感光性组合物、转印膜、图案形成方法、电路配线的制造方法技术

本发明专利技术提供一种在波长365nm的光下不易感光、在波长436nm的光下容易感光且在黄色灯下的保存稳定性优异的感光性组合物。并且，提供一种在波长365nm的光下不易感光、在波长405nm的光下容易感光且在黄色灯下的保存稳定性优异的感光性组合物。并且，提供一种使用上述感光性组合物的转印膜、图案形成方法及电路配线的制造方法。一种感光性组合物，其包含碱溶性树脂、聚合性化合物及光聚合引发剂，其中，该感光性组合物满足规定的要件3及4。光性组合物满足规定的要件3及4。光性组合物满足规定的要件3及4。

【技术实现步骤摘要】
感光性组合物、转印膜、图案形成方法、电路配线的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种感光性组合物、转印膜、图案形成方法及电路配线的制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，研究如下方法：在制造双面印刷配线基板等时，在具有透明基材和配置于上述透明基材的两面的透明导电层(透明导电膜)的带透明导电层的基材的各透明导电层上配置感光性组合物层，通过双面光刻工艺(双面曝光)在透明基材的两面形成图案化的透明导电层。并且，作为感光性组合物层，通常使用由负型感光性组合物形成的层。此外，由于用于得到规定图案的工序数少，因此有时使用转印膜将感光性组合物层配置于带透明导电层的基材。
[0003]然而，在双面曝光处理中，存在容易产生曝光模糊的问题。曝光模糊是指当对在透明基材的对置的两个表面上从透明基材侧依次分别具有透明导电层及感光性组合物层的层叠体进行双面曝光时，在其中一个感光性组合物层的曝光时，另一个感光性组合物层也会被该曝光光进行曝光的现象(fogging)。
[0004]例如，在专利文献1中，作为能够抑制双面曝光时的曝光模糊的图案形成方法，公开有如下图案形成方法：在配置于透明基材的表背两面的透明导电膜的图案形成中，在至少一个上述透明导电膜上形成遮挡曝光光的不透明层之后，还层叠光致抗蚀膜(感光性组合物层)。
[0005]专利文献1：日本特开2011
‑
154080号公报
[0006]上述的专利文献1的图案形成方法使用不透明层来实现双面曝光中的曝光模糊的抑制，但其一方面，当在触摸面板等的可见光区域形成具有透明性的导电性配线时，存在无法适用上述技术的问题。因此，在双面曝光中，对于能够抑制曝光模糊的感光性组合物有研究的余地。并且，近年来，还研究在双面曝光中适用不同波长的曝光光。作为在双面曝光中适用的曝光光的组合，例如可以举出将436nm作为主波长的曝光波长/将365nm作为主波长的曝光波长及将405nm作为主波长的曝光波长/将365nm作为主波长的曝光波长等组合。
[0007]此外，感光性组合物由于导入到转印膜等原因而以感光性组合物的层的形式流通的情况多，且以避免目的外的感光为目的而在黄色灯(安全灯。发出波长约500nm的光)下处理的情况多。因此，作为基本性能，对感光性组合物要求即使在黄色灯下长时间暴露，对图案形成性的影响也少(以下，“保存稳定性优异”)。

技术实现思路

[0008]因此，本专利技术的课题在于提供一种在波长365nm的光下不易感光、在波长436nm的光下容易感光且在黄色灯下的保存稳定性优异的感光性组合物。
[0009]并且，本专利技术的课题在于提供一种在波长365nm的光下不易感光、在波长405nm的光下容易感光且在黄色灯下的保存稳定性优异的感光性组合物。
[0010]并且，本专利技术的课题在于提供一种使用上述感光性组合物的转印膜、图案形成方
法及电路配线的制造方法。
[0011]本专利技术人等进行深入研究的结果，发现了通过以下的构成能够解决上述课题。
[0012]〔1〕
[0013]一种感光性组合物，其包含：
[0014]碱溶性树脂、
[0015]聚合性化合物、及
[0016]光聚合引发剂，
[0017]所述感光性组合物满足以下的要件4及5。
[0018]要件4：当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为436
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量4，将上述最低曝光量4的倒数设为光谱灵敏度4，
[0019]当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为365
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2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量2，将上述最低曝光量2的倒数设为光谱灵敏度2的情况下，光谱灵敏度4相对于光谱灵敏度2之比为1.5以上。
[0020]要件5：当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为436
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量4，将上述最低曝光量4的倒数设为光谱灵敏度4，
[0021]当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为500
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量3，将上述最低曝光量3的倒数设为光谱灵敏度3的情况下，光谱灵敏度4相对于光谱灵敏度3之比为10以上。
[0022]〔2〕
[0023]根据〔1〕所述的感光性组合物，其还满足以下的要件6。
[0024]要件6：当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为436
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量4，将上述最低曝光量4的倒数设为光谱灵敏度4，
[0025]当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为405
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量1，将上述最低曝光量1的倒数设为光谱灵敏度1时，光谱灵敏度4相对于光谱灵敏度1之比大于1.0。
[0026]〔3〕
[0027]一种感光性组合物，其包含：
[0028]碱溶性树脂、
[0029]聚合性化合物、及
[0030]光聚合引发剂，
[0031]所述感光性组合物满足以下的要件1及2。
[0032]要件1：当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为405
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量1，将上述最低曝光量1的倒数设为光谱灵敏度1，
[0033]当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为365
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量2，将上述最低曝光量2的倒数设为光谱灵敏度2的情况下，光谱灵敏度1相对于光谱灵敏度2之比为1.5以上。
[0034]要件2：当对上述感光性组合物的层实施用具有中心波长为405
±
2nm且半峰宽度为10
±
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种感光性组合物，其包含：碱溶性树脂、聚合性化合物、及光聚合引发剂，所述感光性组合物满足以下的要件4及5，要件4：当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为436
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量4，将所述最低曝光量4的倒数设为光谱灵敏度4，当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为365
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量2，将所述最低曝光量2的倒数设为光谱灵敏度2的情况下，光谱灵敏度4相对于光谱灵敏度2之比为1.5以上，要件5：当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为436
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量4，将所述最低曝光量4的倒数设为光谱灵敏度4，当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为500
±
2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量3，将所述最低曝光量3的倒数设为光谱灵敏度3时，光谱灵敏度4相对于光谱灵敏度3之比为10以上。2.根据权利要求1所述的感光性组合物，其还满足以下的要件6，要件6：当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为436
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2nm且半峰宽度为10
±
2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量4，将所述最低曝光量4的倒数设为光谱灵敏度4，当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为405
±
2nm且半峰宽度为10
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2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量1，将所述最低曝光量1的倒数设为光谱灵敏度1时，光谱灵敏度4相对于光谱灵敏度1之比大于1.0。3.一种感光性组合物，其包含：碱溶性树脂、聚合性化合物、及光聚合引发剂，所述感光性组合物满足以下的要件1及2，要件1：当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为405
±
2nm且半峰宽度为10
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2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量1，将所述最低曝光量1的倒数设为光谱灵敏度1，当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为365
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2nm且半峰宽度为10
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2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量2，将所述最低曝光量2的倒数设为光谱灵敏度2时，光谱灵敏度1相对于光谱灵敏度2之比为1.5以上，
要件2：当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为405
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2nm且半峰宽度为10
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2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而求出曝光部残留的最低曝光量1，将所述最低曝光量1的倒数设为光谱灵敏度1，当对所述感光性组合物的层实施用具有中心波长为500
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2nm且半峰宽度为10
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2nm的波长特性的光进行曝光并使用1.0质量％的碳酸钾水溶液进行显影的处理时，改变曝光量而...

【专利技术属性】
技术研发人员：两角一真，片山晃男，有富隆志，佐藤守正，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：