处理液供给装置和处理液排出方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够高效率地进行处理液供给装置的维护的处理液供给装置和处理液排出方法。处理液供给装置用于对向基片释放处理液的释放部供给处理液，包括：第一罐；第一管路；第二管路；设置在第二管路中的泵；设置在第二管路中的第一罐与泵之间的过滤器；排液管路；第一开闭阀；第二开闭阀；第三开闭阀；第四开闭阀；连接在第二管路中的第二开闭阀与过滤器之间的、用于供给气体的第一气体供给路径；第五开闭阀；和控制部，控制部能够并行地执行：第一控制，控制第一开闭阀和第二开闭阀，使得向第一罐填充处理液；和第二控制，控制第三开闭阀、第四开闭阀和第五开闭阀，使得利用来自第一气体供给路径的气体将第二管路内的处理液排出。体供给路径的气体将第二管路内的处理液排出。体供给路径的气体将第二管路内的处理液排出。

【技术实现步骤摘要】
处理液供给装置和处理液排出方法


[0001]本专利技术涉及处理液供给装置和处理液排出方法。

技术介绍

[0002]专利文献1公开了一种涂敷显影装置，其包括：用于释放处理液的喷嘴；用于向喷嘴供给处理液的处理液供给部；和控制器。上述处理液供给部包括：用于将处理液从罐引导至喷嘴的送液管；设置在送液管中的泵；和在送液管中设置在罐与泵之间的过滤器，其包括罐侧的第一空间、泵侧的第二空间和过滤材料。上述控制器能够执行：第一控制，控制处理液供给部使得利用泵使处理液从第一空间侧经由过滤材料向第二空间侧流动；和第二控制，在第一控制之后，控制处理液供给部使得利用泵使处理液从第二空间侧经由过滤材料向第一空间侧流动。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2018
‑
32688号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]本专利技术的技术能够高效率地进行处理液供给装置的维护。
[0008]用于解决技术问题的手段
[0009本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种处理液供给装置，其用于对向基片释放处理液的释放部供给处理液，所述处理液供给装置的特征在于，包括：第一罐，其用于收纳来自处理液供给源的处理液；第一管路，其用于将处理液从所述处理液供给源引导至所述第一罐；第二管路，其用于将处理液从所述第一罐引导至所述释放部；设置在所述第二管路中的泵；设置在所述第二管路中的所述第一罐与所述泵之间的过滤器；与所述过滤器连接的排液管路；设置在所述第一管路中的第一开闭阀；设置在所述第二管路中的所述第一罐与所述过滤器之间的第二开闭阀；设置在所述第二管路中的所述过滤器与所述泵之间的第三开闭阀；设置在所述排液管路中的第四开闭阀；连接在所述第二管路中的所述第二开闭阀与所述过滤器之间的、用于供给气体的第一气体供给路径；设置在所述第一气体供给路径中的第五开闭阀；和控制部，所述控制部能够并行地执行：第一控制，控制所述第一开闭阀和所述第二开闭阀，使得向所述第一罐填充处理液；和第二控制，控制所述第三开闭阀、所述第四开闭阀和所述第五开闭阀，使得利用来自所述第一气体供给路径的气体将所述第二管路内的处理液排出。2.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于：所述处理液供给源是贮存处理液的第二罐。3.如权利要求2所述的处理液供给装置，其特征在于，还包括：与所述第一罐连接的、用于向该第一罐供给气体的第二气体供给路径；和与所述第二罐连接的、用于向该第二罐供给气体的第三气体供给路径。4.如权利要求3所述的处理液供给装置，其特征在于：所述第一气体供给路径不与所述第三气体供给路径连接，而与所述第二气体供给路径连接。5.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于：所述控制部能够在执行作为所述第二控制的下述两个控制的期间继续执行所述第一控制，这两个控制是：控制所述第三开闭阀、所述第四开闭阀和所述第五开闭阀，使得利用来自所述第一气体供给路径的气体将所述第二管路内的...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村知己，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：