清洗模块、清洗盘以及清洗基站制造技术

本实用新型专利技术公开了一种清洗模块、清洗盘以及清洗基站，清洗模块适用于清洗盘，清洗模块的表面凸出形成有多个平行排布的清洗筋，清洗模块的前部形成有槽口。清洗盘包括清洗槽以及上述的清洗模块，清洗槽具有一槽底，清洗模块可拆卸设置于槽底上，且清洗模块的槽口与槽底围合形成第一排水口。清洗基站包括基站本体以及上述的清洗盘，基站本体的底部设有一开口腔，清洗盘可拆卸安装于开口腔内。本实用新型专利技术的清洗模块和清洗盘，通过优化清洗盘内清洗模块的结构，使得清洗盘具有一定自清洁能力，在其工作后不易变脏，不易藏污纳垢，无需经常手动清洗，提高用户体验。提高用户体验。提高用户体验。

【技术实现步骤摘要】
清洗模块、清洗盘以及清洗基站


[0001]本技术是关于清洁设备
，特别是关于一种清洗模块，清洗盘以及清洗基站。

技术介绍

[0002]扫拖类机器人，通常需要对扫地机上的抹布进行清洁。基站是用于对扫地机上的抹布进行清洁或为扫地机提供充电服务的设备。
[0003]通常，基站包括基站本体和清洗盘，清洗盘安装在基站本体上。清洗盘可以对抹布进行清理。但是，现有技术中的清洗盘常为镂空设计，其上形成有若干散射状的肋以及清洗凸点。在清洗盘对扫地机上的抹布进行清洗时，脏污除了卡在清洗凸点周围，还会卡在肋上，水流冲洗不到，时间长了，则会积累脏污，需用户经常手动清洗。
[0004]公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种清洗模块，其适用于清洗盘后具有一定的自清洁能力，不易藏污纳垢，提高用户体验。
[0006]为实现上述目的，本技术提供了一种清洗模块，适用于清洗盘，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗模块(20)，适用于清洗盘(10)，其特征在于，所述清洗模块(20)的表面凸出形成有多个平行排布的清洗筋(21)；所述清洗筋(21)均匀分布在所述清洗模块(20)的两个侧端。2.如权利要求1所述的清洗模块(20)，其特征在于，所述清洗筋(21)占所述清洗模块表面的1/4
‑
1/2。3.如权利要求1所述的清洗模块(20)，其特征在于，所述清洗模块(20)的前部形成有槽口(22)，所述槽口(22)处设置有过滤结构(23)。4.如权利要求3所述的清洗模块(20)，其特征在于，所述槽口(22)的形状为圆弧形或V形。5.如权利要求3所述的清洗模块(20)，其特征在于，所述过滤结构(23)包括自所述槽口(22)向下折弯延伸的筛柱。6.一种清洗盘(10)，其特征在于，包括如权利要求3～5任一所述的清洗模块(20)。7.如权利要求6所述的清洗盘(10)，其特征在于，还包括清洗槽(11)，所述清洗槽(11)具有一槽底(111)，所述清洗模块(20)可拆卸设置于所述槽底(111)上，且所述清洗模块(20)的槽口(22)与所述槽底(111)围合形成第一排水口(12)。8.如权利要求7所述的清洗盘(10)，其特征在于，所述槽底(111)呈倾斜设置，所述清洗筋(21)的延伸方向与所述槽底(111)的倾斜方向一致，且所述第一排水口(12)位于所述槽底(11...

【专利技术属性】
技术研发人员：李达，刘璎皞，许波建，
申请(专利权)人：追觅创新科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：