一种共掺杂型SnO2复合光催化抗菌剂、制备方法及应用技术

本发明专利技术公开一种共掺杂型SnO2复合光催化抗菌剂、制备方法及应用，该方法采用共沉淀法和水热法制备了一系列Er和Co双元素掺杂的SnO2，其可见光催化抗菌性能优于未掺杂的SnO2，该材料可用于抗菌，光催化降解有机物，以及抗生素的降解。本发明专利技术制备的材料掺杂Er可以将太阳光谱的近红外辐射转化为可见光区域，提高了合成的SnO2的可见光吸收，而Co的加入可以拓宽SnO2的吸收光谱，减小其能隙。两种元素都能阻碍电子与空穴的复合，从而有效地提高了光催化抗菌性能。故该方法将为制备性能优异的新型光催化抑菌材料提供启示。型光催化抑菌材料提供启示。型光催化抑菌材料提供启示。

【技术实现步骤摘要】
一种共掺杂型SnO2复合光催化抗菌剂、制备方法及应用


[0001]本专利技术属于抗菌材料制备
，具体涉及一种共掺杂型SnO2复合抗菌剂的制备方法。

技术介绍

[0002]细菌感染是世界范围内重症监护病房(ICU)发病和死亡的主要原因。它们已成为全球公共卫生的威胁。我们所处的日常生活环境中存在着大量的细菌，致病菌的肆意生长和蔓延会引起一系列的人体疾病和伤口感染。青霉素的发现，使得人类能够在一定程度上抵御细菌的侵害，抗生素沿用至今，对人类做出了非常大的贡献。然而由于农业，食品和制药/医疗等部门对抗生素的不当使用，近年来出现了大量的耐药菌株，而耐药菌的出现，使得传统抗生素对细菌的杀灭能力不足，因此迫切需要开发新的抗菌剂来治疗细菌。
[0003]无机抗菌剂因兼具杀菌率高，耐热性好，环保性能优越，安全系数高等优点，逐渐被关注，重要的是，它们在使用过程中不会产生细菌耐药性。光催化抗菌技术是在常温常压下，半导体材料在受到光辐射的激发后，产生具有高活性的
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OH、
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、H2O2等活性氧(ROS)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种共掺杂型SnO2复合光催化抗菌剂，所述复合抗菌剂为：包含掺杂金属元素的SnO2；所述掺杂金属元素为Er和Co；所述共掺杂型SnO2复合光催化抗菌剂为三维分层花状纳米结构；以物质的量计，n(Er)/n(Sn)=1.0%或1.5%或2.0%、n(Co)/n(Sn)=0.5%或1.0%或1.5%或2.0%。2.如权利要求1所述的共掺杂型SnO2复合光催化抗菌剂的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：S1.称取SnCl2·
2H2O溶在H2O中，形成溶液A，倒入三口烧瓶中；将Na3C6H5O7·
2H2O溶于乙醇和水的混合溶液中，形成溶液B；S2.将溶液B在水浴搅拌下滴加到溶液A中反应；然后将Er(NO3)3·
5H2O溶于水中滴入三口烧瓶中，待溶液滴加完后，继续滴加Co(NO3)
2 ·
6H2O水溶液，最后再滴入一定量的NaOH水溶液调节pH值；掺杂的Er(NO3)3·
5H2O与SnCl2·
2H2O的物质的量之比分别为n(Er)/n(Sn)=1.0%或1.5%或2.0%；掺杂的Co(NO3)
2 ·
6H2O与SnCl2·
2H2O的物质的量之比分别为n(Co)/n(Sn)=0.5%或1.0%或1.5%或2.0%；S3.将S2完成后的溶液转入高压反应釜中，进行水热反应，然后自然冷却至室温；S4.将S3完成后的产物通过离心收集，并用去离子水和无水乙醇交替洗涤；洗涤后的产物进行干燥，并在马弗炉中煅烧，得到光催化抗菌剂粉末样品。3.根据权利要求1所述的共掺杂型SnO2复合光催化抗菌剂的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：S1.称取1.8048g SnCl2·
2H2O溶在30 ml H2O中，形成溶液A，倒入三口烧瓶中；将Na3C6H5O7·
2H2O溶于30 ml乙醇和水的混合溶液中，形成溶液B；S2.将...

【专利技术属性】
技术研发人员：张彬，杨正芳，梁兴昆，代荣，唐晓宁，马浩，
申请(专利权)人：昆明理工大学，
类型：发明
国别省市：