能要求操作员定位基准，获得工件的多个图像，并且在额外图像处理之前相对于基准放置参考标记以确定精确位置。不同形状的基准通常需要不同的处理方法，这些处理方法实施起来可能是耗时且容易出错的。需要替代方法，尤其是减少操作员干预需求的方法。

技术实现思路

[0004]方法包括以第一分辨率获得工件的图像并标识图像中的工件基准，并且以第一分辨率选择工件的图像的包含工件基准图像的一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种方法，其包括：以第一分辨率获得工件的图像并标识所述图像中的工件基准；以所述第一分辨率选择所述工件的所述图像的包含工件基准图像的一部分作为感兴趣区(ROI)图像；处理所述ROI图像以使得所述ROI图像具有大于所述第一分辨率的第二分辨率；基于所述工件基准用模板掩蔽所述ROI图像；以及处理掩蔽后的ROI图像以建立与所述工件基准相关联的至少一个工件坐标。2.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括基于至少一个所建立工件坐标来处理工件区域。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述处理所述工件区域包含离子束铣削所述工件区域。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述模板是二元模板。5.根据权利要求1所述的方法，其中至少一个工件坐标包含分别沿着第一轴线和第二轴线的第一坐标和第二坐标中的至少一个，其中所述第一轴线和所述第二轴线是线性独立的轴线。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一个工件坐标通过标识所述掩蔽后的ROI图像中的基准边缘而建立。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一个工件坐标通过沿着至少一个模板轴线投影图像值并处理所投影图像值而建立。8.根据权利要求7所述的方法，其中所述所投影图像值是沿着横向于所述模板轴线的轴线的位置的函数，并且所述至少一个坐标基于最大或最小所投影图像值中的一个或多个而获得。9.根据权利要求7所述的方法，其中所述所投影图像值是沿着横向于所述模板轴线的轴线的位置的函数，并且所述至少一个坐标基于最小所投影图像值而获得。10.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理所述ROI图像以使得所述ROI图像具有大于所述第一分辨率的第二分辨率包含将所述ROI图像放大成对应于所述模板。11.根据权利要求1所述的方法，其中基于所述工件基准用模板掩蔽所述ROI图像包含基于所述ROI图像中的基准尺寸放大所述模板。12.一种双带电粒子束系统，其包括：电子显微镜柱，其定位成...

【专利技术属性】
技术研发人员：U，
申请(专利权)人：FEI公司，
类型：发明
国别省市：