感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种感光性转印材料、以及使用上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法，所述感光性转印材料具有：临时支承体；以及包含碱溶性树脂、烯属不饱和化合物及光聚合引发剂的感光性树脂层，将上述感光性树脂层用以mJ/cm2为单位的曝光量(Ep)曝光10μm/10μm的线与空间图案之后，经过3小时时的双键反应区域宽度(W3)与经过24小时时的双键反应区域宽度(W

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法。

技术介绍

[0002]在具备静电电容型输入装置等的触摸面板的显示装置(有机电致发光(EL)显示装置及液晶显示装置等)中，在触摸面板内部，设置有相当于视觉辨认部的传感器的电极图案、外围配线部分及引出配线部分的配线等的导电层图案。
[0003]通常，在图案化的层的形成中，用于获得所需的图案形状的工序数量少，因此广泛使用利用感光性转印材料，隔着具有所期望的图案的掩模，对设置在任意基板上的感光性树脂组合物的层进行曝光之后再进行显影的方法。
[0004]并且，作为以往的感光性树脂组合物，已知有专利文献1中所记载的组合物。
[0005]在专利文献1中，记载有一种感光性树脂组合物，其特征在于，以曝光面中的作为感光成分所包含的烯属不饱和化合物的反应率成为70％的方式进行曝光固化反应之后，保存在暗处时，整个版的不饱和化合物的反应率实质上没有变化，并且曝光面与非曝光面中的局部反应率之差在24小时后也保持在20％以上。
[0006]专利文献1：日本特开2001
‑
356493号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的技术课题
[0008]在使用感光性转印材料的配线形成工艺中，在对贴合在具有导电层的基板上的感光性树脂层进行曝光时，在各个感光性树脂层中，从曝光完成到进行显影为止的经过时间上产生差异，根据情况有时该差异会在数小时左右。并且，有时经曝光的感光性树脂层不会立即显影而是放置一定时间，在这种情况下，自曝光完成的经过时间会进一步延长。关于如上所述的曝光后的放置时间，尤其在进行卷对卷工艺的情况下，从卷的卷出部到卷芯部的输送需要时间，因此存在变大的倾向。
[0009]本专利技术的一实施方式所要解决的课题在于提供一种随着曝光后的放置时间的经过而树脂图案的线宽变化小的感光性转印材料。
[0010]并且，本专利技术的另一实施方式所要解决的课题在于，提供一种使用了上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法。
[0011]用于解决技术课题的手段
[0012]在用于解决上述课题的方案中包含以下方式。
[0013]<1>一种感光性转印材料，其具有：临时支承体；以及包含碱溶性树脂、烯属不饱和化合物及光聚合引发剂的感光性树脂层，将上述感光性树脂层用以mJ/cm2为单位的曝光量Ep曝光10μm/10μm的线与空间图案之后，经过3小时时的双键反应区域宽度W3与经过24小时
时的双键反应区域宽度W
24
满足W
24
/W3≤1.05。
[0014]W3及W
24
设为将经曝光的感光性转印材料进行溴染色之后，通过二次离子质谱分析法得到的双键反应区域宽度，
[0015]上述Ep满足Ep＝2
×
Eb，
[0016]上述Eb设为表示将上述感光性树脂层贴附在基板上之后，隔着15阶阶梯光楔(stepwedge)通过照度20mW/cm2的高压汞灯以曝光量180mJ/cm2进行曝光，赋予显影后的感光性树脂层的层厚
±
1％的残留层厚的阶数的曝光量。
[0017]<2>根据<1>所述的感光性转印材料，其中，
[0018]将上述感光性树脂层用上述曝光量Ep并以10μm/10μm的线与空间图案进行曝光之后，经过3小时时的双键反应区域宽度W3与经过72小时时的双键反应区域宽度W
72
满足W
72
/W3≤1.10。
[0019]W
72
设为将经曝光的感光性转印材料进行溴染色之后，通过二次离子质谱分析法得到的双键反应区域宽度。
[0020]<3>根据<1>或<2>所述的感光性转印材料，其中，
[0021]上述烯属不饱和化合物包含具有双酚结构的烯属不饱和化合物。
[0022]<4>根据<1>至<3>中任一项所述的感光性转印材料，其中，
[0023]上述光聚合引发剂包含联咪唑化合物及二苯甲酮化合物。
[0024]<5>根据<1>至<4>中任一项所述的感光性转印材料，其中，
[0025]上述感光性树脂层还包含阻聚剂。
[0026]<6>根据<5>所述的感光性转印材料，其中，
[0027]上述阻聚剂包含选自吩噻嗪、吩噁嗪及具有受阻酚结构的化合物中的至少1种化合物。
[0028]<7>根据<5>或<6>所述的感光性转印材料，其中，
[0029]将上述感光性树脂层中的上述光聚合引发剂的含量设为Rc、上述阻聚剂的含量设为Rd的情况下，它们的质量比Rd/Rc的值为0.02以上且0.1以下。
[0030]<8>根据<7>所述的感光性转印材料，其中，
[0031]上述质量比Rd/Rc的值为0.03以上且0.05以下。
[0032]<9>一种树脂图案的制造方法，其依次包括：使<1>至<8>中任一项所述的感光性转印材料中的相对于上述临时支承体具有感光性树脂层的一侧的最外层与基板接触而贴合的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；及对经曝光的上述感光性树脂层进行显影而形成树脂图案的工序。
[0033]<10>根据<9>所述的树脂图案的制造方法，其中，
[0034]上述树脂图案的至少一部分包含线与空间图案，上述线与空间图案中的至少1组的线及空间的宽度合计为20μm以下。
[0035]<11>一种电路配线的制造方法，其依次包括：使<1>至<8>中任一项所述的感光性转印材料中的相对于上述临时支承体具有感光性树脂层的一侧的最外层与具有导电层的基板接触而贴合的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；对经曝光的上述感光性树脂层进行显影而形成树脂图案的工序；及对未配置有上述树脂图案的区域中的上述基板进行蚀刻处理的工序。
[0036]<12>一种本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种感光性转印材料，其具有：临时支承体；以及包含碱溶性树脂、烯属不饱和化合物及光聚合引发剂的感光性树脂层，将所述感光性树脂层用以mJ/cm2为单位的曝光量Ep曝光10μm/10μm的线与空间图案之后，经过3小时时的双键反应区域宽度W3与经过24小时时的双键反应区域宽度W
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满足W
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/W3≤1.05，W3及W
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设为将经曝光的感光性转印材料进行溴染色之后，通过二次离子质谱分析法得到的双键反应区域宽度，所述Ep满足Ep＝2
×
Eb，所述Eb设为表示将所述感光性树脂层贴附在基板上之后，隔着15阶阶梯光楔通过照度20mW/cm2的高压汞灯以曝光量180mJ/cm2进行曝光，赋予显影后的感光性树脂层的层厚
±
1％的残留层厚的阶数的曝光量。2.根据权利要求1所述的感光性转印材料，其中，将所述感光性树脂层用所述曝光量Ep并以10μm/10μm的线与空间图案进行曝光之后，经过3小时时的双键反应区域宽度W3与经过72小时时的双键反应区域宽度W
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满足W
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/W3≤1.10，W
72
设为将经曝光的感光性转印材料进行溴染色之后，通过二次离子质谱分析法得到的双键反应区域宽度。3.根据权利要求1或2所述的感光性转印材料，其中，所述烯属不饱和化合物包含具有双酚结构的烯属不饱和化合物。4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述光聚合引发剂包含联咪唑化合物及二苯甲酮化合物。5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述感光性树脂层还包含阻聚剂。6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：片山晃男，有富隆志，望月英宏，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：