【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】固化物的制造方法、层叠体的制造方法及半导体器件的制造方法
[0001]本专利技术涉及一种固化物的制造方法、层叠体的制造方法及半导体器件的制造方法。
技术介绍
[0002]聚酰亚胺等树脂的耐热性及绝缘性等优异,因此适用于各种用途。作为上述用途并无特别限定,但是若举出实际安装用半导体器件为例,则可以举出将包含这些树脂的图案用作绝缘膜或密封材料的材料或保护膜的情况等。并且,包含这些树脂的图案也可以用作挠性基板的基底膜或覆盖膜等。
[0003]例如,在上述用途中,聚酰亚胺等树脂以包含聚酰亚胺前体的感光性树脂组合物的形态使用。
[0004]将这种感光性树脂组合物例如利用涂布等而适用于基材上,然后根据需要进行曝光、显影、加热等,从而能够将聚酰亚胺前体被酰亚胺化的固化物形成于基材上。
[0005]感光性树脂组合物能够利用公知的涂布方法等而适用,能够利用显影而形成微细的图案、复杂的形状的图案等,因此可以说固化物的设计自由度高等制造上的适应性优异。除了聚酰亚胺等所具有的高性能以外,从这种制造上的适应性优异的观点考虑,越 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种固化物的制造方法,其包括:膜形成工序,将包含具有下述式(2)所表示的重复单元的聚酰亚胺前体及光聚合引发剂的感光性树脂组合物适用于基材上而形成膜;曝光工序,选择性地曝光所述膜;显影工序,利用显影液对所述曝光后的膜进行显影而形成图案;处理工序,使包含选自碱及产碱剂中的至少1种化合物的含碱处理液与所述图案接触;以及加热工序,对所述处理工序后的图案进行加热,水的含量相对于所述含碱处理液的总质量为50质量%以下,式(2)中,A1及A2分别独立地表示氧原子或
‑
NH
‑
,R
113
及R
114
分别独立地表示1价的有机基,R
115
表示4价的有机基,R
111
表示2价的有机基。2.根据权利要求1所述的固化物的制造方法,其中,所述含碱处理液为淋洗液,并且所述处理工序为用所述淋洗液清洗所述图案的淋洗工序。3.根据权利要求1或2所述的固化物的制造方法,其中,所述含碱处理液包含有机碱作为所述碱。4.根据权利要求1至3中任一项所述的固化物的制造方法,其中,所述含碱处理液包含仲胺或叔胺作为所述碱。5.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:岛田和人,佐藤直树,野崎敦靖,青岛俊荣,二桥亘,崎田享平,高岛美沙树,
申请(专利权)人:富士胶片株式会社,
类型:发明
国别省市:
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